有机电子器件的制造方法技术

技术编号:24366900 阅读:79 留言:0更新日期:2020-06-03 05:00
本发明专利技术的一个实施方式的有机电子器件的制造方法是具有层叠体的有机电子器件的制造方法,上述层叠体是具有第1电极层、一个或多个功能层和第2电极层的层叠体,在上述第1电极层上依次形成有上述一个或多个功能层及上述第2电极层,该制造方法具备:第1层形成工序,形成层叠体中包含的多个层当中的第1层(24);以及第2层形成工序,使用包含第2层的材料和沸点为160℃以上的溶剂的涂布液在第1层上形成与第1层接触的第2层,第1层形成工序中,以比期望的厚度薄的厚度(t)形成第1层,以使得通过与第2层的形成相伴随的第1层的厚度增加而使第1层达到期望的厚度(T)。

Manufacturing methods of organic electronic devices

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】有机电子器件的制造方法
本专利技术涉及一种有机电子器件的制造方法。
技术介绍
作为本
的技术,有专利文献1中记载的技术。专利文献1中公开过作为有机电子器件的一例的有机EL器件的制造方法。具体而言,在专利文献1中公开过制造如下的有机EL器件的方法,即,相邻的2个作为功能层的空穴注入层及发光层由阳极及阴极夹持。专利文献1中记载的技术中,在有机EL器件的制造中,在形成空穴注入层后利用喷墨印刷法在空穴注入层上形成发光层。现有技术文献专利文献专利文献1:日本特开2000-323276号公报
技术实现思路
专利技术所要解决的问题在制造有机电子器件时,以使有机电子器件能够实现期望的性能的方式设计各层的厚度,以设计值的厚度形成各层。然而,在有机电子器件中,若使用包含沸点为160℃以上的溶剂的涂布液形成被层叠的2层当中的后形成的层,则无法实现期望的性能。因而,本专利技术的目的在于,提供能够实现期望的性能的有机电子器件的制造方法。用于解决问题的方法本申请专利技术人等为了解决上述问题进行了深入研究。其结果是,本申请专利技术人等发现,若使用包含沸点为160℃以上的溶剂的涂布液形成被层叠的2层当中的后形成的层(以下称作“第2层”),则溶剂向先形成的层(以下称作“第1层”)渗透,第1层的厚度偏离设计值,从而完成了本申请专利技术。本专利技术的一个方面的有机电子器件的制造方法是具备层叠体的有机电子器件的制造方法,上述层叠体具有第1电极层、一个或多个功能层和第2电极层,且在上述第1电极层上依次形成有上述一个或多个功能层及上述第2电极层,该制造方法具备:第1层形成工序,形成上述层叠体中包含的多个层当中的第1层;以及第2层形成工序,使用包含上述第2层的材料和沸点为160℃以上的溶剂的涂布液在上述第1层上形成与上述第1层接触的第2层,上述第1层形成工序中,以比期望的厚度薄的厚度形成上述第1层,以使得通过与上述第2层的形成相伴随的上述第1层的厚度增加而使上述第1层达到上述期望的厚度。包含沸点为160℃以上的溶剂的涂布液有干燥时间变长的趋势。其结果是,溶剂滞留于第1层上的时间也变长,容易产生第1层的厚度变化。但是,上述制造方法所具有的第1层形成工序中,以比上述期望的厚度薄的厚度形成上述第1层,以使得通过与上述第2层的形成相伴随的上述第1层的厚度增加而使上述第1层达到期望的厚度。由此,即使实施使用包含沸点为160℃以上的溶剂的上述涂布液形成第2层的第2层形成工序,所制造出的有机电子器件的第1层也能够具有期望的厚度。因而,上述制造方法可以制造能够实现期望的性能的有机电子器件。上述一个或多个功能层当中的至少一个功能层可以为上述第1层。上述功能层的厚度的变化容易对有机电子器件的性能造成影响。因此,在上述一个或多个功能层当中的至少一个功能层为上述第1层的情况下,具备上述第1层形成工序及第2层形成工序的有机电子器件的制造方法是有效的。上述第2层形成工序中,可以使用喷墨印刷法形成上述第2层。喷墨印刷法中,为了防止喷墨喷嘴的堵塞,认为优选使用包含沸点为160℃以上的溶剂的涂布液。因此,在利用喷墨印刷法形成上述第2层的情况下,上述制造方法是有效的。一个实施方式的有机电子器件的制造方法还具有将上述第1层形成工序中形成的上述第1层的厚度最佳化的准备工序,上述第1层形成工序中,可以以在上述准备工序中进行最佳化而得的上述第1层的厚度来形成上述第1层。该情况下,第1层形成工序中,由于以在准备工序中经过最佳化的第1层的厚度来形成第1层,因此易于制造具备期望的厚度的第1层的有机电子器件。上述准备工序可以具有:第1试制层形成工序,以与上述第1层相同的材料形成第1试制层;第2试制层形成工序,在上述第1试制层上,利用上述涂布液形成第2试制层;以及判定工序,判定经过上述第2试制层形成工序后的上述第1试制层是否为上述期望的厚度,上述准备工序可以在变更上述第1试制层形成工序中形成的上述第1试制层的厚度的同时,反复进行上述第1试制层形成工序及上述第2试制层形成工序,直至上述判定工序的结果中上述第1试制层达到上述期望的厚度为止。或者,上述准备工序可以具有:第1试制层形成工序,以与上述第1层相同的材料形成第1试制层;第2试制层形成工序,在上述第1试制层上,利用上述涂布液形成第2试制层;以及算出工序,基于上述第1试制层形成工序中形成的上述第1试制层的厚度、和上述第2试制层形成工序后的上述第1试制层的厚度算出上述第1试制层的厚度变化率,基于该厚度变化率,算出对于上述期望的厚度而言的上述第1层形成工序中应形成的上述第1层的厚度。在如上所述准备工序具有第1试制层形成工序、第2试制层形成工序、以及判定工序或算出工序的情况下,可以通过实验取得第1层的最佳厚度。因此,易于制造具备期望的厚度的第1层的有机电子器件。上述期望的厚度可以是使用包含上述第2层的材料并且溶剂的沸点低于160℃的涂布液形成上述第2层时的上述第1层的设计值。上述溶剂的沸点低于160℃的涂布液在涂布后容易立即干燥,不易产生第1层的厚度随着第2层的形成而变化的现象。因此,能够将使用上述溶剂的沸点低于160℃的涂布液形成上述第2层时的上述第1层的设计值作为期望的厚度使用。上述多个功能层的一层可以为发光层,上述期望的厚度可以为使用包含上述第2层的材料并且溶剂的沸点低于160℃的涂布液形成上述第2层时的能够获得期望的发光效率的厚度。该情况下,能够以实现期望的发光效率的方式制造作为有机电子器件的一例的有机EL器件。一个实施方式的有机电子器件的制造方法可以具有:器件功能部形成工序,通过在形成于基板上的上述第1电极层上依次形成上述一个或多个功能层而在上述第1电极层上形成器件功能部;以及第2电极层形成工序,在上述器件功能部上形成上述第2电极层,上述器件功能部形成工序可以具有上述第1层形成工序及上述第2层形成工序。一个实施方式的有机电子器件的制造方法可以具备:产品制造工序,该产品制造工序具有上述第1层形成工序及上述第2层形成工序,制造作为产品的有机电子器件;试验品制造工序,在上述产品制造工序前,除了改变与上述第1层形成工序中形成的第1层对应的对应层的厚度这一点以外,在与上述产品制造工序相同的条件下制造多个试验用有机电子器件;以及评价工序,在上述产品制造工序前,对上述多个试验用有机电子器件进行评价,上述一个或多个功能层的一层可以为发光层,上述评价工序中,可以评价上述多个试验用有机电子器件的发光效率,上述产品制造工序中,可以以试验用有机电子器件的制造中使用的上述对应层的厚度来实施上述第1层形成工序,上述试验用有机电子器件是在上述评价工序中在上述多个试验用有机电子器件当中得到期望的发光效率的试验用有机电子器件。该情况下,能够以实现期望的发光效率的方式制造作为有机电子器件的一例的有机EL器件。专利技术效果根据本专利技术,可以提供能够实现期望的性能的有机电子器件的制造方法。附图说明图1是用于说明利用一个实施方式的有机电子器件的制本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种有机电子器件的制造方法,是具备层叠体的有机电子器件的制造方法,所述层叠体具有第1电极层、一个或多个功能层和第2电极层,且在所述第1电极层上依次形成有所述一个或多个功能层及所述第2电极层,/n所述制造方法具备:/n第1层形成工序,形成所述层叠体中包含的多个层当中的第1层;以及/n第2层形成工序,使用包含所述第2层的材料和沸点为160℃以上的溶剂的涂布液在所述第1层上形成与所述第1层接触的第2层,/n所述第1层形成工序中,以比期望的厚度薄的厚度形成所述第1层,以使得通过与所述第2层的形成相伴随的所述第1层的厚度增加而使所述第1层达到所述期望的厚度。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20171019 JP 2017-2026751.一种有机电子器件的制造方法,是具备层叠体的有机电子器件的制造方法,所述层叠体具有第1电极层、一个或多个功能层和第2电极层,且在所述第1电极层上依次形成有所述一个或多个功能层及所述第2电极层,
所述制造方法具备:
第1层形成工序,形成所述层叠体中包含的多个层当中的第1层;以及
第2层形成工序,使用包含所述第2层的材料和沸点为160℃以上的溶剂的涂布液在所述第1层上形成与所述第1层接触的第2层,
所述第1层形成工序中,以比期望的厚度薄的厚度形成所述第1层,以使得通过与所述第2层的形成相伴随的所述第1层的厚度增加而使所述第1层达到所述期望的厚度。


2.根据权利要求1所述的有机电子器件的制造方法,其中,
所述一个或多个功能层当中的至少一个功能层为所述第1层。


3.根据权利要求1或2所述的有机电子器件的制造方法,其中,
所述第2层形成工序中,使用喷墨印刷法形成所述第2层。


4.根据权利要求1~3中任一项所述的有机电子器件的制造方法,其还具有将所述第1层形成工序中形成的所述第1层的厚度最佳化的准备工序,
所述第1层形成工序中,以在所述准备工序中进行最佳化而得的所述第1层的厚度形成所述第1层。


5.根据权利要求4所述的有机电子器件的制造方法,其中,
所述准备工序具有:
第1试制层形成工序,以与所述第1层相同的材料形成第1试制层;
第2试制层形成工序,在所述第1试制层上,利用所述涂布液形成第2试制层;以及
判定工序,判定经过所述第2试制层形成工序后的所述第1试制层是否为所述期望的厚度,
在变更所述第1试制层形成工序中形成的所述第1试制层的厚度的同时,反复进行所述第1试制层形成工序及所述第2试制层形成工序,直至所述判定工序的结果中所述第1试制层达到所述期望的厚度为止。


6.根据权利要求4所述的有机电子器件的制造方法,其中,
所述准备工序具有:
第1试制层形成工序,以与所述第1层相同的材料形成第1试制层;
第2...

【专利技术属性】
技术研发人员:合田匡志
申请(专利权)人:住友化学株式会社
类型:发明
国别省市:日本;JP

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