高效纳米真空蒸发源制造技术

本发明专利技术公开了一种高效纳米真空蒸发源，包括顶端敞口的热屏蔽组件，所述热屏蔽组件的底部与真空法兰连接，其内部设有用于装载源材料的坩埚组件。所述坩埚组件包括U型坩埚，所述U型坩埚的顶部设有与之一体成型的盖板。所述盖板的中部设有蒸镀开口，所述盖板的顶部设有能相对其转动的顶盖。所述顶盖的上端与固接在所述热屏蔽组件上的驱动件连接，其中部设有与所述蒸镀开口匹配的通孔。所述通孔内设有用于清洁所述蒸镀开口的清洁件。本发明专利技术的纳米真空蒸发源在不影响坩埚容量的前提下缩小了散射面，降低了源材料的浪费率，而且有效避免了开口的堵塞现象，保证了源材料的蒸镀效率。

【技术实现步骤摘要】
高效纳米真空蒸发源
本专利技术涉及真空镀膜
，尤其涉及一种高效纳米真空蒸发源。
技术介绍
纳米真空蒸发源是纳米真空镀膜设备的核心部件，可以实现对源材料的纳米级高精度控制。目前市场上常用到的纳米真空蒸发源的坩埚(即用来装载源材料的容器)为U形状的，但U形状的开口是完全敞开的，口径较大，所以散射面较大，在蒸镀时有相当一部分的纳米材料无法被基板收集，而是沉积在基板以外的其他位置，造成材料的较高浪费率。如果将坩埚做成锥形结构，虽能通过缩小口径的方式来缩小散射面，但坩埚的容量会因此减少，容易造成单次蒸镀时源材料装载量不够用的尴尬局面，而且口径缩小容易造成开口堵塞，导致源材料蒸镀速率下降，影响蒸镀效率。
技术实现思路
为克服上述缺点，本专利技术的目的在于提供一种高效纳米真空蒸发源，在不影响坩埚容量的前提下缩小了散射面，降低了源材料的浪费率，而且有效避免了开口的堵塞现象，保证了源材料的蒸镀效率。为了达到以上目的，本专利技术采用的技术方案是：一种高效纳米真空蒸发源，包括顶端敞口的热屏蔽组件，所述热屏蔽组件的底部与真空法兰连接，其内部设有用于装载源材料的坩埚组件。所述坩埚组件包括U型坩埚，所述U型坩埚的顶部设有与之一体成型的盖板。所述盖板的中部设有蒸镀开口，所述盖板的顶部设有能转动的顶盖。所述顶盖的上端与固接在所述热屏蔽组件上的驱动件连接，其中部设有与所述蒸镀开口匹配的通孔。所述通孔内设有用于清洁所述蒸镀开口的清洁件。本专利技术的有益效果在于：通过在U型坩埚顶部增设带有蒸镀开口的盖板，缩小了散射面积，减少了源材料的浪费；通过驱动件的设置实现了顶盖的转动，进而实现了清洁件对蒸镀开口的转动清洁，有效避免了蒸镀开口的堵塞现象，保证源材料的蒸镀效率。进一步来说，所述清洁件包括多个呈圆周阵列分布在所述通孔内的刮板。所述刮板固接在所述通孔内，其底部设有能延伸至所述蒸镀开口内的清洁部。所述清洁部的一侧抵靠在所述蒸镀开口的内壁上，其底端与所述蒸镀开口的底端齐平。当顶盖转动时，刮板随之转动，并带动清洁部沿着蒸镀开口的内壁转动，进而将堵塞在蒸镀开口内壁上的源材料刮除。进一步来说，所述盖板上环绕所述蒸镀开口还设置有多个呈圆周阵列分布的一号调节开口，所述顶盖上设有与所述一号调节开口一一对应且错位设置的二号调节开口。当所述顶盖转动时，所述二号调节开口能转动至与对应的所述一号调节开口连通。初始状态时，二号调节开口与一号调节开口错位设置，此时顶盖能盖合住所有的一号调节开口；当蒸镀开口蒸镀速率下降时，转动顶盖，清洁件随之转动对蒸镀开口进行清洁；当蒸镀开口清洁后，蒸镀速率仍达不到要求时，继续转动顶盖，使二号调节开口能转动至与一号调节开口连通，此时，U型坩埚内的蒸镀气体能沿着一号调节开口、二号调节开口的连通处逸出，以此提高源材料的蒸镀量；通过调节一号调节开口与二号调节开口的连通面积以达到所需的蒸镀速率。进一步来说，所述刮板的数量至少为所述二号调节开口数量的两倍，以保证在二号调节开口转动至与一号调节开口连通的过程中，多个刮板的清洁部能完成蒸镀开口内壁至少一圈的清洁。进一步来说，所述顶盖的外周边缘处还设有向下延伸的限位块，所述盖板上设有用于容置所述限位块的环形嵌槽，所述限位块能沿着所述环形嵌槽转动。通过限位块与环形嵌槽的设置能对顶盖的转动进行限位。进一步来说，所述驱动件包括驱动杆，所述驱动杆的一端与所述顶盖固接，另一端与驱动电机的输出轴连接。所述驱动电机通过安装架固接在所述热屏蔽组件上。进一步来说，所述安装架上还设有用于限制所述驱动杆转动范围的限位件。进一步来说，所述盖板与顶盖之间还设有固接在所述盖板上的二号加热组件，所述二号加热组件通过导线与固接在所述真空法兰上的真空电连接器连接。通过二号加热组件的设置能够对盖板与顶盖进行加热，避免顶盖与盖板温度过低导致蒸镀气体遇冷凝结，造成蒸镀开口、一号调节开口、二号调节开口的堵塞。附图说明图1为本专利技术实施例的结构示意图；图2为图1中A部位的局部放大图；图3为本专利技术实施例的盖板的结构示意图；图4为本专利技术实施例的顶盖的结构示意图；图5为本专利技术实施例的顶盖初始状态时一号调节开口、二号调节开口位置的结构示意图。图中：1-热屏蔽组件；10-真空电连接器；2-真空法兰；3-U型坩埚；4-一号加热组件；5-盖板；51-蒸镀开口；52-一号调节开口；53-环形嵌槽；6-顶盖；61-二号调节开口；62-限位块；7-刮板；81-驱动杆；82-驱动电机；83-安装架；831-凹槽；9-二号加热组件。具体实施方式下面结合附图对本专利技术的较佳实施例进行详细阐述，以使本专利技术的优点和特征能更易于被本领域技术人员理解，从而对本专利技术的保护范围做出更为清楚明确的界定。实施例参见附图1-5所示，本专利技术的一种高效纳米真空蒸发源，包括顶端敞口的热屏蔽组件1，所述热屏蔽组件1的底部与真空法兰2连接，其内部设有用于装载源材料的坩埚组件。所述坩埚组件包括U型坩埚3，所述U型坩埚3的外壁上绕设有一号加热组件4，所述U型坩埚3的顶部设有与之一体成型的盖板5。所述盖板5的中部设有蒸镀开口51，所述盖板5的顶部设有能转动的顶盖6。所述顶盖6的上端与固接在所述热屏蔽组件1上的驱动件连接，其中部设有与所述蒸镀开口51匹配的通孔。所述通孔内设有用于清洁所述蒸镀开口51的清洁件。通过在U型坩埚3顶部增设带有蒸镀开口51的盖板5，缩小了散射面积，减少了源材料的浪费；通过驱动件的设置实现了顶盖6的转动，进而实现了清洁件对蒸镀开口51的转动清洁，有效避免了蒸镀开口51的堵塞现象，保证源材料的蒸镀效率。所述清洁件包括多个呈圆周阵列分布在所述通孔内的刮板7。所述刮板固接在所述通孔内，其底部设有能延伸至所述蒸镀开口51内的清洁部。所述清洁部的一侧抵靠在所述蒸镀开口51的内壁上，其底端与所述蒸镀开口51的底端齐平。当顶盖6转动时，刮板7随之转动，并带动清洁部沿着蒸镀开口51的内壁转动，进而将堵塞在蒸镀开口51内壁上的源材料刮除，以保证蒸镀开口51的气体流量。所述盖板5上环绕所述蒸镀开口51还设置有多个呈圆周阵列分布的一号调节开口52，所述顶盖6上设有与所述一号调节开口62一一对应且错位设置的二号调节开口61。初始状态时，二号调节开口61与一号调节开口52错位设置，即二号调节开口61位于两个一号调节开口52之间，此时顶盖6能盖合住所有的一号调节开口52。当蒸镀开口51蒸镀速率下降时，转动顶盖6，清洁件随之转动对蒸镀开口51进行清洁；当蒸镀开口51清洁后，蒸镀速率仍达不到要求时，继续转动顶盖6，使二号调节开口61能转动至与一号调节开口52连通，此时，U型坩埚3内的蒸镀气体能沿着一号调节开口52、二号调节开口61的连通处逸出，以配合蒸镀开口51加大源材料的蒸镀量；通过顶盖6的转动能实现一号调节开口52与二号调节开口61的连通面积的调节。优选的，所述刮板7的数量至少为所述二号调节开口61数量的两倍。由于刮板7、一号调节开口52、二本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种高效纳米真空蒸发源，包括顶端敞口的热屏蔽组件，所述热屏蔽组件的底部与真空法兰连接，其内部设有用于装载源材料的坩埚组件；其特征在于：所述坩埚组件包括U型坩埚，所述U型坩埚的顶部设有与之一体成型的盖板；所述盖板的中部设有蒸镀开口，所述盖板的顶部设有能转动的顶盖；所述顶盖的上端与固接在所述热屏蔽组件上的驱动件连接，其中部设有与所述蒸镀开口匹配的通孔；所述通孔内设有用于清洁所述蒸镀开口的清洁件。/n

【技术特征摘要】
1.一种高效纳米真空蒸发源，包括顶端敞口的热屏蔽组件，所述热屏蔽组件的底部与真空法兰连接，其内部设有用于装载源材料的坩埚组件；其特征在于：所述坩埚组件包括U型坩埚，所述U型坩埚的顶部设有与之一体成型的盖板；所述盖板的中部设有蒸镀开口，所述盖板的顶部设有能转动的顶盖；所述顶盖的上端与固接在所述热屏蔽组件上的驱动件连接，其中部设有与所述蒸镀开口匹配的通孔；所述通孔内设有用于清洁所述蒸镀开口的清洁件。


2.根据权利要求1所述的蒸发源，其特征在于：所述清洁件包括多个呈圆周阵列分布在所述通孔内的刮板；所述刮板固接在所述通孔内，其底部设有能延伸至所述蒸镀开口内的清洁部；所述清洁部的一侧抵靠在所述蒸镀开口的内壁上，其底端与所述蒸镀开口的底端齐平。


3.根据权利要求2所述的蒸发源，其特征在于：所述盖板上环绕所述蒸镀开口还设置有多个呈圆周阵列分布的一号调节开口，所述顶盖上设有与所述一号调节开口一一对应且错位设置的二号调节开口；当所述顶盖转动时...

【专利技术属性】
技术研发人员：王宁，
申请(专利权)人：苏州泓沵达仪器科技有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32