一种化学机械抛光机制造技术

本发明专利技术公开了一种化学机械抛光机，其结构包括机箱、工作台、工件放置座、密封抛光结构、机座、驱动箱，工作台水平安装于机箱上端，工件放置座嵌入安装于工作台内侧，密封抛光结构位于工件放置座正上方，密封抛光结构竖直安装于机座下端，驱动箱嵌入安装于机座内侧，密封抛光结构包括密封结构、连接座、卡板、旋转轴、活动结构，密封结构水平安装于连接座下端，旋转轴竖直安装于卡板上端，活动结构活动连接于连接座上端，本发明专利技术在连接座下端设置了密封结构，防止粉尘飘出，进而保护了工作台内侧，使工件放置座的切换更加顺畅；在连杆结构下端设置了密封板，防止粉尘飘出，并且更好的对粉尘进行收集，减少了粉尘的附着。

A chemical mechanical polishing machine

【技术实现步骤摘要】
一种化学机械抛光机
本专利技术属于化学机械领域，具体涉及到一种化学机械抛光机。
技术介绍
在大规模的集成电路生产过程中，为了电路进行更好的导通，需要晶圆较高的平坦度，故而晶圆在完成切割后通常需要对其表面进行抛光，而对晶圆进行平坦化的技术为化学机械抛光，主要是利用化学与机械的手段进行切换抛光，以此来获得既平坦、又无划痕的晶圆，更好的适应集成电路的制作，但是现有技术存在以下不足：由于机械抛光将与晶圆接触对工件表面进行抛光，将使工件表面的杂质被除去而产生粉尘，并且粉尘将随着设备的运转而带出，掉落在工作台上，随着时间的积累，粉尘将附着在工作台内侧，而影响设备的切换抛光，造成工作的不流畅。以此本申请提出一种化学机械抛光机，对上述缺陷进行改进。
技术实现思路
针对现有技术存在的不足，本专利技术目的是提供一种化学机械抛光机，以解决现有技术由于机械抛光将与晶圆接触对工件表面进行抛光，将使工件表面的杂质被除去而产生粉尘，并且粉尘将随着设备的运转而带出，掉落在工作台上，随着时间的积累，粉尘将附着在工作台内侧，而影响设备的切换抛光，造成工作的不流畅的问题。为了实现上述目的，本专利技术是通过如下的技术方案来实现：一种化学机械抛光机，其结构包括机箱、工作台、工件放置座、密封抛光结构、机座、驱动箱，所述工作台水平安装于机箱上端并且通过螺栓固定，所述工件放置座嵌入安装于工作台内侧并且采用机械连接，所述密封抛光结构位于工件放置座正上方，所述密封抛光结构竖直安装于机座下端并且与驱动箱相连接，所述驱动箱嵌入安装于机座内侧；所述密封抛光结构包括密封结构、连接座、卡板、旋转轴、活动结构，所述密封结构水平安装于连接座下端并且位于同一轴线上，所述旋转轴竖直安装于卡板上端并且相焊接，所述活动结构活动连接于连接座上端。对本专利技术进一步地改进，所述密封结构包括限位板、抛光板、侧围挡、密封腔、限制结构，所述限位板固定安装于活动结构下端，所述抛光板水平安装于限位板下端并且采用机械连接，所述侧围挡安装于连接座下端并且位于同一轴线上，所述密封腔设于侧围挡内侧并且为一体化结构，所述限制结构嵌入安装于侧围挡内侧。对本专利技术进一步地改进，所述限制结构包括内槽、活动块、连杆结构、密封板，所述内槽设于侧围挡内侧并且为一体化结构，所述连杆结构嵌入安装于内槽上端，所述活动块设于内槽外侧并且与连杆结构铰链连接，所述密封板位于活动块下端并且与连杆结构铰链连接。对本专利技术进一步地改进，所述连杆结构包括支架、连杆、弹簧，所述连杆安装于支架外侧并且采用铰链连接，所述弹簧设于内槽并且左端抵在连杆内侧上方，所述活动块与密封板分别安装于连杆上下两端。对本专利技术进一步地改进，所述支架与连杆之间的活动角度为0-30度，支架与连杆相互垂直时为初始状态，所述连杆两端分别与活动块、密封板铰链连接。对本专利技术进一步地改进，所述密封板包括板体、密封圈、通道、收集结构，所述密封圈安装于板体内侧并且相粘接，所述通道倾斜贯穿于板体内侧并且下端与收集结构上端相连通，所述收集结构嵌入安装于内槽下端。对本专利技术进一步地改进，所述收集结构包括收集槽、隔板、支撑块、连通口，所述隔板水平安装于收集槽上端，所述支撑块竖直安装于隔板上端左侧并且相焊接，所述连通口贯穿于支撑块内侧并且与收集槽相连通。对本专利技术进一步地改进，所述活动结构包括活动轴、复位弹簧、轴套，所述复位弹簧套设于活动轴外侧并且上下两端分别抵在连接座与卡板之间，所述轴套包裹于复位弹簧外侧并且上下两端分别连接在连接座与卡板内侧。根据上述提出的技术方案，本专利技术一种化学机械抛光机，具有如下有益效果：本专利技术在连接座下端设置了密封结构，活动块接触工件放置座内壁，并随着活动块的坡度向内挤压活动块，进而带动连杆结构推出密封板，此时密封板将与工件放置座内侧相接触而密封，在下压的同时连接座将在活动轴外侧滑动，并且压缩复位弹簧，从而更好的使侧围挡密封工件放置座，此时驱动箱即可开始进行工作而带动旋转轴下端的活动结构，活动轴将发生旋转，使限位板下端的抛光板对晶圆表面进行抛光，而灰尘将停留在密封腔内侧，防止粉尘飘出，进而保护了工作台内侧，使工件放置座的切换更加顺畅。本专利技术在连杆结构下端设置了密封板，在活动块向内压缩时，将推动连杆上端压缩弹簧并且向外侧移动，进而使连杆旋转而推出下端的密封板，而完成密封，此时板体内侧的密封圈将进行密封，而产生的粉尘将随着板体上端的通道进入，而通过支撑块内侧的连通口，并且送入到收集槽内侧进行收集，在完成抛光后，板体将复位，进而堵住连通口，而防止粉尘飘出，并且更好的对粉尘进行收集，减少了粉尘的附着。附图说明通过阅读参照以下附图对非限制性实施例所作的详细描述，本专利技术的其它特征、目的和优点将会变得更明显：图1为本专利技术一种化学机械抛光机的结构示意图；图2为本专利技术密封抛光结构的结构示意图；图3为本专利技术密封结构的正视结构示意图；图4为本专利技术密封结构的仰视结构示意图；图5为本专利技术限制结构的结构示意图；图6为本专利技术连杆结构与密封板的第一形态结构示意图；图7为本专利技术连杆结构与密封板的第二形态结构示意图；图8为本专利技术收集结构的结构示意图；图9为本专利技术活动结构的结构示意图。图中：机箱-1、工作台-2、工件放置座-3、密封抛光结构-4、机座-5、驱动箱-6、密封结构-41、连接座-42、卡板-43、旋转轴-44、活动结构-45、限位板-411、抛光板-412、侧围挡-413、密封腔-414、限制结构-415、内槽-15a、活动块-15b、连杆结构-15c、密封板-15d、支架-c1、连杆-c2、弹簧-c3、板体-d1、密封圈-d2、通道-d3、收集结构-d4、收集槽-d41、隔板-d42、支撑块-d43、连通口-d44、活动轴-451、复位弹簧-452、轴套-453。具体实施方式为使本专利技术实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合具体实施方式，进一步阐述本专利技术。实施例一：请参阅图1-图5、图9，本专利技术具体实施例如下：其结构包括机箱1、工作台2、工件放置座3、密封抛光结构4、机座5、驱动箱6，所述工作台2水平安装于机箱1上端并且通过螺栓固定，所述工件放置座3嵌入安装于工作台2内侧并且采用机械连接，所述密封抛光结构4位于工件放置座3正上方，所述密封抛光结构4竖直安装于机座5下端并且与驱动箱6相连接，所述驱动箱6嵌入安装于机座5内侧；所述密封抛光结构4包括密封结构41、连接座42、卡板43、旋转轴44、活动结构45，所述密封结构41水平安装于连接座42下端并且位于同一轴线上，所述旋转轴44竖直安装于卡板43上端并且相焊接，所述活动结构45活动连接于连接座42上端。参阅图3-图4，所述密封结构41包括限位板411、抛光板412、侧围挡413、密封腔414、限制结构415，所述限位板411固定安装于活动结构45下端，所述抛光板412水平安装于限位板411下端并且采用本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种化学机械抛光机，其结构包括机箱(1)、工作台(2)、工件放置座(3)、密封抛光结构(4)、机座(5)、驱动箱(6)，所述工作台(2)水平安装于机箱(1)上端，所述工件放置座(3)嵌入安装于工作台(2)内侧，所述密封抛光结构(4)位于工件放置座(3)正上方，所述密封抛光结构(4)竖直安装于机座(5)下端，所述驱动箱(6)嵌入安装于机座(5)内侧；其特征在于：/n所述密封抛光结构(4)包括密封结构(41)、连接座(42)、卡板(43)、旋转轴(44)、活动结构(45)，所述密封结构(41)水平安装于连接座(42)下端，所述旋转轴(44)竖直安装于卡板(43)上端，所述活动结构(45)活动连接于连接座(42)上端。/n

【技术特征摘要】
1.一种化学机械抛光机，其结构包括机箱(1)、工作台(2)、工件放置座(3)、密封抛光结构(4)、机座(5)、驱动箱(6)，所述工作台(2)水平安装于机箱(1)上端，所述工件放置座(3)嵌入安装于工作台(2)内侧，所述密封抛光结构(4)位于工件放置座(3)正上方，所述密封抛光结构(4)竖直安装于机座(5)下端，所述驱动箱(6)嵌入安装于机座(5)内侧；其特征在于：
所述密封抛光结构(4)包括密封结构(41)、连接座(42)、卡板(43)、旋转轴(44)、活动结构(45)，所述密封结构(41)水平安装于连接座(42)下端，所述旋转轴(44)竖直安装于卡板(43)上端，所述活动结构(45)活动连接于连接座(42)上端。


2.根据权利要求1所述的一种化学机械抛光机，其特征在于：所述密封结构(41)包括限位板(411)、抛光板(412)、侧围挡(413)、密封腔(414)、限制结构(415)，所述限位板(411)固定安装于活动结构(45)下端，所述抛光板(412)水平安装于限位板(411)下端，所述侧围挡(413)安装于连接座(42)下端，所述密封腔(414)设于侧围挡(413)内侧，所述限制结构(415)嵌入安装于侧围挡(413)内侧。


3.根据权利要求2所述的一种化学机械抛光机，其特征在于：所述限制结构(415)包括内槽(15a)、活动块(15b)、连杆结构(15c)、密封板(15d)，所述内槽(15a)设于侧围挡(413)内侧，所述连杆结构(15c)嵌入安装于内槽(15a)上端，所述活动块(15b)设于内槽(15a)外侧，所述密封板(15d)位于活动块(15b)下端。


4.根据...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘和平，
申请(专利权)人：刘和平，
类型：发明
国别省市：北京;11