用于制造气体分离膜的方法和由此制造的气体分离膜技术

本说明书提供了用于制备气体分离膜的方法和使用其制备的气体分离膜，所述方法包括通过在多孔基底上涂覆亲水性聚合物溶液来形成多孔层；以及通过在所述多孔层上涂覆包含由化学式1表示的聚合物的用于形成活性层的组合物来形成活性层，其中基于所述用于形成活性层的组合物，所述由化学式1表示的聚合物以1重量％至5重量％包含在内。

Method for manufacturing gas separation membrane and gas separation membrane thus manufactured

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于制造气体分离膜的方法和由此制造的气体分离膜
本申请要求于2017年11月7日向韩国知识产权局提交的韩国专利申请第10-2017-0147530号的优先权和权益，其全部内容通过引用并入本文。本说明书涉及用于制备气体分离膜的方法和使用其制备的气体分离膜。
技术介绍
气体分离膜由支撑层、活性层和保护层形成，并且是利用活性层的孔径和结构特性从气体混合物中选择性地分离气体的膜。因此，将气体渗透率和选择度用作表示膜的性能的重要指标，并且这样的性能在很大程度上受形成活性层的聚合物材料的影响。因此，需要开发用于增加气体分离膜的渗透率和选择度的方法。
技术实现思路
技术问题本说明书描述了用于制备气体分离膜的方法和使用其制备的气体分离膜。技术方案本说明书的一个实施方案提供了用于制备气体分离膜的方法，所述方法包括：通过在多孔基底上涂覆亲水性聚合物溶液来形成多孔层；以及通过在多孔层上涂覆包含由以下化学式1表示的聚合物的用于形成活性层的组合物来形成活性层，其中基于用于形成活性层的组合物，由化学式1表示的聚合本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于制备气体分离膜的方法，包括：/n通过在多孔基底上涂覆亲水性聚合物溶液来形成多孔层；以及/n通过在所述多孔层上涂覆包含由以下化学式1表示的聚合物的用于形成活性层的组合物来形成活性层，/n其中基于所述用于形成活性层的组合物，由化学式1表示的所述聚合物以1重量％至5重量％包含在内：/n[化学式1]/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20171107 KR 10-2017-01475301.一种用于制备气体分离膜的方法，包括：
通过在多孔基底上涂覆亲水性聚合物溶液来形成多孔层；以及
通过在所述多孔层上涂覆包含由以下化学式1表示的聚合物的用于形成活性层的组合物来形成活性层，
其中基于所述用于形成活性层的组合物，由化学式1表示的所述聚合物以1重量％至5重量％包含在内：
[化学式1]



在化学式1中，
n为重复单元的数目，并且为500至3,000的整数；以及
R1至R5彼此相同或不同，并且各自独立地为氢；烷基；或-(C＝O)R6，以及R6为烷基。


2.根据权利要求1所述的用于制备气体分离膜的方法，其中所述用于形成活性层的组合物还包含硝基甲烷。


3.根据权利要求1所述的用于制备气体分离膜的方法，其中所述用于形成活性层的组合物使用狭缝涂覆来涂覆。


4.根据权利要求1所述的用于制备气体分离膜的方法，其中R1和R3至R5为烷基，以及R2为-(C＝O)R6。


5.根据权利要求1所述的用于制备气体分离膜的方法，其中所述亲水性聚合物为聚砜、聚醚砜、聚碳酸酯、聚环氧乙烷、聚酰亚胺、聚醚酰亚胺、聚醚醚酮、聚丙...

【专利技术属性】
技术研发人员：李炳洙，方索拉，申程圭，宋根元，吉亨培，
申请(专利权)人：株式会社LG化学，
类型：发明
国别省市：韩国;KR