一种压膜装置及其压膜工艺制造方法及图纸

本发明专利技术提供了一种压膜装置及其压膜工艺，所述压膜装置包括基座，设置于基座上的工作平台，活动设置于基座上的翻转机构，所述翻转机构包括盖板以及用以驱动盖板下压的驱动机构。本发明专利技术通过在压膜装置中设置垂直方向的压膜驱动装置，并且重新设计压膜工序，使得翻转机构翻转过来之后，对准对齐之后再竖直向下进行压膜，从而有效的解决了副角、褶皱、产品和膜的三伤等缺陷，良品率大大提升，此外，本发明专利技术结构简单，工艺步骤简单，生产效率高。

A film pressing device and film pressing process

【技术实现步骤摘要】
一种压膜装置及其压膜工艺
本专利技术属于3C和半导体自动化贴膜领域，尤其涉及一种压膜装置及其压膜工艺。
技术介绍
现有的半导体以及3C
，经常需要在产品表面进行贴一层保护膜。现有技术中用到的贴膜装置有一种是翻转盖膜机构，这种翻转盖膜机构使用方便，再结合生产线上其他自动化上料，出料装置，可实现全自动化的放料、贴合、出料的工艺步骤。现有的翻转盖膜机构一般为一个基座，在基座上面会设置有一个工作平台，用于放置被贴合薄膜的产品，而翻转机构的贴合面上放置所需贴合的薄膜，然后在驱动机构的作用下，翻转机构翻转过来，跟工作平台面重合，将薄膜贴合于产品上面。但是，经这种翻转盖膜机构贴合后的薄膜会存在副角、褶皱、产品和膜的三伤(膜的挤压伤、划伤和碰伤)等缺陷。即翻转过来之后上下贴合面之间的对准精度以及整体贴合面之间的贴合力的平衡性无法得到保证。因此，针对上述现有技术的缺陷，需要设计一种新的装置结构。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种压膜装置及其压膜工艺，以解决现有技术中副角、褶皱、产品和膜的三伤等缺陷。...

【技术保护点】
1.一种压膜装置，包括基座(1)，设置于基座上的工作平台(2)，活动设置于基座上的翻转机构(11)，其特征在于：所述翻转机构包括盖板(111)以及用以驱动盖板下压的驱动机构(112)。/n

【技术特征摘要】
1.一种压膜装置，包括基座(1)，设置于基座上的工作平台(2)，活动设置于基座上的翻转机构(11)，其特征在于：所述翻转机构包括盖板(111)以及用以驱动盖板下压的驱动机构(112)。


2.根据权利要求1所述的压膜装置，其特征在于：所述驱动机构(112)包括一压膜气缸。


3.根据权利要求2所述的压膜装置，其特征在于：所述翻转机构(11)包括翻转基板(113)，所述盖板(111)固定设置于翻转基板(113)盖合面一侧，所述压膜气缸设置于翻转基板(113)的另一侧。


4.根据权利要求2所述的压膜装置，其特征在于：所述翻转机构(11)还包括设置于翻转基板(113)上的第一直线轴承(114)和第一导向柱(115)。


5.根据权利要求1所述的压膜装置，其特征在于：所述工作平台(2)上还设置有用以和第一直线轴承(114)以及第一导向柱(115)配合导向的第二直线轴承(21)以及第二导向柱(22)。


6.根据权利要求1所述的压膜装置，其特征在于：所述工作平台(2)和基座(1)之间设置有缓冲装置(23)。


7.根据权利要求1所述的压膜装置，其特征在于：所述工作平台(2)的台面以及盖板(111)的盖面上分布有若干吸气孔(24)。


8.根据权利要求1...

【专利技术属性】
技术研发人员：胡辉来，马波，闻刘勇，谷孝东，曹葵康，蔡雄飞，徐一华，
申请(专利权)人：苏州天准科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32