本实用新型专利技术涉及了一种自动清洁晶背的装置,包括载物台、清洁组件以及吸臂组件,所述载物台为开口朝上的壳状结构,所述载物台开口边沿设置有吸附部,所述吸附部用于将晶圆吸附在载物台开口处,所述清洁组件设置于载物台的开口内,所述吸臂组件设置于载物台的开口上方;所述清洁组件包括清洁部以及第一动力元件,所述清洁部的上端面为用于清洁晶背的材质,清洁部的下端面与第一动力元件的输出端旋转连接;所述吸臂组件包括吸臂以及第二动力元件,所述吸臂的一端与第二动力元件的输出端相连接,所述第二动力元件用于带动吸臂上下运动,吸臂的另一端为吸盘头,用于取放载物台上的晶圆。该装置对晶背的各部位达到相同的清洁效果,且清洁效率高。
A device for automatically cleaning crystal back
【技术实现步骤摘要】
一种自动清洁晶背的装置
本技术涉及晶圆清洁领域,尤其涉及一种自动清洁晶背的装置。
技术介绍
在晶圆的制程中,机台腔体对于晶圆的晶背洁净度有一定的要求,若晶背的洁净度不高,直接影响制程的进行,还会把粉尘颗粒等杂质带入到制程的腔体里面,造成机台腔体污染。现有清洁晶背的技术为:首先用吸笔将晶圆放置在晶圆载台上,晶圆的背部朝上,然后用沾有异丙醇的无尘布对晶圆背部(蓝宝石一面)进行擦拭。这种清洁方法存在的问题有:人为操作效率低,对晶背各处施力不均,无法保证每个位置都被清洁,且不同的操作人员所达到的清洁效果也不同,每片晶圆的清洁度都不尽相同。
技术实现思路
为此,需要提供一种自动清洁晶背的装置,来解决人为清洁晶背清洁度不一致且效率低的问题。为实现上述目的,专利技术人提供了一种自动清洁晶背的装置,其特征在于:包括载物台、清洁组件以及吸臂组件,所述载物台为开口朝上的壳状结构,所述载物台开口边沿设置有吸附部,所述吸附部用于将晶圆吸附在载物台开口处,所述清洁组件设置于载物台的开口内,所述吸臂组件设置于载物台的开口上方;所述清洁组件包括清洁部以及第一动力元件,所述清洁部的上端面为用于清洁晶背的材质,清洁部的下端面与第一动力元件的输出端旋转连接;所述吸臂组件包括吸臂以及第二动力元件,所述吸臂的一端与第二动力元件的输出端相连接,所述第二动力元件用于带动吸臂上下运动,吸臂的另一端为吸盘头,用于取放载物台上的晶圆。进一步地,所述吸附部为真空吸孔,所述吸附部的个数为两个以上。进一步地,所述清洁部的形状为叶片状。进一步地,所述清洁部为边缘设置有内凹部的片状结构。进一步地,所述清洁部由海绵制成。进一步地,所述载物台开口处设置有下沉结构,所述下沉结构的形状与待清洁晶圆的形状相适配。进一步地,所述第一动力元件为电机。进一步地,所述第二动力元件为气缸、液压缸、电缸或丝杆电机。进一步地,所述吸臂组件还包括第三动力元件,所述第三动力元件的输出端与吸臂远离晶圆的一端相连接,第三动力元件用于带动吸臂收缩运动。进一步地,还包括罩体,所述罩体为中空的壳状结构,所述罩体罩设于吸臂组件外,且罩体上开设有吸臂孔,所述吸臂贯穿于吸臂孔。区别于现有技术,上述技术方案具有如下优点:利用吸臂组件对晶圆进行移动,并通过载物台上的吸附部对晶圆进行固定,再由清洁组件对晶背进行清洁,使得对晶背的各部位达到相同的清洁效果,且清洁效率高。附图说明图1为本实施例一种自动清洁晶背的装置的清洁部为叶片状的结构示意图;图2为本实施例一种自动清洁晶背的装置的清洁部为海绵的结构示意图。附图标记说明:1、载物台;11、载物台的开口;12、真空吸孔;21、清洁部;22、第一动力元件;31、吸臂;4、罩体。具体实施方式为详细说明技术方案的
技术实现思路
、构造特征、所实现目的及效果,以下结合具体实施例并配合附图详予说明。请参阅图1以及图2,本技术提供一种自动清洁晶背的装置,包括载物台1、清洁组件以及吸臂组件,载物台用于放置并固定晶圆,清洁组件用于对晶圆晶背进行清洁,吸臂组件用于取放晶圆。在晶圆的清洁过程中,晶圆的晶背朝向清洁组件的方向进行清洁,吸臂组件设置在晶圆的上方,取放操作作用于晶圆的另一面,即与晶背的相反面。所述载物台为开口朝上的壳状结构,晶圆放置在载物台的开口11处,晶圆的形状与载物台的开口结构相适配,避免在对晶圆晶背进行清洁的过程中,晶圆在载物台的开口处移动,造成对晶圆的晶背清洁不完全。优选的实施例中,所述载物台开口处设置有下沉结构,下沉结构是指高度低于载物台的上表面的结构,所述下沉结构的形状与待清洁晶圆的形状相适配,当晶圆放置在载物台的下沉结构中,下沉结构能够限制晶圆,避免在对晶圆晶背的清洁过程中,晶圆在平行方向发生移动。所述载物台开口边沿设置有吸附部,所述吸附部用于将晶圆吸附在载物台开口处,在本实施例中,吸附部位真空吸孔,真空吸孔的吸力由抽气泵提供,抽气泵的抽气口通过管道与真空吸孔相连接。抽气泵在工作的时候,通过管道从真空吸孔处抽真空,晶圆放置在载物台开口后,被真空吸孔吸附。在清洁组件对晶圆晶背清洁的过程中,不论清洁组件是以旋转、平移或其他方式对晶背进行清洁,晶圆始终保持静止的状态。在某些优选的实施例中,所述真空吸孔的个数为两个以上,其有益效果在于,能多方位对晶背进行吸附固定。所述清洁组件设置于载物台的开口内,晶背朝向载物台的方向放置,朝向清洁组件,所述吸臂组件设置于载物台的开口上方,晶背背向吸臂组件放置。所述清洁组件包括清洁部21以及第一动力元件22,第一动力元件具体是电机,第一动力元件为清洁部提供清洁动力,清洁部的下端面与第一动力元件的输出端旋转连接,第一动力元件工作,带动清洁部转动对晶圆晶背进行清洗。清洁部的主体部分可以是由树脂、塑料或者金属制成,清洁部具有一定的刚度,可以有效延长清洁部的使用寿命,所述清洁部的上端面为用于清洁晶背的材质,具体可以是棉、涤纶或人造纤维等材质制成。当然清洁部整体都可以是由用于清洁晶背的棉、涤纶或人造纤维等材质制成。所述吸臂组件包括吸臂31以及第二动力元件,第二动力元件具体可以是气缸、液压缸、电缸或丝杆电机,所述吸臂的一端与第二动力元件的输出端相连接,所述第二动力元件用于带动吸臂上下运动,吸臂的另一端为吸盘头,用于取放载物台上的晶圆。第二动力元件工作,向下运动至将晶圆放置在载物台的开口处,再上升远离晶圆,在晶圆的清洁过程中,不会对晶圆造成干涉。在本实施例中,清洁部的形状为叶片状,在第一动力元件的带动下,叶片状的清洁部转动对晶背进行清洁。在其他实施例中,清洁部为整片式的结构且清洁部的边缘设置有内凹部,在这种实施例中,清洁部由海绵制成。在某些优选的实施例中,所述吸臂组件还包括第三动力元件,所述第三动力元件的输出端与吸臂远离晶圆的一端相连接,第三动力元件用于带动吸臂收缩运动。在第三动力元件的带动下,当吸臂将晶圆放置到位后,吸臂能够从晶圆上方抽离,当晶圆清洁工作结束后,吸臂再回到晶圆的上方,吸取晶圆远离载物台。在第三动力元件带动吸臂运动的过程中,第二动力元件也随之运动,实际上,第三动力元件的输出端同时作用在第二动力元件以及吸臂远离晶圆的一端。在更优选的实施例中,该自动清洁晶背的装置还包括罩体4,所述罩体为中空的壳状结构,所述罩体罩设于吸臂组件外,且罩体上开设有吸臂孔,所述吸臂贯穿于吸臂孔。吸臂孔的尺寸大于吸臂的尺寸,使得吸臂能够在吸臂孔中自由移动。需要说明的是,尽管在本文中已经对上述各实施例进行了描述,但并非因此限制本技术的专利保护范围。因此,基于本技术的创新理念,对本文所述实施例进行的变更和修改,或利用本技术说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换,直接或间接地将以上技术方案运用在其他相关的
,均包括在本技术专利的保护范围之内。本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种自动清洁晶背的装置,其特征在于:包括载物台、清洁组件以及吸臂组件,所述载物台为开口朝上的壳状结构,所述载物台开口边沿设置有吸附部,所述吸附部用于将晶圆吸附在载物台开口处,所述清洁组件设置于载物台的开口内,所述吸臂组件设置于载物台的开口上方;/n所述清洁组件包括清洁部以及第一动力元件,所述清洁部的上端面为用于清洁晶背的材质,清洁部的下端面与第一动力元件的输出端旋转连接;/n所述吸臂组件包括吸臂以及第二动力元件,所述吸臂的一端与第二动力元件的输出端相连接,所述第二动力元件用于带动吸臂上下运动,吸臂的另一端为吸盘头,用于取放载物台上的晶圆。/n
【技术特征摘要】
1.一种自动清洁晶背的装置,其特征在于:包括载物台、清洁组件以及吸臂组件,所述载物台为开口朝上的壳状结构,所述载物台开口边沿设置有吸附部,所述吸附部用于将晶圆吸附在载物台开口处,所述清洁组件设置于载物台的开口内,所述吸臂组件设置于载物台的开口上方;
所述清洁组件包括清洁部以及第一动力元件,所述清洁部的上端面为用于清洁晶背的材质,清洁部的下端面与第一动力元件的输出端旋转连接;
所述吸臂组件包括吸臂以及第二动力元件,所述吸臂的一端与第二动力元件的输出端相连接,所述第二动力元件用于带动吸臂上下运动,吸臂的另一端为吸盘头,用于取放载物台上的晶圆。
2.根据权利要求1所述的自动清洁晶背的装置,其特征在于:所述吸附部为真空吸孔,所述吸附部的个数为两个以上。
3.根据权利要求1所述的自动清洁晶背的装置,其特征在于:所述清洁部的形状为叶片状。
4.根据权利要求1所述的自动清洁晶背的装置,其特征在于:所述清洁部为边缘设置有内...
【专利技术属性】
技术研发人员:温春兰,吴海达,
申请(专利权)人:福建省福联集成电路有限公司,
类型:新型
国别省市:福建;35
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