【技术实现步骤摘要】
一种用于半导体及光电子无尘室的隔振基座
本技术涉及隔振基座
,具体为一种用于半导体及光电子无尘室的隔振基座。
技术介绍
现有技术中的半导体及光电子无尘室会使用到基座,确保无尘室悬空,为了提高无尘室的使用寿命,以及确保无尘室中的装置安全稳定进行工作,不受到外界环境的影响,需要进行隔震处理。如果能够专利技术一种基座具有高效稳定的吸收震动的功能,就能解决问题,为此我们提供了一种用于半导体及光电子无尘室的隔振基座。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种用于半导体及光电子无尘室的隔振基座,以解决上述
技术介绍
中提出的问题。为实现上述目的,本技术提供如下技术方案:一种用于半导体及光电子无尘室的隔振基座,包括支撑板,所述支撑板下端设置有若干均匀分布的横梁柱,所述横梁柱上设置有若干均匀分布的支撑装置,所述支撑装置包括横撑杆、立柱和X型支架,所述横撑杆的端部固定连接有立柱,横撑杆的下端设置有X型支架,所述X型支架端部和立柱固定连接,立柱的上端端部开设有方形凹槽,横梁柱贯穿立柱的方形凹槽,立柱中嵌入 ...
【技术保护点】
1.一种用于半导体及光电子无尘室的隔振基座,包括支撑板(1),其特征在于:所述支撑板(1)下端设置有若干均匀分布的横梁柱(2),所述横梁柱(2)上设置有若干均匀分布的支撑装置(3),所述支撑装置(3)包括横撑杆(4)、立柱(5)和X型支架(6),所述横撑杆(4)的端部固定连接有立柱(5),横撑杆(4)的下端设置有X型支架(6),所述X型支架(6)端部和立柱(5)固定连接,立柱(5)的上端端部开设有方形凹槽,横梁柱(2)贯穿立柱(5)的方形凹槽,立柱(5)中嵌入有若干均匀分布的吸收装置(13),所述吸收装置(13)包括定位座(7)、牵制体(8)、控制球(9)、压力壳体(10) ...
【技术特征摘要】
1.一种用于半导体及光电子无尘室的隔振基座,包括支撑板(1),其特征在于:所述支撑板(1)下端设置有若干均匀分布的横梁柱(2),所述横梁柱(2)上设置有若干均匀分布的支撑装置(3),所述支撑装置(3)包括横撑杆(4)、立柱(5)和X型支架(6),所述横撑杆(4)的端部固定连接有立柱(5),横撑杆(4)的下端设置有X型支架(6),所述X型支架(6)端部和立柱(5)固定连接,立柱(5)的上端端部开设有方形凹槽,横梁柱(2)贯穿立柱(5)的方形凹槽,立柱(5)中嵌入有若干均匀分布的吸收装置(13),所述吸收装置(13)包括定位座(7)、牵制体(8)、控制球(9)、压力壳体(10)和弹簧(11),所述定位座(7)形状为圆锥,且定位座(7)中开设有控制腔(12),牵制体(8)、控制球(9)、压力壳体(10)和弹簧(11)位于控制腔(12)中,所述牵制体(8)的下端固定连接控制球(9),所述控制球(9)外部设置有压力壳体(10),所述...
【专利技术属性】
技术研发人员:商富祥,商富彬,
申请(专利权)人:江苏瑞鑫集成电路设备有限公司,
类型:新型
国别省市:江苏;32
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