一种用于半导体及光电子无尘室的隔振基座制造技术

技术编号:24261201 阅读:99 留言:0更新日期:2020-05-23 11:46
本实用新型专利技术涉及隔振基座技术领域,具体为一种用于半导体及光电子无尘室的隔振基座,包括支撑板,支撑板下端设置有若干均匀分布的横梁柱,横梁柱上设置有若干均匀分布的支撑装置,支撑装置包括横撑杆、立柱和X型支架,立柱的上端端部开设有方形凹槽,横梁柱贯穿立柱的方形凹槽,立柱中嵌入有若干均匀分布的吸收装置,吸收装置包括定位座、牵制体、控制球、压力壳体和弹簧,本实用新型专利技术构造设计实现震动能量被若干吸收装置高效稳定的吸收,同时定位座的圆锥状设计不会影响立柱的支撑稳定性,这样避免震动通过基座影响到电子无尘室中的机器设备,对装置进行保护,提高无尘室的使用寿命。

A vibration isolation base for dust-free chambers of semiconductors and Optoelectronics

【技术实现步骤摘要】
一种用于半导体及光电子无尘室的隔振基座
本技术涉及隔振基座
,具体为一种用于半导体及光电子无尘室的隔振基座。
技术介绍
现有技术中的半导体及光电子无尘室会使用到基座,确保无尘室悬空,为了提高无尘室的使用寿命,以及确保无尘室中的装置安全稳定进行工作,不受到外界环境的影响,需要进行隔震处理。如果能够专利技术一种基座具有高效稳定的吸收震动的功能,就能解决问题,为此我们提供了一种用于半导体及光电子无尘室的隔振基座。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种用于半导体及光电子无尘室的隔振基座,以解决上述
技术介绍
中提出的问题。为实现上述目的,本技术提供如下技术方案:一种用于半导体及光电子无尘室的隔振基座,包括支撑板,所述支撑板下端设置有若干均匀分布的横梁柱,所述横梁柱上设置有若干均匀分布的支撑装置,所述支撑装置包括横撑杆、立柱和X型支架,所述横撑杆的端部固定连接有立柱,横撑杆的下端设置有X型支架,所述X型支架端部和立柱固定连接,立柱的上端端部开设有方形凹槽,横梁柱贯穿立柱的方形凹槽,立柱中嵌入有若干均匀分布的吸收本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于半导体及光电子无尘室的隔振基座,包括支撑板(1),其特征在于:所述支撑板(1)下端设置有若干均匀分布的横梁柱(2),所述横梁柱(2)上设置有若干均匀分布的支撑装置(3),所述支撑装置(3)包括横撑杆(4)、立柱(5)和X型支架(6),所述横撑杆(4)的端部固定连接有立柱(5),横撑杆(4)的下端设置有X型支架(6),所述X型支架(6)端部和立柱(5)固定连接,立柱(5)的上端端部开设有方形凹槽,横梁柱(2)贯穿立柱(5)的方形凹槽,立柱(5)中嵌入有若干均匀分布的吸收装置(13),所述吸收装置(13)包括定位座(7)、牵制体(8)、控制球(9)、压力壳体(10)和弹簧(11),所述...

【技术特征摘要】
1.一种用于半导体及光电子无尘室的隔振基座,包括支撑板(1),其特征在于:所述支撑板(1)下端设置有若干均匀分布的横梁柱(2),所述横梁柱(2)上设置有若干均匀分布的支撑装置(3),所述支撑装置(3)包括横撑杆(4)、立柱(5)和X型支架(6),所述横撑杆(4)的端部固定连接有立柱(5),横撑杆(4)的下端设置有X型支架(6),所述X型支架(6)端部和立柱(5)固定连接,立柱(5)的上端端部开设有方形凹槽,横梁柱(2)贯穿立柱(5)的方形凹槽,立柱(5)中嵌入有若干均匀分布的吸收装置(13),所述吸收装置(13)包括定位座(7)、牵制体(8)、控制球(9)、压力壳体(10)和弹簧(11),所述定位座(7)形状为圆锥,且定位座(7)中开设有控制腔(12),牵制体(8)、控制球(9)、压力壳体(10)和弹簧(11)位于控制腔(12)中,所述牵制体(8)的下端固定连接控制球(9),所述控制球(9)外部设置有压力壳体(10),所述...

【专利技术属性】
技术研发人员:商富祥商富彬
申请(专利权)人:江苏瑞鑫集成电路设备有限公司
类型:新型
国别省市:江苏;32

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