双端口远程等离子清洁隔离阀制造技术

本公开总体涉及一种用于处理系统中的隔离装置。所述隔离装置具有主体，所述主体具有：入口开口，所述入口开口设置在第一端部处，所述入口开口耦接到处理系统部件，诸如远程等离子体源；以及出口开口，例如两个出口开口，所述出口开口设置在第二端部处，所述出口开口耦接到处理系统部件，诸如工艺腔室。设置在所述主体内的翻板可从关闭位置致动到打开位置或可从打开位置致动到关闭位置，以选择性地允许或阻止流体从耦接到所述隔离装置的所述处理系统部件传递到另一个处理系统部件。

Double port remote plasma cleaning isolation valve

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】双端口远程等离子清洁隔离阀
技术介绍

本公开的实施方式总体涉及一种用于处理系统中的隔离装置。相关技术描述在微电子器件(诸如半导体器件)的制造中，使用远程等离子体源向工艺腔室提供气体自由基、气体离子或这两者，在工艺腔室中，工艺在衬底上实施。远程等离子体源一般通过穿过工艺腔室的主体设置的端口来连接到工艺腔室。为了将远程等离子体源与工艺腔室隔离，在远程等离子体源与工艺腔室之间设置隔离装置，诸如阀。在利用远程等离子体源向工艺腔室的处理容积中供应气体自由基、气体离子或这两者的操作期间，隔离装置移动到打开位置，以允许在工艺腔室的处理容积与远程等离子体源之间的流体连通。在完成处理操作之后，隔离装置移动到关闭位置，由此将远程等离子体源与工艺腔室的处理容积隔离。其中在远程等离子体源与端口之间的流线中利用简单的阀的常规的远程等离子体源隔离装置通常因密封机构暴露于来自远程等离子体源或源自暴露于在工艺腔室的处理容积中的工艺化学物质的气体自由基、气体离子或这两者而使其密封机构退化。因此，需要频繁维护以修理或更换密封机构来维持功能性。这些维护操作通常涉及工艺腔室长时间停机，从而造成工艺腔室的利用降低。因此，需要的是一种改进的远程等离子体源隔离装置及其操作方法。
技术实现思路
本公开总体涉及一种用于处理系统中的隔离装置。在一个实施方式中，提供了一种隔离装置。所述隔离装置具有主体，所述主体具有在第一端部处的入口开口和在第二端部处的一个或多个出口开口。隔离容积限定在所述主体中。第一翻板和第二翻板设置在所述隔离容积中。所述第一翻板和所述第二翻板被枢转地致动以选择性地允许进入和阻挡进入所述入口开口或所述一个或多个出口开口中的至少一个。在另一个实施方式中，提供了一种用于处理衬底的系统。所述系统包括：远程等离子体源；一个或多个工艺腔室，所述一个或多个工艺腔室流体地耦接到所述远程等离子体源；以及隔离装置，所述隔离装置设置在所述远程等离子体源与所述一个或多个工艺腔室之间。所述隔离装置包括主体，所述主体具有入口开口和至少两个出口开口。隔离容积限定在所述主体中，第一翻板和第二翻板设置在所述隔离容积中。所述第一翻板和所述第二翻板被枢转地致动以选择性地允许进入和阻挡进入所述入口开口或所述出口开口中的至少一个。在又一个实施方式中，提供了一种用于处理衬底的方法。所述方法包括用隔离装置来阻挡远程等离子体源与工艺腔室之间的流体连通。所述阻挡包括以下操作：将所述隔离装置的第一翻板移动到第一位置，以阻挡进入设置在所述隔离装置的第一端部中的第一端口；以及将所述隔离装置的第二翻板移动到第二位置，以阻挡进入设置在所述隔离装置的第二端部中的至少两个第二端口。附图说明为了能够详细地理解本公开的上述特征的方式，可以参考实施方式来提供以上简要地概述的本公开的更特定的描述，实施方式中的一些在附图中示出。然而，应注意，附图仅示出了示例性实施方式，并且因此不应视为对范围的限制，因为本公开可以允许其他等效实现方式。图1是利用远程等离子体源的处理设备的示意性布置。图2是示例性双腔室处理系统的横截面示意图。图3A是根据某些实施方式的隔离装置的等距视图。图3B是图3A的隔离装置的等距横截面。图4A是根据某些实施方式的隔离装置的密封区域的示意性平面图。图4B是根据某些实施方式的隔离装置部件的横截面。图5是根据某些实施方式的隔离装置的等距横截面。为了便于理解，已经尽可能地使用相同的附图标记标示各图共有的相同元件。设想的是，一个实施方式的要素和特征可以有益地并入其他实施方式，而不进一步叙述。具体实施方式本文所描述的实施方式涉及一种用于将处理系统内的腔室与流线隔离的隔离装置。所述隔离装置包括主体，所述主体具有：入口开口，所述入口开口设置在第一端部处，所述入口开口耦接到处理系统部件，诸如远程等离子体源；以及出口开口，例如两个出口开口，所述出口开口设置在第二端部处，所述出口开口耦接到处理系统部件，诸如工艺腔室。设置在所述主体内的翻板可从关闭位置致动到打开位置或可从打开位置致动到关闭位置，以选择性地允许或阻止流体从耦接到所述隔离装置的所述处理系统部件传递到另一个处理系统部件。图1是利用远程等离子体源的示例性处理设备的示意性布置。在图1中，处理设备100具有远程等离子体源102，所述远程等离子体源102由导管108a、108b耦接到工艺腔室106。隔离装置104(诸如阀)设置在远程等离子体源102与工艺腔室106之间。隔离装置104通过导管108a、108b与远程等离子体源102和工艺腔室106流体连通。在处理操作期间，可以中断将流体传递通过隔离装置104，以将工艺腔室106与远程等离子体源102隔离。通过打开隔离装置104以允许流体从中传递通过，由远程等离子体源102产生的气体自由基、气体离子或这两者可流过导管108a、108b和隔离装置104并流入工艺腔室106。仅出于说明目的而公开示例性处理设备100。其他配置或类型的工艺腔室可以与本文所描述的实施方式一起使用。图2是示例性双腔室衬底处理系统200。处理系统200具有远程等离子体源202、隔离装置204、由凸缘206耦接到隔离装置204的腔室盖207、以及工艺腔室208a、208b。远程等离子体源202耦接到隔离装置204，所述隔离装置204进一步耦接到腔室盖207。气体导管210a、210b设置在腔室盖207内并使得在隔离装置204与工艺腔室208a、208b之间能够流体连通。隔离装置204包括翻板212和214。在图2中，以横截面示出在关闭位置的隔离装置204。隔离装置204将在下文详细地讨论。图3A和图3B是根据某些实施方式的隔离装置300的横截面透视图。图3A和图3B中的隔离装置300是翻板型阀。隔离装置300具有主体302，所述主体302具有第一端部330和与第一端部330相对的第二端部332。入口端口304穿过主体302设置在第一端部330处。出口端口308a、308b穿过主体设置在第二端部332处。出口端口308a、308b与入口端口304相对地设置。入口端口304耦接到远程等离子体源，诸如图2中所示的远程等离子体源202。出口端口308a、308b彼此平行地且相邻地延伸穿过主体302和基部凸缘306。基部凸缘306耦接到隔离装置300的第二端部332。在一个实施方式中，基部凸缘306将隔离装置300耦接到共用腔室盖，诸如图2中所示的腔室盖207。应理解，基部凸缘306是示例性附接方法。由此，可以实践将隔离装置300附接到共用腔室盖的其他方法，这样，隔离装置300可以从腔室盖移除。隔离装置300可以从腔室盖移除，以便于维护或用另一个隔离装置来替换隔离装置300。图3A和图3B中所示的隔离装置的主体302一般是长方体的并至少部分地在其中限定隔离容积380。翻板312、314铰接地设置在隔离容积380中。在图3A和图3B中，示出两个翻板312、314，但是可以使用其他布置，本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种隔离装置，包括：/n主体，所述主体具有在第一端部处的入口开口和在第二端部处的一个或多个出口开口；/n隔离容积，所述隔离容积限定在所述主体中；/n第一翻板，所述第一翻板设置在所述隔离容积内；以及/n第二翻板，所述第二翻板设置在所述隔离容积内，其中所述第一翻板和所述第二翻板被枢转地致动以选择性地允许进入和阻挡进入所述入口开口或所述一个或多个出口开口中的至少一个。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20170929 US 62/565,9151.一种隔离装置，包括：
主体，所述主体具有在第一端部处的入口开口和在第二端部处的一个或多个出口开口；
隔离容积，所述隔离容积限定在所述主体中；
第一翻板，所述第一翻板设置在所述隔离容积内；以及
第二翻板，所述第二翻板设置在所述隔离容积内，其中所述第一翻板和所述第二翻板被枢转地致动以选择性地允许进入和阻挡进入所述入口开口或所述一个或多个出口开口中的至少一个。


2.如权利要求1所述的隔离装置，进一步包括：第一密封件，所述第一密封件设置在所述第一翻板中；以及至少一个第二密封件，所述至少一个第二密封件设置在所述第二翻板内，其中所述第一密封件包围所述至少一个第二密封件，并且当所述第二翻板被定位成阻挡进入所述出口开口时，所述至少一个第二密封件包围所述一个或多个出口开口中的至少一个。


3.如权利要求1所述的隔离装置，其中当所述第一翻板和所述第二翻板被定位成允许进入所述入口开口和所述出口开口时，所述第一翻板和所述第二翻板被定位成面对面。


4.如权利要求1所述的隔离装置，其中所述主体、所述第一翻板和所述第二翻板包括形成在其中的冷却通道，并且其中所述第一翻板和第二翻板耦接到旋转轴。


5.如权利要求1所述的隔离装置，进一步包括泄压系统，所述泄压系统耦接到所述隔离容积。


6.如权利要求1所述的隔离装置，其中所述主体、所述第一翻板和所述第二翻板包括含金属的材料。


7.一种用于处理衬底的系统，包括：
远程等离子体源；
一个或多个工艺腔室，所述一个或多个工艺腔室流体地耦接到所述远程等离子体源；以及
隔离装置，所述隔离装置设置在所述远程等离子体源与所述一个或多个工艺腔室之间，所述隔离装置包括：
主体，所述主体具有入口开口和至少一个出口开口；
隔离容积，所述隔离容积限定在所述主体中；
第一翻板，所述第一翻板设置在所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：B·B·莱尔顿，C·T·卡尔森，A·韦伯，G·维卡，
申请(专利权)人：应用材料公司，
类型：发明
国别省市：美国;US