双端口远程等离子清洁隔离阀制造技术

本公开总体涉及一种用于处理系统中的隔离装置。所述隔离装置具有主体，所述主体具有：入口开口，所述入口开口设置在第一端部处，所述入口开口耦接到处理系统部件，诸如远程等离子体源；以及出口开口，例如两个出口开口，所述出口开口设置在第二端部处，所述出口开口耦接到处理系统部件，诸如工艺腔室。设置在所述主体内的翻板可从关闭位置致动到打开位置或可从打开位置致动到关闭位置，以选择性地允许或阻止流体从耦接到所述隔离装置的所述处理系统部件传递到另一个处理系统部件。

Double port remote plasma cleaning isolation valve

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】双端口远程等离子清洁隔离阀
技术介绍

本公开的实施方式总体涉及一种用于处理系统中的隔离装置。相关技术描述在微电子器件(诸如半导体器件)的制造中，使用远程等离子体源向工艺腔室提供气体自由基、气体离子或这两者，在工艺腔室中，工艺在衬底上实施。远程等离子体源一般通过穿过工艺腔室的主体设置的端口来连接到工艺腔室。为了将远程等离子体源与工艺腔室隔离，在远程等离子体源与工艺腔室之间设置隔离装置，诸如阀。在利用远程等离子体源向工艺腔室的处理容积中供应气体自由基、气体离子或这两者的操作期间，隔离装置移动到打开位置，以允许在工艺腔室的处理容积与远程等离子体源之间的流体连通。在完成处理操作之后，隔离装置移动到关闭位置，由此将远程等离子体源与工艺腔室的处理容积隔离。其中在远程等离子体源与端口之间的流线中利用简单的阀的常规的远程等离子体源隔离装置通常因密封机构暴露于来自远程等离子体源或源自暴露于在工艺腔室的处理容积中的工艺化学物质的气体自由基、气体离子或这两者而使其密封机构退化。因此，需要频繁维护以修理或更换密封机构来维持功能性。这些维护操作本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种隔离装置，包括：/n主体，所述主体具有在第一端部处的入口开口和在第二端部处的一个或多个出口开口；/n隔离容积，所述隔离容积限定在所述主体中；/n第一翻板，所述第一翻板设置在所述隔离容积内；以及/n第二翻板，所述第二翻板设置在所述隔离容积内，其中所述第一翻板和所述第二翻板被枢转地致动以选择性地允许进入和阻挡进入所述入口开口或所述一个或多个出口开口中的至少一个。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20170929 US 62/565,9151.一种隔离装置，包括：
主体，所述主体具有在第一端部处的入口开口和在第二端部处的一个或多个出口开口；
隔离容积，所述隔离容积限定在所述主体中；
第一翻板，所述第一翻板设置在所述隔离容积内；以及
第二翻板，所述第二翻板设置在所述隔离容积内，其中所述第一翻板和所述第二翻板被枢转地致动以选择性地允许进入和阻挡进入所述入口开口或所述一个或多个出口开口中的至少一个。


2.如权利要求1所述的隔离装置，进一步包括：第一密封件，所述第一密封件设置在所述第一翻板中；以及至少一个第二密封件，所述至少一个第二密封件设置在所述第二翻板内，其中所述第一密封件包围所述至少一个第二密封件，并且当所述第二翻板被定位成阻挡进入所述出口开口时，所述至少一个第二密封件包围所述一个或多个出口开口中的至少一个。


3.如权利要求1所述的隔离装置，其中当所述第一翻板和所述第二翻板被定位成允许进入所述入口开口和所述出口开口时，所述第一翻板和所述第二翻板被定位成面对面。


4.如权利要求1所述的隔离装置，其中所述主体、所述第一翻板和所述第二翻板包括形成在其中的冷却通道，并且其中所述第一翻板和第二翻板耦接到旋转轴。


5.如权利要求1所述的隔离装置，进一步包括泄压系统，所述泄压系统耦接到所述隔离容积。


6.如权利要求1所述的隔离装置，其中所述主体、所述第一翻板和所述第二翻板包括含金属的材料。


7.一种用于处理衬底的系统，包括：
远程等离子体源；
一个或多个工艺腔室，所述一个或多个工艺腔室流体地耦接到所述远程等离子体源；以及
隔离装置，所述隔离装置设置在所述远程等离子体源与所述一个或多个工艺腔室之间，所述隔离装置包括：
主体，所述主体具有入口开口和至少一个出口开口；
隔离容积，所述隔离容积限定在所述主体中；
第一翻板，所述第一翻板设置在所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：B·B·莱尔顿，C·T·卡尔森，A·韦伯，G·维卡，
申请(专利权)人：应用材料公司，
类型：发明
国别省市：美国;US