【技术实现步骤摘要】
自动化处理设备
本技术涉及晶圆生产加工设备领域,具体涉及一种自动化处理设备。
技术介绍
在进行单晶硅外延后通常都需要测定外延的电阻率。在测定外延电阻率时,需要将外延后的单晶硅进行一系列处理,包括泡氢氟酸、冲洗、泡双氧水和甩干。现有技术中,在对外延的单晶硅进行测定外延电阻前的处理时,通常是手动更换氢氟酸的,并且手动往氢氟酸中放入、取出晶圆。由于氢氟酸具有一定的腐蚀性,因此手动更换氢氟酸、取出、放入晶圆时,安全系数低,并且晶圆的浸泡时间也不可控。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种自动化处理设备,安全系数高,晶圆的浸泡时间可控。为解决上述技术问题,本技术提供了一种自动化处理设备,包括:晶圆放置位,用于放置晶圆;第一导轨,所述晶圆放置位安装至所述第一导轨,并能够沿所述第一导轨的长度方向运动;药液槽,设置于所述第一导轨的第一端的下方,用于放置药液,且当所述晶圆放置位运动至第一端时,所述晶圆放置位浸入所述药液槽内放置的药液中;药液泵,连通至所述药液槽,用于泵出所述药液槽内放置的药液;药液箱, ...
【技术保护点】
1.一种自动化处理设备,其特征在于,包括:/n晶圆放置位,用于放置晶圆;/n第一导轨,所述晶圆放置位安装至所述第一导轨,并能够沿所述第一导轨的长度方向运动;/n药液槽,设置于所述第一导轨的第一端的下方,用于放置药液,且当所述晶圆放置位运动至第一端时,所述晶圆放置位浸入所述药液槽内放置的药液中;/n药液泵,连通至所述药液槽,用于泵出所述药液槽内放置的药液;/n药液箱,放置有药液,连通至所述药液槽,用于给所述药液槽提供处理晶圆的药液。/n
【技术特征摘要】
1.一种自动化处理设备,其特征在于,包括:
晶圆放置位,用于放置晶圆;
第一导轨,所述晶圆放置位安装至所述第一导轨,并能够沿所述第一导轨的长度方向运动;
药液槽,设置于所述第一导轨的第一端的下方,用于放置药液,且当所述晶圆放置位运动至第一端时,所述晶圆放置位浸入所述药液槽内放置的药液中;
药液泵,连通至所述药液槽,用于泵出所述药液槽内放置的药液;
药液箱,放置有药液,连通至所述药液槽,用于给所述药液槽提供处理晶圆的药液。
2.根据权利要求1所述的自动化处理设备,其特征在于,还包括:
控制器,连接至所述晶圆放置位以及所述药液泵,用于控制所述晶圆放置位在所述第一导轨的长度方向上的运动,将晶圆浸入药液槽,以及用于控制所述药液泵泵出药液;
触摸屏,连接至所述控制器,用于给用户提供一控制界面,便于用户对所述晶圆放置位以及药液泵进行控制。
3.根据权利要求2所述的自动化处理设备,其特征在于,还包括:
电动阀门,设置于所述药液槽与所述药液箱之间,与所述控制器相连接,用于控制所述药液槽与药液箱之间的连通与否,以控制所述药液箱内的药液流入至药液槽。
...
【专利技术属性】
技术研发人员:蒋杰,
申请(专利权)人:上海新傲科技股份有限公司,
类型:新型
国别省市:上海;31
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