【技术实现步骤摘要】
一种压电式传感器及其制备方法
本专利技术涉及到MEMS压电器件领域,特别是涉及一种压电式传感器及其制备方法。
技术介绍
压电式传感器是基于压电材料的压电效应做机电转换的器件,可以直接用于测力或测量与力有关的压力、位移、振动加速度等。传统的压电式传感器采用不同切型的石英晶体或者锆钛酸铅(PZT)等多种压电陶瓷制成,具有灵敏度高、性能稳定、频响好及工作可靠等优点。但是随着微机电系统(MEMS)技术的发展,对压电式传感器的尺寸、集成制造兼容性、制造成本以及环境友好性提出了新的要求。新一代适用于微纳集成制造传感器的压电材料包括有氮化铝(AlN),钪掺杂氮化铝(ScAlN),氧化锌(ZnO),铌酸锂(LiNbO3)或钽酸锂(LiTaO3)等。MEMS压电式传感器一般包括有圆盘式、桥式和悬臂梁式等,外界机械振动或声学振动等力学信号施加在压电振膜上后,经压电效应转变为电信号进行信号的采集和传输。但是对于压电式传感器,当压电振膜的尺寸和厚度确定后,就很难进一步提升传感器的灵敏度和信噪比等性能,另一方面压电式传感器的工艺制程直接影响着 ...
【技术保护点】
1.一种压电式传感器,其特征在于,所述压电式传感器包括:基板、H个压电悬臂梁、固定柱;所述基板带有N个空腔;所述压电悬臂梁为双晶片结构,或者由单晶片结构和支撑层组成,所述压电悬臂梁的自由端面积大于所述固定端面积;所述固定柱设置在所述基板中心用于固定所述压电悬臂梁,H>0且H为正整数,N>0且N为正整数。/n
【技术特征摘要】
1.一种压电式传感器,其特征在于,所述压电式传感器包括:基板、H个压电悬臂梁、固定柱;所述基板带有N个空腔;所述压电悬臂梁为双晶片结构,或者由单晶片结构和支撑层组成,所述压电悬臂梁的自由端面积大于所述固定端面积;所述固定柱设置在所述基板中心用于固定所述压电悬臂梁,H>0且H为正整数,N>0且N为正整数。
2.根据权利要求1所述的压电式传感器,其特征在于:所述基板选取不含电路结构的基板,相邻压电悬臂梁之间设置有间隙,在M个所述间隙之间设置有连接结构,所述连接结构用于连接所述固定柱和所述基板外周上方压电叠层,0<M≤H且M为正整数。
3.根据权利要求1所述的压电式传感器,其特征在于:所述基板选取含有电路结构的基板,通过硅通孔刻蚀工艺,在所述固定柱处将压电叠层的电极连接至所述基板的电路结构上。
4.一种应用于权利要求1所述的压电式传感器的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
当所述压电悬臂梁为双晶片结构时,在基板上沉积底电极-下压电薄膜层-中间电极-上压电薄膜-顶电极的压电叠层结构,背腔刻蚀所述基板,其中底电极作为刻蚀停止层;
当所述压电悬臂梁为单晶片结构时,在基板上沉积支撑层,底电极-压电薄膜层-顶电极的压电叠层结构,背腔刻蚀所述基板,其中支撑层作为刻蚀停止层;
若所述基板上存在连接结构:
选取表面带有热氧化/沉积的SiO2层的Si基底,所述Si基底不含电路结构,与基板作键合连接处理;
在基板外周引出底电极和顶电极,刻蚀出压电悬臂梁结构;
若所述基板上不存在连接结构:
与基板键合的所述Si基底含有电路结构,在引出所述压电悬臂梁中压电叠层的电极时,通过硅通孔工艺,在固定柱处连接所述底电极/顶电极和所述Si基底中的电路结构,进一步地,刻蚀出压电悬臂梁结构。
5.一种应用于权利要求1所述的压电式传感器的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
在基板上刻蚀一定深度的空腔;
沉积SiO2等材料填充空腔,作为牺牲层;
进行化学机械研磨(CMP),保持基板的表面平整;
当所述压电悬臂梁为双晶片结构时,在基板上沉积底电极-下压电薄膜层-中间电极-上压电薄膜-顶电极的压电叠层结构;
当所述压电悬臂梁为单晶片结构时,在基板上沉积...
【专利技术属性】
技术研发人员:孙成亮,胡博豪,刘婕妤,林炳辉,谢英,
申请(专利权)人:武汉大学,
类型:发明
国别省市:湖北;42
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