阵列基板单元及其制备方法、阵列基板、显示控制系统技术方案

本申请公开了一种阵列基板单元及其制备方法、阵列基板、显示控制系统，所述阵列基板单元包括：衬底；波导层，设置于所述衬底上；电极层对，设置于所述衬底上，且所述波导层位于所述电极层对之间；控制电路，与所述电极层对连接，用于控制电极层对之间的电压值，以改变所述电极层对之间波导层中的光路。本申请的阵列基板单元可通过控制电路改变电极层对之间的电压值，调节该电极层对之间波导层中的光路，使阵列基板单元在不同电压值下，具有不同的显示结果。

Array substrate unit and its preparation method, array substrate, display control system

【技术实现步骤摘要】
阵列基板单元及其制备方法、阵列基板、显示控制系统
本申请涉及显示
，具体而言，涉及一种阵列基板单元及其制备方法、阵列基板、显示控制系统。
技术介绍
目前，在投影显示
，LCOS(LiquidCrystalonSilicon,硅基液晶)反射式投影显示技术和DLP(DigitalLightProcessing,数字光学处理技术)由于高亮度、高清晰度等特点，获得广泛应用。其中，DLP显像技术通过将影像信号经过数字处理后，再将光投影出来，以产生图像，该过程需要核心元器件DMD(DigitalMicromirrorDevice,数字微镜元件)来完成可视数字光学处理的过程。相关技术中，DMD器件是在半导体芯片上布置一个由微镜片组成的矩阵，该些微镜片在数字驱动信号的控制下，通过光吸收器吸收不需要的光来实现影像投影，然而DMD芯片的质量要求很高、制备工艺难度大，且DMD芯片的控制器是耗材、价格高，也易造成坏点出现，一旦出现损坏极易造成整个投影仪器无法继续使用，因此有必要提出一种可替代DMD器件的显示器件。
技术实现思路
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【技术保护点】
1.一种阵列基板单元，其特征在于，包括：/n衬底；/n波导层，设置于所述衬底上；/n电极层对，设置于所述衬底上，且所述波导层位于所述电极层对之间；/n控制电路，与所述电极层对连接，用于控制电极层对之间的电压值，以改变所述电极层对之间波导层中的光路。/n

【技术特征摘要】
1.一种阵列基板单元，其特征在于，包括：
衬底；
波导层，设置于所述衬底上；
电极层对，设置于所述衬底上，且所述波导层位于所述电极层对之间；
控制电路，与所述电极层对连接，用于控制电极层对之间的电压值，以改变所述电极层对之间波导层中的光路。


2.根据权利要求1所述的阵列基板单元，其特征在于，所述波导层包括：
波导基底层；
衬底介质层，设置于所述波导基底层上；
导光介质层，覆盖所述衬底介质层；
其中，所述导光介质层的折射率大于所述衬底介质层的折射率；
优选地，位于所述电极层对之间的波导层的数量为一个或多个。


3.根据权利要求2所述的阵列基板单元，其特征在于，所述导光介质层是通过具有轻离子注入的铌酸锂层经退火工艺形成的铌酸锂薄层。


4.根据权利要求1所述的阵列基板单元，其特征在于，所述衬底的材料选自铌酸锂、掺氧化镁铌酸锂、钽酸锂、掺氧化镁钽酸锂中的任一种；
所述电极层对选自金、银、铜、铝、镁/银、锂/铝金属电极中的任一种；
优选地，所述电极层对是通过蒸镀或印刷形成的金电极。


5.一种阵列基板，其特征在于，包括多个权利要求1-4任一项所述的阵列基板单元；
所述阵列基板是通过多个所述阵列基板单元排列连接形成的。


6.根据权利要求5所述的阵列...

【专利技术属性】
技术研发人员：冯新凯，陈怀熹，李广伟，张新彬，古克义，梁万国，
申请(专利权)人：中国科学院福建物质结构研究所，
类型：发明
国别省市：福建;35