一种硅片烘干装置及硅片刻蚀机制造方法及图纸

技术编号:24146799 阅读:44 留言:0更新日期:2020-05-13 19:04
本实用新型专利技术公开了一种硅片烘干装置及硅片刻蚀机,该硅片烘干装置包括氢氟酸槽、水洗槽、烘干槽和运输机构。氢氟酸槽的上方设有氢氟酸喷头,水洗槽的上方设有水洗喷头,水洗喷头通过连接管与水洗槽相连,烘干槽的上方设有冷风喷头和热风喷头,运输机构用于运输硅片。氢氟酸槽、水洗槽及烘干槽沿硅片的运输方向依次排布,冷风喷头位于热风喷头的上游;运输机构包括多个运输辊,运输辊包括依次与氢氟酸槽、水洗槽及烘干槽对应设置的第一辊组、第二辊组及第三辊组,第三辊组的运输辊的上边缘高于第一辊组及第二辊组的运输辊的上边缘。该烘干装置能够较好地烘干硅片,降低硅片上出现烘干水痕的几率,从而保证硅片的良品率。

A drying device and etching machine for silicon wafer

【技术实现步骤摘要】
一种硅片烘干装置及硅片刻蚀机
本技术涉及太阳能电池加工设备
,尤其涉及一种硅片烘干装置及硅片刻蚀机。
技术介绍
现有的硅片烘干装置包括氢氟酸槽、水洗槽和烘干槽,氢氟酸槽去除硅片表面磷硅玻璃后,经过水洗槽,纯水清洗表面氢氟酸溶液,继续水平传动至烘干槽,进行热风烘干。现有的硅片烘干装置的烘干效果不好,容易在硅片上出现烘干水痕。
技术实现思路
本技术的一个目的在于提出一种硅片烘干装置,该烘干装置能够较好地烘干硅片,降低硅片上出现烘干水痕的几率,从而保证硅片的良品率。本技术的另一个目的在于提出一种硅片刻蚀机,该硅片刻蚀机的良品率较高。为实现上述技术效果,本技术的技术方案如下:一种硅片烘干装置,包括:氢氟酸槽,所述氢氟酸槽的上方设有氢氟酸喷头;水洗槽,所述水洗槽的上方设有水洗喷头,所述水洗喷头通过连接管与所述水洗槽相连;烘干槽,所述烘干槽的上方设有冷风喷头和热风喷头;运输机构,所述运输机构用于运输硅片;其中:所述氢氟酸槽、所述水洗槽及所述烘干槽沿所述硅片的运输方向依次排布,所述冷风喷头位于所述热风喷头的上游;本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种硅片烘干装置,其特征在于,包括:/n氢氟酸槽(1),所述氢氟酸槽(1)的上方设有氢氟酸喷头(5);/n水洗槽(2),所述水洗槽(2)的上方设有水洗喷头(6),所述水洗喷头(6)通过连接管与所述水洗槽(2)相连;/n烘干槽(3),所述烘干槽(3)的上方设有冷风喷头(7)和热风喷头(8);/n运输机构,所述运输机构用于运输硅片;其中:/n所述氢氟酸槽(1)、所述水洗槽(2)及所述烘干槽(3)沿所述硅片的运输方向依次排布,所述冷风喷头(7)位于所述热风喷头(8)的上游;/n所述运输机构包括多个运输辊,所述运输辊包括依次与所述氢氟酸槽(1)、所述水洗槽(2)及所述烘干槽(3)对应设置的第一辊组...

【技术特征摘要】
1.一种硅片烘干装置,其特征在于,包括:
氢氟酸槽(1),所述氢氟酸槽(1)的上方设有氢氟酸喷头(5);
水洗槽(2),所述水洗槽(2)的上方设有水洗喷头(6),所述水洗喷头(6)通过连接管与所述水洗槽(2)相连;
烘干槽(3),所述烘干槽(3)的上方设有冷风喷头(7)和热风喷头(8);
运输机构,所述运输机构用于运输硅片;其中:
所述氢氟酸槽(1)、所述水洗槽(2)及所述烘干槽(3)沿所述硅片的运输方向依次排布,所述冷风喷头(7)位于所述热风喷头(8)的上游;
所述运输机构包括多个运输辊,所述运输辊包括依次与所述氢氟酸槽(1)、所述水洗槽(2)及所述烘干槽(3)对应设置的第一辊组(41)、第二辊组(42)及第三辊组(43),所述第一辊组(41)的所述运输辊的上边缘与所述第二辊组(42)的所述运输辊的上边缘齐平设置,所述第三辊组(43)的所述运输辊的上边缘高于所述第一辊组(41)及所述第二辊组(42)的所述运输辊的上边缘。


2.根据权利要求1所述的硅片烘干装置,其特征在于,所述水洗槽(2)内设有PH值检测件(21),所述PH值检测件(21)用于检测所述水洗槽(2)内的液体的PH值。


3.根据权利要求1所述的硅片烘干装置,其特征在于,所述第二辊组(42)中靠近所述第三辊组(43)的所述运输辊的轴心和所述第三辊组(43)中临近所述第二辊组(42)的所述运输辊的轴心的连线为a,a满足关系式:1°≤a≤5°。


4.根据权利要求1所述的硅片烘干装置,其特征在于,所述水洗喷头(6)为两个,两个所述水洗喷头(6)分别位于所述第二辊组(42)的上下两侧。

【专利技术属性】
技术研发人员:杨金鑫谢凤兰唐正海刘燕
申请(专利权)人:盐城阿特斯阳光能源科技有限公司阿特斯阳光电力集团有限公司
类型:新型
国别省市:江苏;32

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