【技术实现步骤摘要】
一种玻璃镀膜方法
本专利技术属于镀膜
,具体涉及玻璃镀膜方法。
技术介绍
现有玻璃镀膜是指SI、TI、AL、NB等及其氧化物在玻璃等材料表面进行镀膜,镀膜后的玻璃在300-1500nm范围内有特定的透过和反射要求,主要应用于成像类镜头。对于膜层厚度超过2500nm的,因膜层厚度增大而应力增大,会导致基片表面镀膜时膜层脱落。为了解决应力增大所导致的脱膜问题,现有解决方案有两种:一种是通过增加粘结层来提升膜层和基片的粘接力;另一种是将基片切小,减小膜层面积来减小膜层的应力,继而提升膜层在基片表面的着膜程度。然而,上述两种方法都存在一定缺陷。方案一,因为应力增加,需要增加粘结层来提升膜层和基片的粘接力,会增加膜厚,使得镀膜成本增加,增加了镀膜时长,而且由于粘结层光学特性关系,使得产品光学特性受额外的影响。方案二,把基片切小镀膜,会增加镀膜治具的要求,批量生产成本增加。同时,会增加检验测片成本。专利技术专利申请CN201710088686.8公开了一种高红外反射镀膜玻璃制备方法,并具体公开了其制备方法是将玻璃基板切割成预定尺寸后,对单个基板进行镀膜。该方法存在上述问题,无法批量生产高应力、高膜厚的镀膜玻璃。
技术实现思路
本专利技术针对现有技术存在的问题,提出了一种低成本,可大批量生产高应力、高膜厚镀膜玻璃的玻璃镀膜方法。本专利技术是通过以下技术方案得以实现的:本专利技术一种玻璃镀膜方法,包括步骤S01,在待镀膜玻璃的镀膜面设置若干横竖沟槽,以将镀膜面均匀分隔 ...
【技术保护点】
1.一种玻璃镀膜方法,其特征在于,包括:/n步骤S01,在待镀膜玻璃的镀膜面设置若干横竖沟槽,以将镀膜面均匀分隔成若干单元;/n步骤S02,超声清洗待镀膜玻璃,并进行镀膜;/n步骤S03,裂片处理,将完整的镀膜玻璃切割成单元状的小片。/n
【技术特征摘要】
1.一种玻璃镀膜方法,其特征在于,包括:
步骤S01,在待镀膜玻璃的镀膜面设置若干横竖沟槽,以将镀膜面均匀分隔成若干单元;
步骤S02,超声清洗待镀膜玻璃,并进行镀膜;
步骤S03,裂片处理,将完整的镀膜玻璃切割成单元状的小片。
2.根据权利要求1所述的一种玻璃镀膜方法,其特征在于,所述待镀膜玻璃厚度为0.1-1.00mm。
3....
【专利技术属性】
技术研发人员:陆张武,李恭剑,徐征驰,王迎,
申请(专利权)人:浙江晶驰光电科技有限公司,
类型:发明
国别省市:浙江;33
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