清洁室、局部清洁系统、其使用方法及清洁室安全系统技术方案

一种清洁室、局部清洁系统、其使用方法及清洁室安全系统，实现简便地短时间地能够构筑在清洁室内区域具有必要的清洁度的局部清洁化区域。本发明专利技术的局部清洁化系统，包括在清洁室内天花板下配置了格子状运送用轨道和沿着运送用轨道运送可能的自走式风扇过滤单元。通过将自走式风扇过滤单元，使用运送用轨道在清洁室内所规定的区域移动，可在清洁室内所规定区域形成与除该所规定区域以外的区域清洁度高的局部清洁化区域。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种制造半导体装置的制造工厂中的清洁室、局部清洁系统、其使用方法及清洁室安全系统。
技术介绍
伴随着半导体工序的精细化，对工序环境的清洁程度也逐渐提高。为此，低成本控制性好可控制清洁度的局部清洁化(小环境)方式的采用在增加。小环境方式中，使用将半导体基板暴露在环境中的局部区域的小环境内清洁度设定为等级1(粒径0.1μm以上的异物每0.028m3(1立方feet)1个以下)，这以外的区域的清洁度设定为等级1000(粒径0.1μm以上的异物每0.028m3(1立方feet)1000个以下)的清洁室是一般的。但是，对于设备的维修和故障时，小环境内或工艺室内，没有设想露出半导体基板的清洁度低环境，就有小环境等内部污染的担心。还有，相反在设备检修作业时产生的粒子等污染周围环境。为了防止这些现象，由支柱和风扇过滤单位、尼龙帘子构成的简易移动式局部清洁室，准备在任何区域的高清洁度的范围(参照专利文献1)。(专利文献1)特开平4-34743 5号公报(日本)(专利技术所要解决的课题)然而，组合这样局部清洁室的方法，运入现场及组合需要大量人手和时间，在使用于日常的设备维修是不适宜的。还有，为有效地利用清洁室面积，半导体装置的制造设备尽可能地密集配置，所以，将需要支柱的局部清洁室设置到清洁室内是非常困难的，甚至在组成局部清洁室时污染周围的环境。
技术实现思路
本专利技术，其目的在于解决上述以前的问题，实现简便地短时间地能够构筑在清洁室内区域具有必要的清洁度的局部清洁化区域的局部清洁化系统，它的使用方法及清洁室安全系统。(解决课题的方法)为了达成上述目的，本专利技术由自走式风扇过滤单元沿着设置在清洁室内的运送用轨道形成的局部清洁化区域构成局部清洁化系统。具体地讲，本专利技术的清洁室，在内部设置了半导体装置的制造设备，是以在天花板下配置了格子状运送用轨道为特征。本专利技术的清洁室，因为在天花板下配置了格子状运送用轨道，所以不需要经过人手可以在清洁室内运送任意位置的材料、零件、装置及其他，所以能够防止由于工作人员的移动所产生的清洁室内的污染。还有，通过使用运送用轨道移动风扇过滤单元，可以在清洁室内局部形成高清洁度区域。因此，既省力又提高清洁度能够两立，实现了适合于半导体装置制造的清洁室。本专利技术的局部清洁化系统，是以包括在清洁室内天花板下配置了格子状运送用轨道和沿着运送用轨道运送可能的自走式风扇过滤单元，通过使用运送用轨道在清洁室内所规定的区域移动自走式风扇过滤单元，可在清洁室内所规定区域形成与除该所规定区域以外的区域清洁度高的局部清洁化区域为特征。根据本专利技术的局部清洁化系统，因为沿着在清洁室内配置的格子状运送用轨道运送自走式风扇过滤单元，所以，只是移动风扇过滤单元就能简单地短时间地在清洁室内形成所规定位置所规定大小的局部清洁化区域。因此，在设备维修时或异常发生时能够快速对应，其结果，可以提高设备的生产性。还有，因为不再需要保留设置局部清洁空间那样的支柱的位置，所以有效地利用清洁室内的空间成为可能。再有，不需要组装作业，在可能省力的同时也防止了伴随组装作业的清洁室的污染。在本专利技术的局部清洁化系统中，自走式风扇过滤单元，最好的是具有粒子除去用过滤器或化学过滤器中至少一种。由这种构成，能够确实构筑必要的清洁度的环境。本专利技术的局部清洁化系统，最好的是还包括可以沿运送用轨道且形成遮断空气流的隔板的自走式隔板单元，通过将自走式隔板单元配置在局部清洁化区域的周围，遮断该局部清洁化区域和除该局部清洁化区域以外的区域之间的空气流。通过这样的构成，由于从其他区域向局部清洁化区域流入空气，就确实可以防止局部清洁化区域内的清洁度降低。还有，这种情况下，自走式隔板单元，最好的是喷出空气形成空气帘的空气帘单元。还有，安装可收卷帘式卷帘单元亦可。通过这样的构成确实可以分割局部清洁化区域和其他区域。本专利技术的局部清洁化系统，最好的是在清洁室外设置收纳自走式风扇过滤单元及自走式隔板单元的收纳区域，通过这样的构成，可以有效地利用清洁室内的空间。本专利技术第1使用局部清洁化系统的方法，在内部设置了半导体装置的制造设备的清洁室内，是以在天花板下配置了格子状运送用轨道，具有沿着运送用轨道运送可能的自走式风扇过滤单元，通过使用运送用轨道在清洁室内所规定的区域移动自走式风扇过滤单元，当设置了可在清洁室内所规定区域形成与除该所规定区域以外的区域清洁度高的局部清洁化区域的情况下，以包括在设置了清洁室内的半导体装置的制造设备的区域形成局部清洁化区域的工序和在局部清洁化区域中进行半导体装置的制造设备的维修工序为特点。根据本专利技术的第1使用局部清洁化系统的方法，可使进行维修的半导体装置制造设备的周围简单迅速地达到所规定的清洁度。因此，在大幅度削减了维修所需工时数的同时，也防止了维修时污染半导体装置制造设备。第1使用局部清洁化系统的方法，最好的是还包括用运送用轨道向局部清洁化区域运送维修半导体装置制造设备工序中使用的部件、工具及备件的工序。通过这样做，在容易运入维修用材料的同时，也防止了污染环境。本专利技术的第2使用局部清洁化系统的方法，以包括在内部设置了半导体装置的制造设备的清洁室内，具有在该天花板下配置了格子状运送用轨道和沿着运送用轨道运送可能的自走式风扇过滤单元，通过使用运送用轨道在清洁室内所规定的区域移动自走式风扇过滤单元，当设置了可在清洁室内所规定区域形成与除该所规定区域以外的区域清洁度高的局部清洁化区域的情况下，设置在清洁室内的运入运出口附近区域及成为运入运出通道的区域形成局部清洁化区域的工序，以及沿着局部清洁化了的运入运出通道进行运入运出半导体装置的制造设备的工序为特点。根据第2使用局部清洁化系统的方法，因为极容易将运入运出口及运入运出通道局部清洁化，所以能够保持清洁的环境的情况下运入运出设备。还有，因为可以遮断运入运出口及运入运出通道和清洁室内其他区域之间的空气流动，所以可以防止设备运入运出时清洁室内的污染。本专利技术的第3使用局部清洁化系统的方法，以包括在内部设置了半导体装置的制造设备的清洁室内，具有在该天花板下配置了格子状运送用轨道和沿着运送用轨道运送可能的自走式风扇过滤单元，通过使用运送用轨道在清洁室内所规定的区域移动自走式风扇过滤单元，当设置了可在清洁室内所规定区域形成与除该所规定区域以外的区域清洁度高的局部清洁化区域的情况下，设置在清洁室内的制造半导体装置的区域形成局部清洁化区域的工序，以及在局部清洁化区域制造半导体装置的工序为特点。根据第3使用局部清洁化系统的方法，因为使用本专利技术的局部清洁化系统局部清洁化了露出半导体基板的区域，就可以防止半导体基板由于环境的污染。还有，因为没有必要提高全清洁室的清洁度，节省半导体装置制造设备的能量使用成为可能。本专利技术的清洁室安全系统，是以包括在该天花板下配置的格子状运送用轨道，安装了气体检验装置或视认用摄像装置且沿着运送用轨道可以运送的自走式监视单元，设置在清洁室外部，进行自走式监视单元的移动及监视的自走式监视单元控制装置为特征。根据本专利技术的清洁室安全系统，因为可容易地将监视单元移动到清洁室内任何位置，所以，由监视单元确实可以监视清洁室内的状况。(专利技术效果)本专利技术的清洁室、局部清洁化系统、及其使用方法和清洁室安全系统，能够在清洁室内简本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种清洁室，其特征为：在内部设置了半导体装置的制造设备，在天花板下配置了格子状运送用轨道。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：波冈义哲，青木则茂，宫田毅，
申请(专利权)人：松下电器产业株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]