成膜装置和成膜装置的清洁方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种成膜装置和成膜装置的清洁方法。所公开的成膜装置包括：基座，其能旋转地设置在容器内，在一个面上具有用于载置基板的基板载置部；气体供给系统，其对上述基座的上述一个面供给原料气体；清洁用构造体，其具有：配置在基座的上方，朝着基座的上表面开口，并划分出倒凹状空间的第１凹状构件；在第１凹状构件的上方，朝着第１凹状构件开口并与第１凹状构件间划分出气体流路的第２凹状构件；向倒凹状空间供给清洁气体的气体供给部；以及与气体流路连通并向容器的外部延伸的排气管；以及排气口，其形成在容器上，用于对原料气体进行排气。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种成膜装置，其特征在于，包括：　　基座，其能旋转地设置在容器内；　　基板载置区域，其设置在上述基座的一个面上，用于载置基板；原料气体供给系统，其对上述基座的上述一个面供给原料气体；　　清洁用构造体，具有：第１凹状构件，其在上述基座的上方，朝着上述一个面开口，划分出倒凹状的空间；第２凹状构件，其以与上述第１凹状构件之间划分出气体流路的方式覆盖上述第１凹状构件；清洁气体供给部，其用于向上述倒凹状的空间供给清洁气体；以及排气管，其与上述气体流路连通，并向上述容器的外部延伸；以及排气口，其设置在上述容器上，用于对上述原料气体进行排气。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：加藤寿，本间学，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]