【技术实现步骤摘要】
一种真空压力控制装置
本技术涉及真空设备
，具体为一种真空压力控制装置。
技术介绍
在真空冶金或真空镀膜设备中，常需要将真空反应腔内压力控制在一定范围内，才能进行工艺流程，工作压力的稳定性决定着最终产品的质量，因此要获得稳定的工作压力，就需要有一个稳定可靠的控制系统来时刻监测、反馈、控制反应腔的压力，因此，对一种真空压力控制装置的需求日益增长。常用的控制装置，在进行使用的过程中，控制精度低，使用范围较小，不能够适用于多种真空设备，并且在对气瓶进行连接时，无法对气瓶的位置进行良好的固定，易出现气瓶晃动的情况，不利于对其进行使用，因此，针对上述问题提出一种真空压力控制装置。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种真空压力控制装置，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种真空压力控制装置，包括真空室和气瓶，所述真空室的右端面固定连接有规管，所述规管的另一端固定连接有控压表，所述控压表的另一端固定连接有软管，所述软管的另一端固定连接有变频器，所述真空室...
【技术保护点】
1.一种真空压力控制装置，包括真空室(1)和气瓶(8)，其特征在于：所述真空室(1)的右端面固定连接有规管(4)，所述规管(4)的另一端固定连接有控压表(6)，所述控压表(6)的另一端固定连接有软管(15)，所述软管(15)的另一端固定连接有变频器(7)，所述真空室(1)的底端右侧通过软管(15)固定连接有第二截止阀(3)，所述第二截止阀(3)的底端通过软管(15)固定连接有质量流量控制器(5)，所述质量流量控制器(5)的底端通过软管(15)固定连接有气瓶(8)，所述真空室(1)的底端中央位置处通过软管(15)固定连接有第一截止阀(2)，所述第一截止阀(2)的另一端通过软管...
【技术特征摘要】
1.一种真空压力控制装置，包括真空室(1)和气瓶(8)，其特征在于：所述真空室(1)的右端面固定连接有规管(4)，所述规管(4)的另一端固定连接有控压表(6)，所述控压表(6)的另一端固定连接有软管(15)，所述软管(15)的另一端固定连接有变频器(7)，所述真空室(1)的底端右侧通过软管(15)固定连接有第二截止阀(3)，所述第二截止阀(3)的底端通过软管(15)固定连接有质量流量控制器(5)，所述质量流量控制器(5)的底端通过软管(15)固定连接有气瓶(8)，所述真空室(1)的底端中央位置处通过软管(15)固定连接有第一截止阀(2)，所述第一截止阀(2)的另一端通过软管(15)固定连接有蝶阀(10)，所述蝶阀(10)的底端通过软管固定连接有电磁压差阀(12)，所述电磁压差阀(12)的另一端通过软管(15)固定连接有可变频机械泵(11)，所述真空室(1)的底端左侧通过软管(15)固定连接有闸板阀(16)，所述闸板阀(16)的另一端通过软管(15)固定连接有分子泵(14)，所述分子泵(14)的另一端通过软管(15)固定连接有电磁阀(13)。
2.根据权利要求1所述的一种真空压力控制装置，其特征在于：所述气瓶(8)的外侧设有定位框(9)，所述定位框...
【专利技术属性】
技术研发人员：姜寰，
申请(专利权)人：沈阳中科汉达科技有限公司，
类型：新型
国别省市：辽宁;21
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