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光敏半导体Zr-TCPP MOFs负载Ag纳米粒子复合材料的制备方法及其抗菌应用技术

技术编号:24061708 阅读:26 留言:0更新日期:2020-05-08 22:54
本发明专利技术属于纳米复合材料制备技术领域,涉及光催化复合抗菌材料,尤其涉及一种光敏半导体Zr‑TCPP MOFs结构负载Ag纳米粒子复合材料ZMP‑Ag的制备方法,将ZrCl

Preparation and antibacterial application of Ag nanoparticle composite supported by photosensitive semiconductor Zr TCPP MOFs

【技术实现步骤摘要】
光敏半导体Zr-TCPPMOFs负载Ag纳米粒子复合材料的制备方法及其抗菌应用
本专利技术属于纳米复合材料制备
,涉及光催化复合抗菌材料,尤其涉及一种光敏半导体Zr-TCPPMOFs结构负载Ag纳米粒子复合材料(ZMP-Ag)的制备方法及其抗菌应用。
技术介绍
目前,交叉污染和耐药细菌出现频繁,造成严重污染并威胁着人类的健康。自19世纪细菌被确认为是几种疾病的病因以来,人们就为解决细菌污染问题而做出了巨大的努力,包括酒精、刺激性化学物质和抗生素等使用。自从抗生素被发现,已拯救了数百万人的生命,但其缺陷亦不容忽视。最近,世界卫生组织透露,细菌耐药性使抗生素具有严重的健康风险,更糟糕的是,新型抗菌药物的短缺,使人类正面临着大量致病细菌的威胁。因此,新型高效的杀菌材料的研发已成为科研工作者关注和亟待解决的重大问题之一。在新型抗菌材料中,纳米抗菌材料应用是处理细菌污染和抗生素耐药性的方法之一。在众多的纳米粒子中,由金属和有机骨架组成的金属有机骨架(MOFs)是解决此类问题的有效途径。MOFs具有比表面积大、分子结构良好、合成条件温本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光敏半导体Zr-TCPP MOFs结构负载Ag纳米粒子复合材料的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:/nA)水热法合成ZPM,将ZrCl

【技术特征摘要】
1.一种光敏半导体Zr-TCPPMOFs结构负载Ag纳米粒子复合材料的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:
A)水热法合成ZPM,将ZrCl4、苯甲酸加入DMF中混匀,再加入水和卟啉,混合均匀成溶液,其中ZrCl4、苯甲酸、DMF、水、卟啉的质量体积比为0.1~10mg:100~500mg:1~50mL:10~500μL:1~50mg,将溶液移入反应釜,50~200℃水热反应1~48h,自然冷却至室温,离心分离得到沉淀物,分别用乙醇和水进行多次分离纯化,制得Zr-TCPPMOFs(ZPM);
B)水热法将银纳米粒子负载到ZPM上,将ZPM溶于0.1~10mM的AgNO3溶液,混合均匀,其中ZPM、AgNO3溶液的质量体积比为1~100mg:10mL,将溶液移入反应釜,50~200℃持续反应1~48h,自然冷却至室温,离心分离得到沉淀物,分别用乙醇和水进行多次分离纯化,制得ZMP-Ag。


2.根据权利要求1所述光敏半导体Zr-TCPPMOFs结构负载Ag纳米粒子复合材料的制备方法,其特征在于:步骤A)中所述ZrCl4、苯甲酸、DMF、水、卟啉的质量体积比为10mg:200mg:3mL:300μL:8mg。


3.根据权利要求1所述光敏半...

【专利技术属性】
技术研发人员:邱凤仙毛凯丽朱瑶陈华友荣坚张涛杨冬亚
申请(专利权)人:江苏大学
类型:发明
国别省市:江苏;32

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