一种陶瓷真空镀铜预处理窑制造技术

本实用新型专利技术公开了一种陶瓷真空镀铜预处理窑，包括隧道窑，所述隧道窑一端密封，另一端设置有液压插板阀；所述隧道窑内两侧轴向设置有滑轨；所述隧道窑内于滑轨之间安装有风管撑脚；所述风管撑脚上固定有风管；所述风管上间隔安装有多组轰击罩；所述轰击罩与风管内部连通；所述风管靠近液压插板阀一端密封，另一端固定到进气法兰；所述进气法兰固定于隧道窑其密封一端外部；本实用新型专利技术的陶瓷真空镀铜预处理窑，通过镀膜舱室热风对陶瓷基材进行预处理，预处理时，通过热风直接轰击镀膜面，同时镀膜舱室内，采用高温和抽真空同步动作，将镀膜舱室内的陶瓷进行加热和间隙杂质抽离，提高镀膜层和陶瓷的结合力。

A ceramic vacuum copper plating pretreatment kiln

【技术实现步骤摘要】
一种陶瓷真空镀铜预处理窑
本技术涉及一种陶瓷镀铜预处理设备，具体涉及一种陶瓷真空镀铜预处理窑，属于真空镀膜

技术介绍
真空镀膜是指利用物理过程实现物质转移，将原子或分子由源转移到基材表面上的过程；它的作用是可以使某些有特殊性能（强度高、耐磨性、散热性、耐腐性等）的微粒喷涂在性能较低的母体上，使得母体具有更好的性能；PVD基本方法：真空蒸发、溅射、离子镀（空心阴极离子镀、热阴极离子镀、电弧离子镀、活性反应离子镀、射频离子镀、直流放电离子镀）；真空蒸发镀膜一般应用于纯度极高的膜、绝缘物的蒸镀和高熔点物质的蒸镀，其是在真空情况下，将所要蒸镀的材料利用加热设备加热到融化温度，使原子蒸发，到达并附着在基板表面上的一种镀膜方式；镀膜和基材结合力是否牢固，即镀膜和基材的附着力大小，是判断镀膜质量好坏的一个指标，其中，陶瓷镀铜膜其在镀膜前，需要对陶瓷进行清洗和烘干等作业，由于陶瓷前处理过程中，陶瓷表面残存水汽和其他气体杂质，如果直接对其进行镀膜，容易影响铜膜和陶瓷结合力，造成产品质量不合格。
技术实现思路
为解决上述问题，本技术提出了本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种陶瓷真空镀铜预处理窑，其特征在于：包括隧道窑，所述隧道窑一端密封，另一端设置有液压插板阀；所述隧道窑内两侧轴向设置有滑轨；所述隧道窑内于滑轨之间安装有风管撑脚；所述风管撑脚上固定有风管；所述风管上间隔安装有多组轰击罩；所述轰击罩与风管内部连通；所述风管靠近液压插板阀一端密封，另一端固定到进气法兰；所述进气法兰固定于隧道窑其密封一端外部；所述滑轨上滑动安装有车架；所述车架底部设置有与滑轨活动安装的导轮；所述车架顶部安装有陶瓷基板摆放架。/n

【技术特征摘要】
1.一种陶瓷真空镀铜预处理窑，其特征在于：包括隧道窑，所述隧道窑一端密封，另一端设置有液压插板阀；所述隧道窑内两侧轴向设置有滑轨；所述隧道窑内于滑轨之间安装有风管撑脚；所述风管撑脚上固定有风管；所述风管上间隔安装有多组轰击罩；所述轰击罩与风管内部连通；所述风管靠近液压插板阀一端密封，另一端固定到进气法兰；所述进气法兰固定于隧道窑其密封一端外部；所述滑轨上滑动安装有车架；所述车架底部设置有与滑轨活动安装的导轮；所述车架顶部安装有陶瓷基板摆放架。


2.根据权利要求1所述的陶瓷真空镀铜预处理窑，其特征在于：所述进气法兰连接到镀铜舱室抽真空排气设备。


3.根据权利要求1所述的陶瓷真空镀铜预处理窑，其特征在于：所述进气法兰通...

【专利技术属性】
技术研发人员：乔利杰，宋述兵，杨会生，庞晓露，王瑞俊，郑宝林，
申请(专利权)人：山东司莱美克新材料科技有限公司，
类型：新型
国别省市：山东;37