研磨用组合物制造技术

提供：可以兼顾高研磨速率和表面品质的研磨用组合物。通过本发明专利技术可以提供：用于对研磨对象材料进行研磨的研磨用组合物。该研磨用组合物包含偏钒酸钠、过氧化氢、和二氧化硅磨粒。偏钒酸钠的含量C1为0.7重量％～3.5重量％，过氧化氢的含量C2为0.3重量％～3重量％，二氧化硅磨粒的含量C3为12重量％～50重量％。

Abrasive composition

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】研磨用组合物
本专利技术涉及研磨用组合物。详细而言，涉及用于研磨对象材料的研磨。本申请基于2017年9月29日申请的日本专利申请2017-189363号主张优先权，该申请的全部内容作为参照而并入到本说明书中。
技术介绍
对于金刚石、蓝宝石(氧化铝)、碳化硅、碳化硼、碳化钨、氮化硅、氮化钛等研磨对象材料的表面，通常通过向研磨压盘供给金刚石磨粒并进行的研磨(打磨，lapping)来加工。然而，在使用金刚石磨粒的打磨中，由于划痕的产生、残留等，容易发生缺陷、变形。因此，正在研究在使用了金刚石磨粒的打磨之后、或代替该打磨，使用研磨垫，向该研磨垫与研磨对象物之间供给研磨浆料而进行的研磨(抛光，polishing)。作为公开这种现有技术的文献，可举出专利文献1。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特许第5095228号公报
技术实现思路
专利技术要解决的问题近年来，对碳化硅等研磨物(例如半导体基板及其他基板)，变得要求更高品质的表面。因此，需要满足研磨速率(每单位时间去除研磨对象物的表面的量)相关本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种研磨用组合物，其用于研磨对象物的研磨，/n所述研磨用组合物包含：偏钒酸钠、过氧化氢、和二氧化硅磨粒，/n所述偏钒酸钠的含量C1为0.7重量％～3.5重量％，/n所述过氧化氢的含量C2为0.3重量％～3重量％，/n所述二氧化硅磨粒的含量C3为12重量％～50重量％。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20170929 JP 2017-1893631.一种研磨用组合物，其用于研磨对象物的研磨，
所述研磨用组合物包含：偏钒酸钠、过氧化氢、和二氧化硅磨粒，
所述偏钒酸钠的含量C1为0.7重量％～3.5重量％，
所述过氧化氢的含量C2为0.3重量％～3重量％，
所述二氧化硅磨粒的含量C3为12重量％～50重量％。


2.根据权利要求1所述的研磨用组合物，其中，所述过氧化氢的含量C2相对于所述偏钒酸钠的含量C1的比(C2/C1)以重量基准计为0.5以上且2以下，
所述二氧化硅磨粒的含量C3相对于所述偏钒酸钠的含量C1的比(C3/C1)以重量基准计为5以上且40...

【专利技术属性】
技术研发人员：今宏树，野口直人，
申请(专利权)人：福吉米株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP