研磨液、玻璃基板的制造方法以及磁盘的制造方法技术

在通过激光衍射/散射法对研磨液中包含的氧化铈求出的粒度分布中，将从小粒径侧起的累积颗粒体积达到全部颗粒体积的x[％]时的粒径设为Dx[μm]时，D5为1μm以下，D95与D5之差为3μm以上。

Manufacturing methods of abrasive solution, glass substrate and disk

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】研磨液、玻璃基板的制造方法以及磁盘的制造方法
本专利技术涉及研磨液、使用了该研磨液的玻璃基板的制造方法以及磁盘的制造方法，该研磨液包含氧化铈作为游离磨粒，用于对玻璃基板的表面进行研磨的研磨处理。
技术介绍
目前，在个人计算机、DVD(DigitalVersatileDisc，数字多功能光盘)记录装置等中内置有用于数据记录的硬盘装置(HDD：HardDiskDrive，硬盘驱动器)。在硬盘装置中，使用在基板设有磁性层的磁盘，利用在磁盘的面上略微悬浮的磁头在磁性层记录或读取磁记录信息。在近年的硬盘装置中，为了增大存储容量，谋求磁记录的高密度化。为了实现该磁密度的高密度化，要求尽可能减小作为磁盘的基板使用的玻璃基板的主表面的表面凹凸。另外，与之相伴，为了不使在端面的表面凹凸的微小间隙中附着的微粒飞散、转移到玻璃基板的主表面，还要求尽可能减小玻璃基板的内外周端面的表面凹凸。另外，在进行玻璃基板的研磨处理的情况下，有时使用氧化铈作为游离磨粒。氧化铈例如作为游离磨粒被用在玻璃基板的主表面的研磨的一个处理中，另外，被用在玻璃基板的内外周端面的研磨处理中。例如，在制造磁盘用玻璃基板时，对玻璃原料的内外周端面进行了倒角加工后，使用包含氧化铈作为游离磨粒的研磨液和刷，通过毛刷研磨进行内外周端面的镜面加工(例如专利文献1)。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2012-20377号公报
技术实现思路
专利技术所要解决的课题若这样的氧化铈被用作研磨液中的游离磨粒，即便在相同的研磨处理条件下进行研磨处理，也会产生研磨速率降低的情况。这种情况下，需要根据研磨速率的变化来变更研磨处理的条件。另外，存在必须提高将含有氧化铈的研磨液更换成新研磨液的频率这样的生产效率的问题。另外，由于氧化铈比较昂贵，因此若更换频率提高，则还会导致生产成本增加。因此，本专利技术的目的在于提供一种研磨液、使用了该研磨液的玻璃基板的制造方法以及磁盘的制造方法，其中，在使用包含氧化铈作为游离磨粒的研磨液进行玻璃基板的研磨处理时，该研磨液即便反复用于研磨处理，研磨速率的变化也小，能够长时间反复用于研磨处理。用于解决课题的手段本专利技术的一个方式为一种研磨液，该研磨液包含氧化铈作为游离磨粒，用于对玻璃基板的表面进行研磨的研磨处理。在通过激光衍射/散射法对上述氧化铈求出的粒度分布中，将从小粒径侧起的累积颗粒体积达到全部颗粒体积的x[％]时的粒径设为Dx[μm]时，D5为1μm以下，D95与D5之差为3μm以上。上述D95与D5之差优选为4μm以上。上述D95优选为7μm以下。优选用于使用刷对玻璃基板的端面进行研磨的研磨处理。本专利技术的另一方式为一种玻璃基板的制造方法，其包括对基板的表面进行研磨的处理。该制造方法中的上述研磨是使用上述研磨液对上述玻璃基板进行研磨的处理。上述玻璃基板优选为磁盘用玻璃基板。上述磁盘用玻璃基板的外周的直径优选为94mm以上。本专利技术的又一方式为一种磁盘的制造方法，其包括下述处理：在通过上述玻璃基板的制造方法得到的上述磁盘用玻璃基板的主表面至少形成磁性层。专利技术的效果根据上述研磨液，在使用包含氧化铈作为游离磨粒的研磨液进行玻璃基板的研磨处理时，即便反复用于研磨处理，研磨速率的变化也小，能够长时间反复用于研磨处理。因此，即便将上述研磨液反复用于研磨处理，变更研磨处理条件的频率也少，能够长时间将相同的研磨液用于研磨处理。根据上述玻璃基板的制造方法以及磁盘的制造方法，能够使用上述研磨液稳定地进行研磨处理，因此能够稳定地进行玻璃基板的制造和磁盘的制造。附图说明图1是示出一个实施方式中的游离磨粒的粒度分布的一例的示意图。图2是示出现有的游离磨粒的粒度分布的一例的示意图。具体实施方式以下，对本专利技术的实施方式的研磨液、玻璃基板的制造方法以及磁盘的制造方法进行详细说明。需要说明的是，本实施方式的玻璃基板的制造方法适合于例如公称2.5～3.5英寸尺寸(例如直径53～98mm)、板厚0.3～2.0mm的磁盘用玻璃基板的制造。本专利技术人对使用了将氧化铈作为游离磨粒的研磨液的研磨处理进行了研究，结果发现，氧化铈的颗粒中包含比较脆的颗粒，由于研磨处理，磨粒破碎，粒度分布容易发生变化。若将研磨液反复用于研磨处理，大的颗粒例如分成2个，相对小的颗粒的比例急剧增大。需要说明的是，还发现，由于颗粒中还包含非常硬而未破碎的颗粒，因此大颗粒的频率完全为零并不常见。推测这是因为，即使在大颗粒破碎的情况下，也不是从中心以大致同等的尺寸分成两个，而是大多以从大颗粒剥下1μm以下的小颗粒的方式分离，大颗粒依然得到维持。即，表示相对于氧化铈的粒径的频率的粒度分布随着向小粒径侧扩展，频率急剧增加，大粒径侧的频率降低，因此粒度分布变化成向小粒径侧扩展的宽分布。因此发现，在使用初期的粒径统一的研磨液、即粒径的频率集中在粒径狭窄的范围的研磨液的情况下，难以长时间维持使用初期的研磨速率。基于这种见解，对氧化铈的粒径的频率分布(粒度分布)进行各种变化，并调查了使用初期的研磨液的研磨速率的变化。其结果，发现：通过在研磨液中使用游离磨粒的粒度分布为比以往宽的分布、且在某种程度上包含小粒径区域的特定分布的氧化铈，即便反复进行研磨处理，也能将粒度分布变化的影响抑制为较小，研磨速率的变化小，能够长时间反复用于研磨处理。基于这种背景，专利技术人发现了下述方式的研磨液。在下述说明中，主要将制造磁盘用玻璃基板时的形状加工处理后的玻璃坯板作为使用研磨液进行研磨处理的对象基板来进行说明，但不限于磁盘用玻璃基板的玻璃坯板，进行研磨处理的对象基板只要是进行将氧化铈用作游离磨粒的研磨处理的玻璃(玻璃基板)即可，没有特别限制。例如，可以举出实施了端面的研磨处理的玻璃坯板、即中间体的玻璃基板的主表面、或者掩模坯用玻璃基板、液晶用玻璃基板、盖玻片用玻璃基板、透镜等光学部件用玻璃等的主表面。以下，玻璃坯板或中间体的玻璃基板统称为玻璃基板，但根据需要也称为玻璃坯板或中间体的玻璃基板。在磁盘用玻璃基板的制造过程中，对玻璃基板的主表面或内外周端面进行研磨处理，减小表面凹凸。这种情况下，在研磨液中使用氧化铈作为游离磨粒。游离磨粒根据研磨速率和所要求的研磨后的表面品质对粒径进行某种程度的限定，设定平均粒径。但是，通过将这样的游离磨粒长时间用于研磨处理，研磨速率发生变化。研磨速率容易因游离磨粒的粒径而变化，特别是，作为游离磨粒使用的氧化铈包含容易破碎的颗粒，因此研磨速率的降低容易变大。如上所述，研磨速率的降低是由于，通过进行研磨处理，氧化铈中对研磨速率的贡献大的大粒径的颗粒破碎而成为小颗粒，粒径的频率分布发生变化。因此，若使用具有即便通过进行研磨处理而使氧化铈中的大粒径颗粒破碎，粒径的频率分布也不发生大幅变化这样的粒度频率分布的氧化铈来设定研磨处理条件，即便利用该研磨液反复进行研磨处理，也能抑制粒度分布的变化为较低水平，能够减小研本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种研磨液，该研磨液包含氧化铈作为游离磨粒，用于对玻璃基板的表面进行研磨的研磨处理，该研磨液的特征在于，/n在通过激光衍射/散射法对所述氧化铈求出的粒度分布中，将从小粒径侧起的累积颗粒体积达到全部颗粒体积的x％时的粒径设为Dx时，/nD5为1μm以下，/nD95与D5之差为3μm以上，/n其中，所述Dx的单位为μm。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20171031 JP 2017-2108171.一种研磨液，该研磨液包含氧化铈作为游离磨粒，用于对玻璃基板的表面进行研磨的研磨处理，该研磨液的特征在于，
在通过激光衍射/散射法对所述氧化铈求出的粒度分布中，将从小粒径侧起的累积颗粒体积达到全部颗粒体积的x％时的粒径设为Dx时，
D5为1μm以下，
D95与D5之差为3μm以上，
其中，所述Dx的单位为μm。


2.如权利要求1所述的研磨液，其中，所述D95与D5之差为4μm以上。


3.如权利要求1或2所述的研磨液，其中，所述D95为7μm以下。


4.如权利要求1～3中任一项所述的研磨液，其中，所述研磨液用于使用刷对玻璃基板的端面进行研磨的研磨处理。...

【专利技术属性】
技术研发人员：泷泽利雄，
申请(专利权)人：HOYA株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP