研磨液、玻璃基板的制造方法以及磁盘的制造方法技术

在通过激光衍射/散射法对研磨液中包含的氧化铈求出的粒度分布中，将从小粒径侧起的累积颗粒体积达到全部颗粒体积的x[％]时的粒径设为Dx[μm]时，D5为1μm以下，D95与D5之差为3μm以上。

Manufacturing methods of abrasive solution, glass substrate and disk

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】研磨液、玻璃基板的制造方法以及磁盘的制造方法
本专利技术涉及研磨液、使用了该研磨液的玻璃基板的制造方法以及磁盘的制造方法，该研磨液包含氧化铈作为游离磨粒，用于对玻璃基板的表面进行研磨的研磨处理。
技术介绍
目前，在个人计算机、DVD(DigitalVersatileDisc，数字多功能光盘)记录装置等中内置有用于数据记录的硬盘装置(HDD：HardDiskDrive，硬盘驱动器)。在硬盘装置中，使用在基板设有磁性层的磁盘，利用在磁盘的面上略微悬浮的磁头在磁性层记录或读取磁记录信息。在近年的硬盘装置中，为了增大存储容量，谋求磁记录的高密度化。为了实现该磁密度的高密度化，要求尽可能减小作为磁盘的基板使用的玻璃基板的主表面的表面凹凸。另外，与之相伴，为了不使在端面的表面凹凸的微小间隙中附着的微粒飞散、转移到玻璃基板的主表面，还要求尽可能减小玻璃基板的内外周端面的表面凹凸。另外，在进行玻璃基板的研磨处理的情况下，有时使用氧化铈作为游离磨粒。氧化铈例如作为游离磨粒被用在玻璃基板的主表面的研磨的一个处理中，另外，被用在玻璃基板的内外周端面的本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种研磨液，该研磨液包含氧化铈作为游离磨粒，用于对玻璃基板的表面进行研磨的研磨处理，该研磨液的特征在于，/n在通过激光衍射/散射法对所述氧化铈求出的粒度分布中，将从小粒径侧起的累积颗粒体积达到全部颗粒体积的x％时的粒径设为Dx时，/nD5为1μm以下，/nD95与D5之差为3μm以上，/n其中，所述Dx的单位为μm。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20171031 JP 2017-2108171.一种研磨液，该研磨液包含氧化铈作为游离磨粒，用于对玻璃基板的表面进行研磨的研磨处理，该研磨液的特征在于，
在通过激光衍射/散射法对所述氧化铈求出的粒度分布中，将从小粒径侧起的累积颗粒体积达到全部颗粒体积的x％时的粒径设为Dx时，
D5为1μm以下，
D95与D5之差为3μm以上，
其中，所述Dx的单位为μm。


2.如权利要求1所述的研磨液，其中，所述D95与D5之差为4μm以上。


3.如权利要求1或2所述的研磨液，其中，所述D95为7μm以下。


4.如权利要求1～3中任一项所述的研磨液，其中，所述研磨液用于使用刷对玻璃基板的端面进行研磨的研磨处理。...

【专利技术属性】
技术研发人员：泷泽利雄，
申请(专利权)人：HOYA株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP