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研磨液、玻璃基板的制造方法以及磁盘的制造方法技术
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文档序号:24018312
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在通过激光衍射/散射法对研磨液中包含的氧化铈求出的粒度分布中,将从小粒径侧起的累积颗粒体积达到全部颗粒体积的x[%]时的粒径设为Dx[μm]时,D5为1μm以下,D95与D5之差为3μm以上。...
该专利属于HOYA株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过HOYA株式会社授权不得商用。
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