一种三价铬电镀溶液制造技术

本发明专利技术公开了一种三价铬电镀溶液，镀液成份为：氯化铬1.3～1.5mol/L，配位剂3.1～3.5mol/L，缓冲剂0.9～1.2mol/L，导电盐2.1～2.5mol/L，有机添加剂36～40g/L，其余为水，本发明专利技术提供一种成本简单、对杂质容忍度高、镀液维护简单且惰性低的三价铬电镀溶液。

A trivalent chromium electroplating solution

【技术实现步骤摘要】
一种三价铬电镀溶液
本专利技术涉及电镀领域，尤其涉及一种三价铬电镀溶液。
技术介绍
电镀铬层硬度高，具有较好的耐磨性和耐腐蚀性，并且具有优良的装饰性，常被用作电子电气设备、五金工具等装饰性镀层和活塞、模具、轴类等的功能性镀层，应用十分广泛，现在世界上电镀铬层绝大部分都是采用六价铬电镀工艺，三价铬毒性比六价铬毒性小100倍，三价铬电镀技术被认为是一种很有希望取代六价铬电镀的环保化技术，据现有技术，三价铬镀液成分复杂，对杂质容忍度低，镀液维护困难，并且由于三价铬离子配合物惰性较高，易发生水解、羟合、氧合等反应，镀层增厚困难。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题是：克服以上现有技术的缺陷，提供一种成本简单、对杂质容忍度高、镀液维护简单且惰性低的三价铬电镀溶液。为了实现上述目的，本专利技术的技术方案是：一种三价铬电镀溶液，镀液成份为：氯化铬1.3～1.5mol/L，配位剂3.1～3.5mol/L，缓冲剂0.9～1.2mol/L，导电盐2.1～2.5mol/L，有机添加剂36～40g/L，其余为水。所述的配位剂为甲酸、乙酸、乙醇酸及其盐，以及甲醇、尿素、乙内酰脲中的一种或两种以上。所述的缓冲剂为硼酸、氯化铝、柠檬酸钠中的一种或两种以上。所述的有机添加剂为聚乙二醇、聚乙烯醇、丁炔二醇、聚乙烯亚胺、烷基酚聚氧乙烯醚中的一种。采用以上结构后，本专利技术与现有技术相比具有以下优点：本专利技术采用氯化物镀液体系和高密度石墨阳极，在25～45A/dm2的电流密度下制备出表面平整、结晶致密、与基体结合力好、厚度可达60μm以上的三价铬镀层，镀层硬度HV800以上，成本简单、对杂质容忍度高、镀液维护简单且惰性低。具体实施方式下面结合具体实施方式对本专利技术作进一步说明。一种三价铬电镀溶液，镀液成份为：氯化铬1.3～1.5mol/L，配位剂3.1～3.5mol/L，缓冲剂0.9～1.2mol/L，导电盐2.1～2.5mol/L，有机添加剂36～40g/L，其余为水。实施例一一种三价铬电镀溶液，镀液成份为：氯化铬1.3mol/L，配位剂3.1mol/L，缓冲剂0.9mol/L，导电盐2.1mol/L，有机添加剂36g/L，其余为水。实施例二一种三价铬电镀溶液，镀液成份为：氯化铬1.4mol/L，配位剂3.3mol/L，缓冲剂1.1mol/L，导电盐2.3mol/L，有机添加剂38g/L，其余为水。实施例三一种三价铬电镀溶液，镀液成份为：氯化铬1.5mol/L，配位剂3.5mol/L，缓冲剂1.2mol/L，导电盐2.5mol/L，有机添加剂40g/L，其余为水。本专利技术并不局限于上述实施方式，如果对本专利技术的各种改动或变形不脱离本专利技术的精神和范围，倘若这些改动和变形属于本专利技术的权利要求和等同技术范围之内，则本专利技术也意图包含这些改动和变形。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种三价铬电镀溶液，其特征在于：镀液成份为：氯化铬1.3～1.5mol/L，配位剂3.1～3.5mol/L，缓冲剂0.9～1.2mol/L，导电盐2.1～2.5mol/L，有机添加剂36～40g/L，其余为水。/n

【技术特征摘要】
1.一种三价铬电镀溶液，其特征在于：镀液成份为：氯化铬1.3～1.5mol/L，配位剂3.1～3.5mol/L，缓冲剂0.9～1.2mol/L，导电盐2.1～2.5mol/L，有机添加剂36～40g/L，其余为水。


2.根据权利要求1所述的一种三价铬电镀溶液，其特征在于：所述的配位剂为甲酸、乙酸、乙醇酸及其盐，以及甲醇、尿素、乙内酰脲中的一种或两种以上。


3.根据权利要求1所述的一种三价铬电镀溶液，其特征在于：所述的缓冲剂为硼酸、氯化铝、柠檬酸钠中的一种或两种以上。


4.根据权利要求1所述的一种三价铬电镀溶液，其特征在于：所述的导电盐为氯化钠、氯化铵中的一种或两种以上。


5.根据权利要求1所述的一种三价铬电镀溶液，其特征在于：所述的有机添加剂为聚...

【专利技术属性】
技术研发人员：王志和，
申请(专利权)人：江门市顺高电镀有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44