【技术实现步骤摘要】
含有C-Si键的甲基二苯基硅烷类化合物的合成方法
本专利技术属于有机合成化学
,涉及一种含有C-Si键的甲基二苯基硅烷类化合物的合成方法。
技术介绍
近年来,过渡金属催化的C-H键官能化已成为催化领域的研究热点。这种C-H键官能化策略提供了一种简洁的途径,将C-H键直接转化为各种有价值的C-C和C-杂原子键(例如,C-卤化物,C-O,C-N和C-S),这将简化许多合成过程并减少不需要的副产物的形成。在C-C键形成的方法中,两个C-H键的催化脱氢交叉偶联代表了原子和经济的理想策略。然而,已知的反应通常具有高反应温度,低化学选择性,区域选择性以及狭窄的底物范围。考虑到这些限制以及上述有机卤化物和有机金属试剂的缺点,合成化学家一直在寻求通过C-H键官能化形成C-C键的新偶联配偶体,同时尝试一步构建在生物与药物以及材料中广泛含有的C-Si键。文献1采用苯基硅烷为原料,二碘曙红为光催化剂,氢氧化钾为碱,叔丁基过氧化氢为氧化剂,1,2-二氯乙烷、水为溶剂,25W白灯光照的条件下,反应36h得到C-Si键苯基环硅烷化合物(A ...
【技术保护点】
1.含有C-Si键的甲基二苯基硅烷类化合物的合成方法,其特征在于,具体步骤如下:/n在硝酸银的催化作用下,以过硫酸钾为氧化剂,乙腈为溶剂,二甲基苯基硅羧酸、含炔或烯烃的化合物为原料,采用一锅法,混合后在50℃~100℃反应,反应结束后过短硅胶柱,水洗后乙酸乙酯萃取,除去溶剂得粗产物,粗产物经柱层析分离后即得含有C-Si键的甲基二苯基硅烷类化合物;/n所述的含有C-Si键的甲基二苯基硅烷类化合物的结构式如式III所示,/n
【技术特征摘要】
1.含有C-Si键的甲基二苯基硅烷类化合物的合成方法,其特征在于,具体步骤如下:
在硝酸银的催化作用下,以过硫酸钾为氧化剂,乙腈为溶剂,二甲基苯基硅羧酸、含炔或烯烃的化合物为原料,采用一锅法,混合后在50℃~100℃反应,反应结束后过短硅胶柱,水洗后乙酸乙酯萃取,除去溶剂得粗产物,粗产物经柱层析分离后即得含有C-Si键的甲基二苯基硅烷类化合物;
所述的含有C-Si键的甲基二苯基硅烷类化合物的结构式如式III所示,
R1选自酯基、苄腈基或4-甲基苯基,
所述的含炔或烯烃的化合物,其结构式如式II所示,
R2选自高价碘基。
2.根据权利要求1所述的...
【专利技术属性】
技术研发人员:姜超,汪涛,李建华,
申请(专利权)人:南京理工大学,
类型:发明
国别省市:江苏;32
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