【技术实现步骤摘要】
一种α-(Al,Cr)2O3膜的制备方法
本专利技术涉及一种α-(Al,Cr)2O3膜的制备方法。
技术介绍
α-Al2O3熔点高、高温化学稳定性好,在1200℃其硬度仍高达HRA80;用α-Al2O3制作的刀具涂层高速切削时也不发生扩散和粘结磨损。氧化铝有多种同质异晶体。在大气环境下热分解Al(OH)3,随着温度的升高可分别得到非晶、γ、δ、η、θ、κ和α晶型Al2O3。除了α-Al2O3外,其余的均为亚稳相氧化铝,硬度也较低,在1000℃以上均能转化为α-Al2O3,并伴随有体积变化,形成相变应力而使薄膜开裂或崩落。用化学气相沉积法(CVD)在1000℃以上分解AlCl3,能制备出单相α-Al2O3涂层。但是CVD法排出的尾气对环境有负面影响,过高的沉积温度还增大涂层的热应力限制了基体的选择范围。采用无环境影响的物理气相沉积(PVD)法实现低温沉积α-Al2O3涂层,一直是学者们的目标。低温沉积氧化铝的关键,是避免形成亚稳相氧化铝。因为氧化铝是良好的电绝缘材料,避免在化合物模式下靶表面打火(靶中毒)是用反应溅射沉积制备氧化铝的另一个关键问题。近十多年发展的高功率脉冲反应磁控溅射(HighPowerPulsedMagnetronSputtering,HPPMS)能缓和甚至消除靶中毒,并在650℃沉积出α-Al2O3薄膜。α-Cr2O3与α-Al2O3的晶体结构相同,晶格失配很小,力学性能相近且易于低温形成,氧化AlCr合金能显著降低α-Al2O3的形成温度。目前全自动国产大功率射频匹配器仍然不足,因此学者们更多致力 ...
【技术保护点】
1.一种α-(Al,Cr)
【技术特征摘要】
1.一种α-(Al,Cr)2O3膜的制备方法,其特征在于包括如下步骤:将Si(100)基体在丙酮、无水乙醇及去离子水中各超声清洗20-30min,60-70℃烘干后置入样品沉积室;用纯Al和Cr含量为50%的AlCr合金靶作靶材,靶-基距离为54-58mm,通过加热电炉控制温度为510-530℃,抽本底真空至5×10-4Pa后通入Ar与O2的混合气,分压为0.5-0.7Pa,高功率脉冲波形为方波,脉冲宽度为27-29μs,频率为1KHz,平均功率密度为8W/cm2,峰值功率密度为177W/cm2,沉积时间为140-160min,即得。
2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于:将Si(10...
【专利技术属性】
技术研发人员:不公告发明人,
申请(专利权)人:海门市源美美术图案设计有限公司,
类型:发明
国别省市:江苏;32
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