一种量子点彩膜基板及其制作方法技术

技术编号:23895912 阅读:33 留言:0更新日期:2020-04-22 08:29
本申请公开了一种量子点彩膜基板及其制作方法,该量子点彩膜基板包括玻璃基板,所述玻璃基板一侧设有量子点层和黑色挡墙,黑色挡墙上设有若干像素开口,量子点层包括若干设于各像素开口内的彩色滤光膜,量子点层远离玻璃基板的一侧设有导光封装层,导光封装层包括与各彩色滤光膜一一对应的若干凸透膜;通过在量子点层受光照的一侧设置带有凸透膜结构的导光封装层,该凸透膜的凸面结构在量子点彩膜基板中起到凸透镜聚光的作用,引导更多的入射光照向彩色滤光膜,使得更多的光可以穿过量子点层,降低入射光被黑色挡墙吸收的几率,在不增加入射光光强的条件下,提高了入射光的光利用率;同时,该导光封装层也起到了阻隔水氧并封装彩色滤光膜的作用。

A quantum dot color film substrate and its fabrication method

【技术实现步骤摘要】
一种量子点彩膜基板及其制作方法
本申请涉及显示面板
,尤其涉及一种量子点彩膜基板及其制作方法。
技术介绍
量子点(QD,QuantumDot)材料因其发光波长可调、半峰宽窄和稳定性好的特点被越来越多的应用于显示器件中;目前来说,QD材料主要用于量子点管(QDTube)和彩色滤光膜片(QDFilm)中,然而这两种应用被局限于液晶显示器中(LCD);利用QD材料的光致发光特点,把QD材料应用在彩膜(CF,ColorFilter)上,可以大大提高QD材料的应用领域(如OLED、MicroLED等)。现有的具有量子点彩膜基板结构的显示面板中,显示面板中的背光模组的发光器件(如蓝光发光器件)对其量子点彩膜基板发出的入射光很多都是散射光,在传播过程中,会有部分的散射光被量子点彩膜基板中的黑色挡墙(黑色bank材料)所吸收,不能穿过量子点彩膜基板,从而造成显示面板光利用率低下,并且使得显示面板的显示较暗,现有的解决方式是提高显示面板的中发光器件的发光强度,弥补光利用率低下的问题,但会造成高耗能浪费的问题。
技术实现思路
本申请实施例提供一种量子点彩膜基板及其制作方法,以解决量子点彩膜基板在显示面板中,对于发光器件发出的入射光由于散射无法穿过量子点彩膜基板而导致光利用率低下的问题。本申请实施例提供了一种量子点彩膜基板,包括玻璃基板,所述玻璃基板一侧设有量子点层和黑色挡墙,所述黑色挡墙上设有若干像素开口,所述量子点层包括若干设置于各所述像素开口内的彩色滤光膜,所述量子点层远离所述玻璃基板的一侧设有导光封装层,所述导光封装层包括与各所述彩色滤光膜一一对应的若干凸透膜。根据本专利技术一优选实施例,所述导光封装层还包括设于所述凸透膜之间的平坦过渡膜,所述平坦过渡膜与所述凸透膜为一体成型。根据本专利技术一优选实施例,所述凸透膜远离所述彩色滤光膜的一侧为弧面。根据本专利技术一优选实施例,所述导光封装层在垂直于所述量子点层方向上的正投影覆盖各所述彩色滤光膜在垂直于所述量子点层方向上的正投影。根据本专利技术一优选实施例,所述量子点层靠近所述玻璃基板的一侧设有封装薄膜。根据本专利技术一优选实施例,还包括一彩膜层,所述彩膜层设于所述封装薄膜与所述玻璃基板之间。根据本专利技术一优选实施例,所述彩膜层包括若干与量子点层中各所述彩色滤光膜的位置一一对应的光阻膜。根据本专利技术一优选实施例,所述导光封装层的材料为透明光阻材料。根据本专利技术的上述目的,还提供一种量子点彩膜基板的制作方法,包括:提供一玻璃基板;在所述玻璃基板一侧依次形成黑色挡墙和量子点层,所述黑色挡墙上形成有若干像素开口;所述量子点层包括若干形成于各所述像素开口内的彩色滤光膜;在所述量子点层远离所述玻璃基板的一侧形成导光封装层,所述导光封装层包括与各所述彩色滤光膜一一对应的若干凸透膜。根据本专利技术一优选实施例,所述包含若干凸透膜的导光封装层采用纳米压印或喷墨打印的方式形成于所述量子点层远离所述玻璃基板的一侧。本申请的有益效果为:本专利技术通过在量子点层受光照的一侧设置带有凸透膜结构的导光封装层,该凸透膜的凸面结构在量子点彩膜基板中起到凸透镜聚光的作用,引导更多的入射光照向彩色滤光膜,也增加了原有照向量子点彩膜基板入射光在量子点层中传播的光程,使得更多的光可以穿过量子点层,降低入射光被黑色挡墙吸收的几率,在不增加入射光光强的条件下,提高了入射光的光利用率;同时,该导光封装层也起到了阻隔水氧并封装彩色滤光膜的作用;此外,具备该凸透膜结构的导光封装层也适于批量一体化制作成型,且工艺成熟,产品质量稳定;提高了显示面板中的光利用率,降低了显示面板的功耗,延长了显示面板的使用寿命。附图说明下面结合附图,通过对本申请的具体实施方式详细描述,将使本申请的技术方案及其它有益效果显而易见。图1为本申请实施例提供的一种量子点彩膜基板的结构示意图;图2为本申请实施例提供的另一种量子点彩膜基板的结构示意图;图3为本申请实施例提供的一种量子点彩膜基板制作方法的流程示意框图。具体实施方式下面将结合本申请实施例中的附图,对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然,所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例,本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本申请保护的范围。在本申请的描述中,需要理解的是,术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本申请和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本申请的限制。此外,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个所述特征。在本申请的描述中,“多个”的含义是两个或两个以上,除非另有明确具体的限定。在本申请的描述中,需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;可以是机械连接,也可以是电连接或可以相互通讯;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。在本申请中,除非另有明确的规定和限定,第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触,也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且,第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方,或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方,或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。下文的公开提供了许多不同的实施方式或例子用来实现本申请的不同结构。为了简化本申请的公开,下文中对特定例子的部件和设置进行描述。当然,它们仅仅为示例,并且目的不在于限制本申请。此外,本申请可以在不同例子中重复参考数字和/或参考字母,这种重复是为了简化和清楚的目的,其本身不指示所讨论各种实施方式和/或设置之间的关系。此外,本申请提供了的各种特定的工艺和材料的例子,但是本领域普通技术人员可以意识到其他工艺的应用和/或其他材料的使用。下面结合附图和实施例对本申请作进一步说明。如图1所示,本申请实施例提供了一种量子点彩膜基板,包括玻璃基板5,所述玻璃基板5一侧设有量子点层1和黑色挡墙14,所述黑色挡墙14上设有若干像素开口,所述量子点层1包括若干设本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种量子点彩膜基板,其特征在于,包括玻璃基板,所述玻璃基板一侧设有量子点层和黑色挡墙,所述黑色挡墙上设有若干像素开口,所述量子点层包括若干设置于各所述像素开口内的彩色滤光膜,所述量子点层远离所述玻璃基板的一侧设有导光封装层,所述导光封装层包括与各所述彩色滤光膜一一对应的若干凸透膜。/n

【技术特征摘要】
1.一种量子点彩膜基板,其特征在于,包括玻璃基板,所述玻璃基板一侧设有量子点层和黑色挡墙,所述黑色挡墙上设有若干像素开口,所述量子点层包括若干设置于各所述像素开口内的彩色滤光膜,所述量子点层远离所述玻璃基板的一侧设有导光封装层,所述导光封装层包括与各所述彩色滤光膜一一对应的若干凸透膜。


2.根据权利要求1所述的量子点彩膜基板,其特征在于,所述导光封装层还包括设于所述凸透膜之间的平坦过渡膜,所述平坦过渡膜与所述凸透膜为一体成型。


3.根据权利要求1所述的量子点彩膜基板,其特征在于,所述凸透膜远离所述彩色滤光膜的一侧为弧面。


4.根据权利要求1所述的量子点彩膜基板,其特征在于,所述导光封装层在垂直于所述量子点层方向上的正投影覆盖各所述彩色滤光膜在垂直于所述量子点层方向上的正投影。


5.根据权利要求1所述的量子点彩膜基板,其特征在于,所述量子点层靠近所述玻璃基板的一侧设有封装薄膜。


6.根据权利...

【专利技术属性】
技术研发人员:彭文祥
申请(专利权)人:深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
类型:发明
国别省市:广东;44

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