排放气体副产物测量系统技术方案

提供了一种排放气体副产物的测量系统。气体腔室被构造成用于接收来自所述排放输出口的排放物。光源、光检测器和至少一个光学元件被定位成使得来自所述光源的光束在到达所述光检测器之前被导向至所述至少一个光学元件多次。至少一个加热器向所述至少一个光学元件提供热量。多个吹扫气体喷嘴与所述光学腔流体连接。高流量管线流体连接在吹扫气体源和所述多个吹扫气体喷嘴之间。低流量管线流体连接在所述吹扫气体源和所述多个吹扫气体喷嘴之间。至少一个流量控制器管理包含高流量及低流量的多个流率。

Emission by-product measurement system

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】排放气体副产物测量系统相关申请的交叉引用本申请要求于2017年8月30日提出的美国申请No.15/691,405的优先权，其通过引用并入本文以用于所有目的。
本公开涉及半导体设备的制造。更具体而言，本公开涉及在制造半导体设备中所使用的蚀刻。
技术介绍
在半导体晶片处理期间，含硅层被选择性地蚀刻。在含硅层被选择性蚀刻期间，合乎期望的是，测量蚀刻率、蚀刻关键尺寸(CD)、蚀刻轮廓以及逐个晶片之间(fromwafertowafer)或逐个处理室之间的蚀刻均匀性。红外线(IR)吸收可以用来测量通过蚀刻工艺产生的副产物的浓度。蚀刻副产物、灰尘以及其他污染物会沉积在光学元件上，从而降低IR吸收测量的准确度，并降低副产物浓度测量的准确度。合乎期望的是，维持副产物浓度测量的准确度。
技术实现思路
为了实现前述目的并根据本公开的目的，提供了一种排放气体副产物的测量系统，其能附接至处理室的排放泵的排气输出口。气体腔室被构造成用于接收来自所述排放输出口的排放物，其中所述气体腔室还包含光学腔，其中排放物通过所述光学腔。光源、光检测器本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种排放气体副产物测量系统，其能附接至来自处理室的排放泵的排放输出口，其包括：/n气体腔室，其构造成用于接收来自所述排放输出口的排放物，所述气体腔室还包含光学腔，其中所述排放物通过所述光学腔；/n至少一个光学元件；/n光源；/n光检测器，其中所述至少一个光学元件、所述光源以及所述光检测器被定位成使得来自所述光源的光束在到达所述光检测器之前被导向至所述至少一个光学元件多次；/n至少一个加热器，其用于向所述至少一个光学元件提供热量，使得所述至少一个光学元件被所述至少一个加热器加热；/n吹扫气体源；/n多个吹扫气体喷嘴，其与所述光学腔流体连接；/n高流量管线，其流体连接在所述吹扫气体源和所述多个...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20170830 US 15/691,4051.一种排放气体副产物测量系统，其能附接至来自处理室的排放泵的排放输出口，其包括：
气体腔室，其构造成用于接收来自所述排放输出口的排放物，所述气体腔室还包含光学腔，其中所述排放物通过所述光学腔；
至少一个光学元件；
光源；
光检测器，其中所述至少一个光学元件、所述光源以及所述光检测器被定位成使得来自所述光源的光束在到达所述光检测器之前被导向至所述至少一个光学元件多次；
至少一个加热器，其用于向所述至少一个光学元件提供热量，使得所述至少一个光学元件被所述至少一个加热器加热；
吹扫气体源；
多个吹扫气体喷嘴，其与所述光学腔流体连接；
高流量管线，其流体连接在所述吹扫气体源和所述多个吹扫气体喷嘴之间；
低流量管线，其流体连接在所述吹扫气体源和所述多个吹扫气体喷嘴之间，其中所述低流量管线的至少部分与所述高流量管线平行；以及
至少一个流量控制器，其用于管理包含高流量及低流量的多个流率。


2.根据权利要求1所述的排放气体副产物测量系统，其中所述至少一个光学元件包含第一光学元件，其中所述光束被引导至所述第一光学元件上的多个照射区域，且其中所述多个吹扫气体喷嘴选择性地将吹扫气体引导至所述第一光学元件上的所述多个照射区域。


3.根据权利要求1所述的排放气体副产物测量系统，其中该至少一个光学元件包含镜。


4.根据权利要求1所述的排放气体副产物测量系统，其中所述吹扫气体源提供包含N2、Ar或空气中的至少一者的气体。


5.根据权利要求1所述的排放气体副产物测量系统，其中所述至少一个光学元件包含第一光学元件和第二光学元件，其中所述第一光学元件与所述第二光学元件彼此间隔开，且其中所述光学腔位于所述第一光学元件和所述第二光学元件之间。


6.根据权利要求1所述的排放气体副产物测量系统，其中所述高流量为脉冲式的，而该低流量为恒定的。


7.根据权利要求1所述的排放气体副产物测量系统，其中所述光源为IR光源，所述光检测器为IR检测器，且所述至少一个光学元件为IR光学元件。


8.根据权利要求1所述的排放气体副产物测量系统，其中所述至少一个光学元件包含第一光学元件，其中所述光束被引导至围绕所述第一光学元件的圆周设置的多个照射区域，且其中所述多个吹扫气体喷嘴选择性地将吹扫气体引导至所述第一光学元件上的所述多个照射区域。


9.根据权利要求1所述的排放气体副产物测量系统，其中所述至少一个光学元件包含第一光学元件，其中所述光束被引导至所述第一光学元件上的多个照射区域，且其中所述多个吹扫气体喷嘴选择性地将来自所述吹扫气体源的吹扫气体引导至所述第一光学元件上的所述多个照射区域，其中所述吹扫气体选择性地清洁所述照射区域。


10.根据权利要求1所述的排放气体副产物测量系统，其中所述至少一个光学元件包含第一光学元件，其中所述光束被引导至所述第一光学元件上的所述多个照射区域，且其中所述多个吹扫气体喷嘴选择性地将来自所述吹扫气体源...

【专利技术属性】
技术研发人员：克里斯蒂安·赛拉迪，吕克·阿尔巴雷德，亚辛·卡布兹，爱德华·J·麦金纳尼，萨珊·罗汉姆，
申请(专利权)人：朗姆研究公司，
类型：发明
国别省市：美国;US