一种面向亚纳米精度离子束抛光的面形误差优化去除方法技术

本发明专利技术公开了一种面向亚纳米精度离子束抛光加工的面形误差优化去除方法，步骤包括：计算期望的材料去除总量；计算等比例去除方式的迭代加工材料去除量；计算迭代加工所需的驻留时间；材料的等比例加工去除；迭代抛光加工。本发明专利技术能够避免抛光过程中高频误差的产生，更有利于迭代抛光过程中机床的平稳运行，可在迭代抛光过程中实现全局面形误差的均匀修正，更适合亚纳米精度光学元件的离子束抛光加工。

An optimized method of surface error removal for sub nanometer precision ion beam polishing

【技术实现步骤摘要】
一种面向亚纳米精度离子束抛光的面形误差优化去除方法
本专利技术涉及的是光学元件超精密加工
，尤其是一种面向亚纳米精度离子束抛光的面形误差优化去除方法。
技术介绍
现代光学系统性能的不断提升使光学零件的质量要求也不断提高，对光学制造技术提出了新的挑战，传统加工技术已经很难满足要求，需要高效超精密的确定性抛光方法才能解决数量众多的高精度光学零件制造的问题。计算机控制光学表面成型(CCOS)技术是光学制造技术的突破，其利用计算机控制小磨头确定性地去除光学表面误差，代替了凭经验的传统手工抛光方法，大大提升了加工效率和抛光精度。在计算机控制光学表面抛光过程中，通常使用波面干涉仪对光学镜面的进行测量，获得加工前的面形误差，通过实验方式得到工艺参数恒定时的确定性去除函数，而加工过程的材料去除量为去除函数与驻留时间函数的二维卷积，此时加工所需的驻留时间的计算就成了求解反卷积的问题。通常，光学零件的离子束抛光被分为若干个迭代加工过程，通过多次迭代加工，最后使得每次加工的材料去除量的累加尽可能地接近理想要求的面形误差值。根据CCOS原理，第i次迭代加本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种面向亚纳米精度离子束抛光加工的面形误差优化去除方法，其特征是：包括有以下步骤：/na、计算期望的材料去除总量：采用面形误差检测仪器对待加工光学元件的面形误差进行检测，获得表面所有点(

【技术特征摘要】
1.一种面向亚纳米精度离子束抛光加工的面形误差优化去除方法，其特征是：包括有以下步骤：
a、计算期望的材料去除总量：采用面形误差检测仪器对待加工光学元件的面形误差进行检测，获得表面所有点(x,y)的面形误差分布e(x,y)，基于面形误差分布计算得到期望的材料去除总量E0(x,y)；
b、计算等比例去除方式的迭代加工材料去除量：根据迭代加工次数，将期望的材料去除总量E0(x,y)等比例地分成若干份，记为迭代加工的材料去除量Ei(x,y)；
c、计算迭代加工所需的驻留时间：采用离子束抛光加工过程的去除函数试验获取去除函数R(x,y)，将去除函数R(x,y)和迭代加工的材料去除量Ei(x,y)带入计算机控制光学表面成型技术的卷积方程Ei(x,y)=R(x,y)VTi(x,y)，求解得到加工所需的驻留时间Ti(x,y)；
d、材料的等比例加工去除：利用步骤c求解得到的驻留时间生成机床数控代码，控制离子束抛光机床对待加工光学元件进行抛光加工；
e、迭代抛光加工：重复上述步骤a~步骤d的工艺过程，直至离子束抛光加工结果满足面形精度要求，加工结束。...

【专利技术属性】
技术研发人员：廖文林，聂徐庆，谢强，张浩，万稳，蒋国庆，聂旭涛，张逸飞，
申请(专利权)人：中国空气动力研究与发展中心设备设计及测试技术研究所，
类型：发明
国别省市：四川;51