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本发明公开了一种面向亚纳米精度离子束抛光加工的面形误差优化去除方法，步骤包括：计算期望的材料去除总量；计算等比例去除方式的迭代加工材料去除量；计算迭代加工所需的驻留时间；材料的等比例加工去除；迭代抛光加工。本发明能够避免抛光过程中高频误差的...该专利属于中国空气动力研究与发展中心设备设计及测试技术研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国空气动力研究与发展中心设备设计及测试技术研究所授权不得商用。