【技术实现步骤摘要】
阵列基板、显示装置及其驱动方法
本专利技术涉及显示
,尤其涉及一种阵列基板、显示装置及其驱动方法。
技术介绍
现有技术中,阵列基板的相邻薄膜晶体管之间的数据线的下方有源层有时存在有源层尾部(Activetail),若背光源采用交替点亮的方式实现,则有源层因为被光照与否的导电性不同以及有源层尾部的存在,容易导致扫描线(Gate)在进行逐行扫描时有水流般(Waterfall)的不良现象。
技术实现思路
有鉴于此,本专利技术实施例的目的之一在于,提出一种阵列基板、显示装置及其驱动方法,以解决上述的问题。基于上述目的,本专利技术实施例的第一方面,提供了一种阵列基板,包括至少两个薄膜晶体管;所述至少两个薄膜晶体管之间设置有数据线,所述数据线下方设置有源层;所述有源层下方设置有遮光层,所述有源层的正投影位于所述遮光层内。可选地,所述有源层的宽度大于所述数据线的宽度,所述遮光层的宽度大于或等于所述有源层的宽度。可选地,所述阵列基板还包括栅极层;所述遮光层与所述栅极层共层且所述遮光层 ...
【技术保护点】
1.一种阵列基板,其特征在于,包括至少两个薄膜晶体管;所述至少两个薄膜晶体管之间设置有数据线,所述数据线下方设置有源层;所述有源层下方设置有遮光层,所述有源层的正投影位于所述遮光层内。/n
【技术特征摘要】
1.一种阵列基板,其特征在于,包括至少两个薄膜晶体管;所述至少两个薄膜晶体管之间设置有数据线,所述数据线下方设置有源层;所述有源层下方设置有遮光层,所述有源层的正投影位于所述遮光层内。
2.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述有源层的宽度大于所述数据线的宽度,所述遮光层的宽度大于或等于所述有源层的宽度。
3.根据权利要求2所述的阵列基板,其特征在于,所述阵列基板还包括栅极层;所述遮光层与所述栅极层共层且所述遮光层的制作材料与所述栅极层的制作材料相同。
4.根据权利要求3所述的阵列基板,其特征在于,所述阵列基板还包括栅极绝缘层;所述栅极绝缘层设置在所述遮光层和所述有源层之间。
5.根据权利要求2所述的阵列基板,其特征在于,所述遮光层的制作材料为黑色遮光材料。
6.根据权利要求1所述的...
【专利技术属性】
技术研发人员:马涛,余巨峰,杨成绍,何为,罗标,
申请(专利权)人:京东方科技集团股份有限公司,合肥鑫晟光电科技有限公司,
类型:发明
国别省市:北京;11
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