一种真空等离子体表面处理设备制造技术

技术编号:23764390 阅读:40 留言:0更新日期:2020-04-11 19:04
本实用新型专利技术公开了一种真空等离子体表面处理设备,包括处理箱、传动装置、驱动装置和限位装置,所述处理箱内部的两侧均设有传动装置两组所述传动装置之间设有两组挡板,两组所述挡板与处理箱之间构成真空腔,所述处理箱顶部安装有与真空腔连通的真空泵,所述处理箱内部的底部靠近真空腔的一侧挖设有驱动槽,真空腔内设有与驱动槽连接的驱动装置,其中一组所述挡板与传动装置之间设有限位板,所述限位板远离处理箱的一侧的上半部和下半部均开设有两组对称的限位槽,限位槽的两侧均挖设有滑动轨道,两组滑动轨道之间设有置于限位槽内的限位装置。该真空等离子体表面处理设备,能够适应不同厚度的材料,同时能够提高处理的效率。

A vacuum plasma surface treatment equipment

【技术实现步骤摘要】
一种真空等离子体表面处理设备
本技术属于等离子体表面处理
,具体涉及一种真空等离子体表面处理设备。
技术介绍
等离子体又叫做电浆,是由部分电子被剥夺后的原子及原子团被电离后产生的正负离子组成的离子化气体状物质,尺度大于德拜长度的宏观电中性电离气体,其运动主要受电磁力支配,并表现出显著的集体行为。它广泛存在于宇宙中,常被视为是除去固、液、气外,物质存在的第四态。等离子体是一种很好的导电体,利用经过巧妙设计的磁场可以捕捉、移动和加速等离子体。现阶段,等离子体技术被应用于对卷材表面进行处理,现有的真空等离子体表面处理设备,不能很好地适应不同厚度的材料,同时处理的效率不高。因此针对这一现状,迫切需要设计和生产一种真空等离子体表面处理设备,以满足实际使用的需要。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种真空等离子体表面处理设备,以解决上述
技术介绍
中提出的问题。为实现上述目的,本技术提供如下技术方案:一种真空等离子体表面处理设备,包括处理箱、传动装置、驱动装置和限位装置,所述处理箱内部的两侧均设有传动装置,两组所述传动装本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种真空等离子体表面处理设备,包括处理箱(1)、传动装置(2)、驱动装置(3)和限位装置(4),其特征在于:所述处理箱(1)内部的两侧均设有传动装置(2),两组所述传动装置(2)的驱动方向相反,两组所述传动装置(2)之间设有两组挡板(5),所述挡板(5)的顶部和底部分别与处理箱(1)内部的顶部和底部固定焊接,两组所述挡板(5)与处理箱(1)之间构成真空腔,所述处理箱(1)顶部安装有真空泵(6),所述真空泵(6)的侧面安装有与真空腔连通的抽气管,所述处理箱(1)内部的底部靠近真空腔的一侧挖设有驱动槽,真空腔内设有与驱动槽连接的驱动装置(3),其中一组所述挡板(5)与传动装置(2)之间设有限位...

【技术特征摘要】
1.一种真空等离子体表面处理设备,包括处理箱(1)、传动装置(2)、驱动装置(3)和限位装置(4),其特征在于:所述处理箱(1)内部的两侧均设有传动装置(2),两组所述传动装置(2)的驱动方向相反,两组所述传动装置(2)之间设有两组挡板(5),所述挡板(5)的顶部和底部分别与处理箱(1)内部的顶部和底部固定焊接,两组所述挡板(5)与处理箱(1)之间构成真空腔,所述处理箱(1)顶部安装有真空泵(6),所述真空泵(6)的侧面安装有与真空腔连通的抽气管,所述处理箱(1)内部的底部靠近真空腔的一侧挖设有驱动槽,真空腔内设有与驱动槽连接的驱动装置(3),其中一组所述挡板(5)与传动装置(2)之间设有限位板(7),所述限位板(7)与处理箱(1)内壁固定焊接,所述限位板(7)远离处理箱(1)的一侧的上半部和下半部均开设有两组对称的限位槽,限位槽的两侧均挖设有滑动轨道,两组滑动轨道之间设有置于限位槽内的限位装置(4),所述处理箱(1)的侧面通过合页转动连接有三组适配的带有把手的箱门(18),其中一组所述箱门(18)靠近真空腔的一侧嵌有观察窗。


2.根据权利要求1所述的一种真空等离子体表面处理设备,其特征在于:所述传动装置(2)包括传动辊(8)和驱动电机(9),所述传动辊(8)的中心固定焊接有转动轴,转动轴一端的外周与处理箱(1)内壁安装的传动轴承座的内圈固定焊接,转动轴的另一端通过联轴器与驱动电机(9)的输出轴连接,所述驱动电机(9)与处理箱(1)侧面开设的传动槽固定焊接。<...

【专利技术属性】
技术研发人员:窦久存窦立洋
申请(专利权)人:唐山标先电子有限公司
类型:新型
国别省市:河北;13

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