一种真空等离子体表面处理设备制造技术

本实用新型专利技术公开了一种真空等离子体表面处理设备，包括处理箱、传动装置、驱动装置和限位装置，所述处理箱内部的两侧均设有传动装置两组所述传动装置之间设有两组挡板，两组所述挡板与处理箱之间构成真空腔，所述处理箱顶部安装有与真空腔连通的真空泵，所述处理箱内部的底部靠近真空腔的一侧挖设有驱动槽，真空腔内设有与驱动槽连接的驱动装置，其中一组所述挡板与传动装置之间设有限位板，所述限位板远离处理箱的一侧的上半部和下半部均开设有两组对称的限位槽，限位槽的两侧均挖设有滑动轨道，两组滑动轨道之间设有置于限位槽内的限位装置。该真空等离子体表面处理设备，能够适应不同厚度的材料，同时能够提高处理的效率。

A vacuum plasma surface treatment equipment

【技术实现步骤摘要】
一种真空等离子体表面处理设备
本技术属于等离子体表面处理
，具体涉及一种真空等离子体表面处理设备。
技术介绍
等离子体又叫做电浆，是由部分电子被剥夺后的原子及原子团被电离后产生的正负离子组成的离子化气体状物质，尺度大于德拜长度的宏观电中性电离气体，其运动主要受电磁力支配，并表现出显著的集体行为。它广泛存在于宇宙中，常被视为是除去固、液、气外，物质存在的第四态。等离子体是一种很好的导电体，利用经过巧妙设计的磁场可以捕捉、移动和加速等离子体。现阶段，等离子体技术被应用于对卷材表面进行处理，现有的真空等离子体表面处理设备，不能很好地适应不同厚度的材料，同时处理的效率不高。因此针对这一现状，迫切需要设计和生产一种真空等离子体表面处理设备，以满足实际使用的需要。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种真空等离子体表面处理设备，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种真空等离子体表面处理设备，包括处理箱、传动装置、驱动装置和限位装置，所述处理箱内部的两侧均设有传动装置，两组所述传动装置的驱动方向相反，两组所述传动装置之间设有两组挡板，所述挡板的顶部和底部分别与处理箱内部的顶部和底部固定焊接，两组所述挡板与处理箱之间构成真空腔，所述处理箱顶部安装有真空泵，所述真空泵的侧面安装有与真空腔连通的抽气管，所述处理箱内部的底部靠近真空腔的一侧挖设有驱动槽，真空腔内设有与驱动槽连接的驱动装置，其中一组所述挡板与传动装置之间设有限位板，所述限位板与处理箱内壁固定焊接，所述限位板远离处理箱的一侧的上半部和下半部均开设有两组对称的限位槽，限位槽的两侧均挖设有滑动轨道，两组滑动轨道之间设有置于限位槽内的限位装置，所述处理箱的侧面通过合页转动连接有三组适配的带有把手的箱门，其中一组所述箱门靠近真空腔的一侧嵌有观察窗。优选的，所述传动装置包括传动辊和驱动电机，所述传动辊的中心固定焊接有转动轴，转动轴一端的外周与处理箱内壁安装的传动轴承座的内圈固定焊接，转动轴的另一端通过联轴器与驱动电机的输出轴连接，所述驱动电机与处理箱侧面开设的传动槽固定焊接。优选的，所述限位装置包括限位座、限位杆和限位辊，所述限位座的两侧均设有与滑动轨道滑动连接的滑块，所述限位座中心钻设的限位孔内螺纹连接有限位杆，所述限位杆的顶端和底端的外周分别与限位阀和限位槽内安装的限位轴承座的内圈固定焊接，所述限位座远离限位孔的一侧固定焊接有两组对称的且置于限位槽内的支撑轴承座，支撑轴承座的内圈与限位辊中心设有的旋转轴的外周固定焊接。优选的，所述驱动装置包括正极板、负极板和等离子电源，所述正极板和负极板均设有多组，所述正极板和负极板均呈矩形阵列分布，所述正极板和负极板之间呈等距离对称分布，所述负极板通过导线与等离子电源连接，所述等离子电源置于处理箱底部挖设的驱动槽内。优选的，两组所述传动装置的驱动电机的转动方向相反，两组所述传动装置的传动辊之间设有置于两组限位装置的限位辊之间的材料，所述材料通过真空腔内部安装的多组传送辊传动输送于驱动装置的正极板和负极板之间。本技术的技术效果和优点：该真空等离子体表面处理设备，通过转动限位阀，使限位杆旋转，并通过滑块与滑动轨道滑动连接，带动限位座移动，调节两组限位辊之间的竖直距离，从而根据材料的厚度进行调节并限位，降低处理过程中发生偏移的可能性；通过驱动电机的工作，带动传动辊转动，从而对材料进行稳定地传动输送；通过真空泵的工作，处理箱内部的空气通过抽气管抽出，使处理箱的内部形成真空状态，从而使分子间距增大，并通过正极板和负极板的工作，使正极板和负极板之间形成电场，受电场作用，分子间发生碰撞而形成等离子体，从而通过等离子体对材料的表面进行处理，同时通过设置的多组传送辊，增大材料的处理面积，从而提高处理的效率，该真空等离子体表面处理设备，能够适应不同厚度的材料，同时能够提高处理的效率。附图说明图1为本技术的主视图；图2为本技术的剖视图；图3为本技术的限位板的剖视图；图4为本技术的限位装置的结构示意图。图中：1处理箱、2传动装置、3驱动装置、4限位装置、5挡板、6真空泵、7限位板、8传动辊、9驱动电机、10限位座、11限位杆、12限位辊、13正极板、14负极板、15等离子电源、16材料、17传送辊、18箱门。具体实施方式下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。除非单独定义指出的方向外，本文涉及的上、下、左、右、前、后、内和外等方向均是以本技术所示的图中的上、下、左、右、前、后、内和外等方向为准，在此一并说明。本技术提供了如图1-4所示的一种真空等离子体表面处理设备，包括处理箱1、传动装置2、驱动装置3和限位装置4，所述处理箱1内部的两侧均设有传动装置2，两组所述传动装置2的驱动方向相反，两组所述传动装置2之间设有两组挡板5，所述挡板5的顶部和底部分别与处理箱1内部的顶部和底部固定焊接，两组所述挡板5与处理箱1之间构成真空腔，所述处理箱1顶部安装有真空泵6，真空泵6节选为里其乐VC303型真空泵，所述真空泵6的侧面安装有与真空腔连通的抽气管，所述处理箱1内部的底部靠近真空腔的一侧挖设有驱动槽，真空腔内设有与驱动槽连接的驱动装置3，其中一组所述挡板5与传动装置2之间设有限位板7，所述限位板7与处理箱1内壁固定焊接，所述限位板7远离处理箱1的一侧的上半部和下半部均开设有两组对称的限位槽，限位槽的两侧均挖设有滑动轨道，两组滑动轨道之间设有置于限位槽内的限位装置4，所述处理箱1的侧面通过合页转动连接有三组适配的带有把手的箱门18，其中一组所述箱门18靠近真空腔的一侧嵌有观察窗，通过观察窗对处理箱1内部的情况进行观察。具体的，所述传动装置2包括传动辊8和驱动电机9，所述传动辊8的中心固定焊接有转动轴，转动轴一端的外周与处理箱1内壁安装的传动轴承座的内圈固定焊接，转动轴的另一端通过联轴器与驱动电机9的输出轴连接，驱动电机9可选为深圳市鼎弘传动设备有限公司生产的ZD型正反转电机，所述驱动电机9与处理箱1侧面开设的传动槽固定焊接，通过驱动电机9的工作，带动传动辊17转动，从而对材料16进行稳定地传动输送。具体的，所述限位装置4包括限位座10、限位杆11和限位辊12，所述限位座10的两侧均设有与滑动轨道滑动连接的滑块，所述限位座10中心钻设的限位孔内螺纹连接有限位杆11，所述限位杆11的顶端和底端的外周分别与限位阀和限位槽内安装的限位轴承座的内圈固定焊接，所述限位座10远离限位孔的一侧固定焊接有两组对称的且置于限位槽内的支撑轴承座，支撑轴承座的内圈与限位辊12中心设有的旋转轴的外周固定焊接，转动限位阀，使限位杆11本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种真空等离子体表面处理设备，包括处理箱(1)、传动装置(2)、驱动装置(3)和限位装置(4)，其特征在于：所述处理箱(1)内部的两侧均设有传动装置(2)，两组所述传动装置(2)的驱动方向相反，两组所述传动装置(2)之间设有两组挡板(5)，所述挡板(5)的顶部和底部分别与处理箱(1)内部的顶部和底部固定焊接，两组所述挡板(5)与处理箱(1)之间构成真空腔，所述处理箱(1)顶部安装有真空泵(6)，所述真空泵(6)的侧面安装有与真空腔连通的抽气管，所述处理箱(1)内部的底部靠近真空腔的一侧挖设有驱动槽，真空腔内设有与驱动槽连接的驱动装置(3)，其中一组所述挡板(5)与传动装置(2)之间设有限位板(7)，所述限位板(7)与处理箱(1)内壁固定焊接，所述限位板(7)远离处理箱(1)的一侧的上半部和下半部均开设有两组对称的限位槽，限位槽的两侧均挖设有滑动轨道，两组滑动轨道之间设有置于限位槽内的限位装置(4)，所述处理箱(1)的侧面通过合页转动连接有三组适配的带有把手的箱门(18)，其中一组所述箱门(18)靠近真空腔的一侧嵌有观察窗。/n

【技术特征摘要】
1.一种真空等离子体表面处理设备，包括处理箱(1)、传动装置(2)、驱动装置(3)和限位装置(4)，其特征在于：所述处理箱(1)内部的两侧均设有传动装置(2)，两组所述传动装置(2)的驱动方向相反，两组所述传动装置(2)之间设有两组挡板(5)，所述挡板(5)的顶部和底部分别与处理箱(1)内部的顶部和底部固定焊接，两组所述挡板(5)与处理箱(1)之间构成真空腔，所述处理箱(1)顶部安装有真空泵(6)，所述真空泵(6)的侧面安装有与真空腔连通的抽气管，所述处理箱(1)内部的底部靠近真空腔的一侧挖设有驱动槽，真空腔内设有与驱动槽连接的驱动装置(3)，其中一组所述挡板(5)与传动装置(2)之间设有限位板(7)，所述限位板(7)与处理箱(1)内壁固定焊接，所述限位板(7)远离处理箱(1)的一侧的上半部和下半部均开设有两组对称的限位槽，限位槽的两侧均挖设有滑动轨道，两组滑动轨道之间设有置于限位槽内的限位装置(4)，所述处理箱(1)的侧面通过合页转动连接有三组适配的带有把手的箱门(18)，其中一组所述箱门(18)靠近真空腔的一侧嵌有观察窗。


2.根据权利要求1所述的一种真空等离子体表面处理设备，其特征在于：所述传动装置(2)包括传动辊(8)和驱动电机(9)，所述传动辊(8)的中心固定焊接有转动轴，转动轴一端的外周与处理箱(1)内壁安装的传动轴承座的内圈固定焊接，转动轴的另一端通过联轴器与驱动电机(9)的输出轴连接，所述驱动电机(9)与处理箱(1)侧面开设的传动槽固定焊接。<...

【专利技术属性】
技术研发人员：窦久存，窦立洋，
申请(专利权)人：唐山标先电子有限公司，
类型：新型
国别省市：河北;13