用于场发射扫描电镜的样品台制造技术

本实用新型专利技术实施例提供了一种用于场发射扫描电镜的样品台，该用于场发射扫描电镜的样品台包括：样品台本体，所述样品台本体为圆柱形，多个沿所述样品台本体的顶面的圆周均匀设置的凹糟，每个凹糟用于放置带有样品的抛光挡板，其中，每相邻两个凹槽的中心距离相等且宽于抛光挡板的最宽处，每个凹槽的中心至所述样品台本体的顶面的中心的距离相等；钉型腿，设置于所述样品台本体的底面上，用于将所述样品台本体固定在扫描电镜的样品架上。

Sample table for field emission scanning electron microscopy

【技术实现步骤摘要】
用于场发射扫描电镜的样品台
本技术涉及泥页岩微纳米孔隙研究
，特别涉及一种用于场发射扫描电镜的样品台。
技术介绍
2000年前后，场发射扫描电镜就已经成为扫描电镜更新换代的主流，分辨率最高可达0.6nm，此技术促使高分辨扫描电子显微技术得到很大的发展。随着页岩气的勘探开发，氩离子抛光技术率先在北美的页岩微孔隙研究中得到应用，并取得了很好的效果，近年国内的应用也比较多。目前，场发射扫描电镜应用于泥页岩微纳米孔隙研究时，基本上都采用的氩离子抛光样品。氩离子抛光样品相对于传统自然断面样品的制备，对样品的大小形状要求都比较高，比较常用的氩离子抛光技术是一种利用宽离子束(1mm)来切割样品，以获得宽阔而精确的电子显微分析区域的样品表面制备技术。一个坚固的抛光挡板遮挡住样品的非目标区域，有效的遮蔽了下半部分的离子束，创造出一个侧切割微小平面(约1mm2)，去除样品表面的一层薄膜。由于氩离子抛光样品制样时带有抛光挡板，目前市场上尚无针对氩离子抛光样品的特制样品台，较常使用的方法有两种，一是用导电胶将样品固定在90°样品台上，后续喷镀、上扫描电镜观察时要对样品逐一进行二次处理，工序比较繁琐；二是将样品从抛光挡板取下再采用传统方式用导电胶将其固定到钉形样品台上，由于样品的高度不同，而场发射扫描电镜的工作距离最小为3mm，多个样品同时放入舱内有碰撞极靴的隐患。另外氩离子抛光测试样品的测试部分表面光滑、面积微小，二次处理过程中容易污染样品从而影响样品的测试效果。有时通过导电胶固定样品很难保证样品的水平，使得测试过程中当放大倍率增大时也有可能发生图像漂移，从而影响图像质量。
技术实现思路
本技术实施例提供了一种用于场发射扫描电镜的样品台，以解决现有技术中由于采用导电胶在样品台上固定样品导致的图像漂移影响测试精度、不能同时固定多个样品的技术问题。该用于扫描电镜的样品台包括：样品台本体，所述样品台本体为圆柱形，多个沿所述样品台本体的顶面的圆周均匀设置的凹糟，每个凹糟用于放置带有样品的抛光挡板，其中，每相邻两个凹槽的中心距离相等且宽于抛光挡板的最宽处，每个凹槽的中心至所述样品台本体的顶面的中心的距离相等；钉型腿，设置于所述样品台本体的底面上，用于将所述样品台本体固定在扫描电镜的样品架上。在本技术实施例中，通过设置圆柱形的样品台本体，在样品台本体的顶面上，沿圆周均匀设置多个凹糟，每个凹糟用于放置带有样品(即氩离子抛光样品)的抛光挡板，最后，通过钉型腿将样品台本体固定在扫描电镜的样品架上，即通过将抛光挡板放置在凹槽中实现了将样品放置在场发射扫描电镜的样品台上，操作便捷，与现有技术中通过导电胶在样品台上固定样品的技术方案相比，后续喷镀、上扫描电镜观察时本申请可以将氩离子抛光样品抛好后无需特殊处理直接放于该样品台上便可进行SEM测试，即避免对样品进行二次处理，进而避免污染样品，有利于提高测试结果的准确度；抛光挡板放置在凹槽中相对是平稳的，还可以相对保证样品的水平，有利于避免出现图像漂移的情况，有利于提高图像质量；同时，由于多个凹糟沿样品台本体顶面的圆周均匀设置，每相邻两个凹槽的中心距离相等且宽于抛光挡板的最宽处，每个凹槽的中心至样品台本体的顶面的中心的距离相等，使得可以同时固定多个样品，各样品之间互不干扰，多个样品的喷镀、上扫描电镜观察可以一次同时完成，减少或避免分批次处理，有利于提高工作效率。附图说明此处所说明的附图用来提供对本技术的进一步理解，构成本申请的一部分，并不构成对本技术的限定。在附图中：图1是本技术实施例提供的一种样品台的侧视图一；图2是本技术实施例提供的一种样品台的侧视图二；图3是本技术实施例提供的一种样品固定在挡板上的示意图；图4是本技术实施例提供的一种样品台本体的俯视图；图5是本技术实施例提供的一种钉形腿的侧视图；图6是本技术实施例提供的一种样品台本体的仰视图。具体实施方式为使本技术的目的、技术方案和优点更加清楚明白，下面结合实施方式和附图，对本技术做进一步详细说明。在此，本技术的示意性实施方式及其说明用于解释本技术，但并不作为对本技术的限定。在本技术实施例中，提供了一种用于场发射扫描电镜的样品台，如图1所示，该用于场发射扫描电镜的样品台包括：样品台本体101，所述样品台本体为圆柱形，如图1、图2所示，多个沿所述样品台本体的顶面的圆周均匀设置的凹糟103(以8个凹糟为例，1至8的编号分别指代一个凹槽)，每个凹糟用于放置带有样品的抛光挡板，其中，每相邻两个凹槽的中心距离相等且宽于抛光挡板的最宽处，每个凹槽的中心至所述样品台本体的顶面的中心的距离相等；钉型腿102，设置于所述样品台本体的底面上，用于将所述样品台本体固定在扫描电镜的样品架上。由图1、图2所示可知，在本技术实施例中，通过设置圆柱形的样品台本体，在样品台本体的顶面上，沿圆周均匀设置多个凹糟，每个凹糟用于放置带有样品(即氩离子抛光样品)的抛光挡板，最后，通过钉型腿将样品台本体固定在扫描电镜的样品架上，即通过将抛光挡板放置在凹槽中实现了将样品放置在场发射扫描电镜的样品台上，操作便捷，与现有技术中通过导电胶在样品台上固定样品的技术方案相比，后续喷镀、上扫描电镜观察时本申请可以将氩离子抛光样品抛好后无需特殊处理直接放于该样品台上便可进行SEM测试，即避免对样品进行二次处理，进而避免污染样品，有利于提高测试结果的准确度；抛光挡板放置在凹槽中相对是平稳的，还可以相对保证样品的水平，有利于避免出现图像漂移的情况，有利于提高图像质量；同时，由于多个凹糟沿样品台本体顶面的圆周均匀设置，每相邻两个凹槽的中心距离相等且宽于抛光挡板的最宽处，每个凹槽的中心至样品台本体的顶面的中心的距离相等，使得可以同时固定多个样品，多个样品的喷镀、上扫描电镜观察可以一次同时完成，减少或避免分批次处理，有利于提高工作效率。具体实施时，抛光挡板上带有的样品是完成氩离子抛光后的样品，例如，样品可以通过以下方式固定在抛光挡板上，先将样品切成大约3x4x8mm左右的长方体，并机械打磨抛平两个垂直的、尺寸分别为3x8mm和4x8mm的长方形面，将4x8mm一面用液体导电银胶粘贴于抛光挡板之上，样品比抛光挡板顶部略高0.1mm左右，如图3所示，301为抛光挡板，302为样品。具体实施时，上述样品台本体的材质可以为铝。具体实施时，上述样品台本体的圆直径可以为48mm(毫米)，高度可以为8mm，由于该圆柱形的高度较小，看起来类似一个圆饼状。具体实施时，如图4所示，上述样品台本体顶面设置的凹槽103的形状可以为长方形，该长方形的大小与抛光挡板的大小相适配，例如，所述凹槽的长可以为1.2mm，宽可以为9mm，深度可以为6mm。具体实施时，如图4所示，上述凹槽103的个数可以为8个，8个所述凹槽的分布形成顶角为135度的八边形，本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于场发射扫描电镜的样品台，其特征在于，包括：/n样品台本体，所述样品台本体为圆柱形，多个沿所述样品台本体的顶面的圆周均匀设置的凹糟，每个凹糟用于放置带有样品的抛光挡板，其中，每相邻两个凹槽的中心距离相等且宽于抛光挡板的最宽处，每个凹槽的中心至所述样品台本体的顶面的中心的距离相等；/n钉型腿，设置于所述样品台本体的底面上，用于将所述样品台本体固定在扫描电镜的样品架上。/n

【技术特征摘要】
1.一种用于场发射扫描电镜的样品台，其特征在于，包括：
样品台本体，所述样品台本体为圆柱形，多个沿所述样品台本体的顶面的圆周均匀设置的凹糟，每个凹糟用于放置带有样品的抛光挡板，其中，每相邻两个凹槽的中心距离相等且宽于抛光挡板的最宽处，每个凹槽的中心至所述样品台本体的顶面的中心的距离相等；
钉型腿，设置于所述样品台本体的底面上，用于将所述样品台本体固定在扫描电镜的样品架上。


2.如权利要求1所述的用于场发射扫描电镜的样品台，其特征在于，每个凹槽对应的所述样品台本体的侧壁处设置有螺丝孔，所述螺丝孔连通该凹槽，用于通过螺丝来固定该凹槽内的抛光挡板。


3.如权利要求2所述的用于场发射扫描电镜的样品台，其特征在于，所述螺丝的材质为铜。


4.如权利要求1所述的用于场发射扫描电镜的样品台，其特征在于，所述样品台本体的材质为铝。


5.如权利要求1所述的...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈薇，佘敏，李昌，胡圆圆，蒋义敏，
申请(专利权)人：中国石油天然气股份有限公司，
类型：新型
国别省市：北京;11