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本实用新型公开了一种真空等离子体表面处理设备，包括处理箱、传动装置、驱动装置和限位装置，所述处理箱内部的两侧均设有传动装置两组所述传动装置之间设有两组挡板，两组所述挡板与处理箱之间构成真空腔，所述处理箱顶部安装有与真空腔连通的真空泵，所述处...
该专利属于唐山标先电子有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过唐山标先电子有限公司授权不得商用。

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