一种晶硅太阳能电池用多层减反射膜结构制造技术

本实用新型专利技术公开了一种晶硅太阳能电池用多层减反射膜结构，包括：晶硅电池和氧化物层，所述晶硅电池和所述氧化物层之间设有一层、二层、三层或四层以上氮化硅层；可以制备低折射率的氧化物‑氮化硅多层减反射膜，调节多层膜的光学匹配，降低表面反射率至5％以内，因此，含低折射率氧化物多层减反射膜较常规氮化硅多层减反射膜具有更好的减反射效果，并且有利于晶硅电池对光线的利用率得到提升。

A multilayer antireflection film structure for crystalline silicon solar cells

【技术实现步骤摘要】
一种晶硅太阳能电池用多层减反射膜结构
本专利技术涉及太阳能晶硅电池
，具体涉及一种晶硅太阳能电池用多层减反射膜结构。
技术介绍
晶硅太阳能电池发展早期阶段主要依靠经典半导体扩散技术提高其本身效率，到上世纪末，表面制绒、丝网印刷、背钝化及退火技术发挥了关键作用，其降低生产成本，促进了光伏产业化。进入21世纪，依托各类高效电池技术，晶硅电池的效率大幅提升，其在全球光伏发电市场占有率约为90％。其中，优秀的减反射层是高效晶硅太阳能电池效率提升的可靠技术，它可增加晶硅电池的光吸收，使更多的光能转换为电能。目前，晶硅太阳能电池正面减反射层主要结构为折射率约2.08的多层氮化硅薄膜，其平均反射率约为6％(300～1100nm光谱范围)。其中，短波段的入射光较容易经电池正表面反射，所以进一步减少前表面的光学反射可以使电池对光线的利用率得到提升。许多晶硅太阳能电池厂家尝试着不同材料反射膜和更精尖的镀膜设备的膜层改良，这些改良技术或多或少存在着材料成本增加和设备整体更新的高投入风险。现有技术缺点：平均反射率大于5％，新工艺所需设备成本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种晶硅太阳能电池用多层减反射膜结构，其特征在于，包括:晶硅电池和氧化物层，所述晶硅电池和所述氧化物层之间设有一层、二层、三层或四层以上氮化硅层；当氮化硅层为二层以上时，这二层呈垂直对称设置的氮化硅层为第一氮化硅层和第二氮化硅层；所述晶硅电池和所述氧化物层之间设有第一氮化硅层，所述第一氮化硅层与所述氧化物层之间设有第二氮化硅层，在晶硅电池表面沉积第一层高折射率氮化硅层，第二层低折射率氮化硅层和第三层低折射率氧化物层。/n

【技术特征摘要】
1.一种晶硅太阳能电池用多层减反射膜结构，其特征在于，包括:晶硅电池和氧化物层，所述晶硅电池和所述氧化物层之间设有一层、二层、三层或四层以上氮化硅层；当氮化硅层为二层以上时，这二层呈垂直对称设置的氮化硅层为第一氮化硅层和第二氮化硅层；所述晶硅电池和所述氧化物层之间设有第一氮化硅层，所述第一氮化硅层与所述氧化物层之间设有第二氮化硅层，在晶硅电池表面沉积第一层高折射率氮化硅层，第二层低折射率氮化硅层和第三层低折射率氧化物层。


2.根据权利要求1所述的晶硅太阳能电池用多层减反射膜结构，其特征在于，所述第一氮化硅层的折射率范围为2.30-...

【专利技术属性】
技术研发人员：姚悦，张树德，魏青竹，倪志春，连维飞，胡党平，
申请(专利权)人：苏州腾晖光伏技术有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32