【技术实现步骤摘要】
一种液晶显示面板及其制备方法
本专利技术涉及液晶显示
,尤其涉及一种液晶显示面板及其制备方法。
技术介绍
现有的液晶显示面板一般包括TFT(薄膜晶体管)阵列基板、与TFT阵列基板相对贴合设置的CF(彩色滤光片)基板及设于TFT阵列基板与CF基板之间的液晶层。在液晶显示面板制造中,主要有M1/M2/ITO(第一金属层/第二金属层/氧化铟锡层)用作图形化电极层。随着高规格显示器的逐步推广,各大面板厂商争相布局高解析度、低色偏等关键显示技术,3T/3T+&8domain(畴)设计凭借其优异的色偏表现获得广泛关注,同时为降低生产成本,4mask(掩膜板)工艺也被广泛采用。由于4mask工艺集成了a-Si(非晶硅有源层)与M2为一道掩膜板,受到制程工艺的限制,a-Si层会略宽于M2层,从而限制了M2层的布局影响开口率。同时,M2层中的Sharebar(共享电极)与a-Si层直接接触,在光照情况下将产生光生载流子,从而影响sharebar的稳定性并对像素(pixel)正常显示产生不良影响。现有设计条件下,通过保留略宽于sharebar与a-Si层的M1以进行遮光,从而避免光生载流子的产生以提升sharebar稳定性。尽管通过保留sharebar下M1层的设计能够改善其光学稳定性,但M1层的物理遮光性质也导致了开口率的进一步降低,从而严重限制了穿透率。参考图1,现有液晶显示面板结构的俯视示意图,从TFT阵列基板的基板一侧进行俯视,为方便显示及说明,图1中略去基板,主要显示液晶显示面板结构中与share ...
【技术保护点】
1.一种液晶显示面板,其特征在于,包括:/n像素区域,由栅极线和数据线交叉限定,所述像素区域包括主区和子区,在所述主区和所述子区内均设有像素电极;/n设置于所述主区与所述子区之间的TFT区域,在所述TFT区域内设有TFT结构及共享电极,所述主区的像素电极和所述子区的像素电极分别通过第一开孔与相应的TFT结构相连,同一行的三个相邻的所述共享电极通过第二开孔采用ITO导线相连;/nDBS公共电极走线,设置于所述液晶显示面板的阵列基板侧并与所述数据线平行设置,且所述数据线在所述DBS公共电极走线上的投影落入所述DBS公共电极走线内,所述DBS公共电极走线在所述第一开孔处和/或所述第二开孔处转折以绕过所述第一开孔和/或所述第二开孔;以及/n黑矩阵,用于对所述TFT区域进行遮蔽。/n
【技术特征摘要】
1.一种液晶显示面板,其特征在于,包括:
像素区域,由栅极线和数据线交叉限定,所述像素区域包括主区和子区,在所述主区和所述子区内均设有像素电极;
设置于所述主区与所述子区之间的TFT区域,在所述TFT区域内设有TFT结构及共享电极,所述主区的像素电极和所述子区的像素电极分别通过第一开孔与相应的TFT结构相连,同一行的三个相邻的所述共享电极通过第二开孔采用ITO导线相连;
DBS公共电极走线,设置于所述液晶显示面板的阵列基板侧并与所述数据线平行设置,且所述数据线在所述DBS公共电极走线上的投影落入所述DBS公共电极走线内,所述DBS公共电极走线在所述第一开孔处和/或所述第二开孔处转折以绕过所述第一开孔和/或所述第二开孔;以及
黑矩阵,用于对所述TFT区域进行遮蔽。
2.如权利要求1所述的液晶显示面板,其特征在于,所述DBS公共电极走线、所述ITO导线与所述像素电极由同一ITO层制作而成。
3.如权利要求1所述的液晶显示面板,其特征在于,所述DBS公共电极走线包括:
一第一子DBS公共电极走线,与第一数据线平行设置,并在所述TFT区域处断开;
一第二子DBS公共电极走线,与第二数据线平行设置,并贯穿所述TFT区域;
一DBS连接线,设置于所述TFT区域内,所述DBS连接线在所述第一开孔处和/或所述第二开孔处转折以绕过所述第一开孔和/或所述第二开孔,并连接相邻的所述第一子DBS公共电极走线与所述第二子DBS公共电极走线。
4.如权利要求3所述的液晶显示面板,其特征在于,所述DBS连接线自所述第二子DBS公共电极走线引出,在临近所述第二开孔处分成两条分支连接线,一条所述分支连接线绕过所述第一开孔/所述第二开孔连接至所述主区侧的第一子DBS公共电极走线,另一条所述分支连接线绕过所述第二开孔/所述第一开孔连接至所述子区侧的第一子DBS公共电极走线。
5.如权利要求1所述的液晶显示面板,其特征在于,所述黑矩阵设置于所述液晶显示面板的阵列基板一侧,或者设置于与所述阵列基板相对应的CF基板一侧。
6.一种液晶显示面板的制备方法,其特征在于,所述制备方法包括如下步骤:...
【专利技术属性】
技术研发人员:张银峰,
申请(专利权)人:深圳市华星光电半导体显示技术有限公司,
类型:发明
国别省市:广东;44
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