【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】分布式LC滤波器结构
本专利技术涉及包括电感部件和电容部件的集成滤波器结构。
技术介绍
近来,出现了使用越来越小、越来越智能和越来越自主的通信装置的物联网(IoT)应用。这些应用有望在未来十年推动电子集成领域的创新。具体地,由于IoT装置的关键特征是成本、尺寸和效率,因此提供高效率、高度集成的电源电路系统是IoT应用研究的主要重点。在电源的一般领域中,线性调节器现在已经被在越来越高的频率下操作的开关电感性DC-DC降压转换器取代了很多年。图1是示出降压DC-DC转换器的示例输出级100的电路图。如图1中所示,输出级100包括串联电感器102、并联电容器104和负载106。电感器102耦接在输出级100的输入端子与输出端子之间。通常,电感器102与寄生电阻110相关联。电容器104在输出端子与接地端子之间并联耦接至负载106。通常,电容器104与寄生电阻112和寄生电感114相关联。在一种滤波应用中,例如通过开关在输入端子处提供方波输入信号108。输入信号108由电感器102积分以产生三角波信号。电容器104对三角波信号进行滤波以跨负载106生成低摆幅正弦输出信号。在降压转换器的硅封装集成方面的尝试受到限制。一方面,这是因为:常规上,电感器102和电容器104由分立器件制成,分立器件由于技术(例如,厚度差异、热膨胀差异等)和可靠性原因不能容易地集成在封装中和/或硅上方。此外,由于ESL(等效串联电感)性能较差,与分立无源部件的集成在开关频率方面受到限制,以防止不可接受的效率损失。然而,随着操作频 ...
【技术保护点】
1.一种分布式LC滤波器结构,包括:/n基板,其具有蚀刻在其顶表面中的沟槽;/n第一导电层(702),其设置在所述沟槽中;/n第一绝缘体-金属结构,其在所述沟槽中设置在所述第一导电层(702)的顶部上,所述第一绝缘体-金属结构包括设置在所述第一导电层(702)的顶部上的第一绝缘体层(704)以及设置在所述第一绝缘体层(704)的顶部上的第二导电层(706);/n第二绝缘体-金属结构,其在所述沟槽中设置在所述第一绝缘体-金属结构的顶部上,所述第二绝缘体-金属结构包括设置在所述第二导电层(706)的顶部上的第二绝缘体层(708)以及设置在所述第二绝缘体层(706)的顶部上的第三导电层(710);/n第一绝缘层(712),其沿着所述基板的顶表面沉积在所述第三导电层(710)上方;/n第一金属层(714),其沉积在所述第一绝缘层(712)的顶部上;/n第二绝缘层(716),其沉积在所述第一金属层(714)的顶部上;/n第二金属层(718),其沉积在所述第二绝缘层(716)的顶部上;/n第一接触阵列(724),其将所述第一导电层(702)连接至所述第一金属层(714);/n第二接触阵列(720) ...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20170630 EP 17305846.21.一种分布式LC滤波器结构,包括:
基板,其具有蚀刻在其顶表面中的沟槽;
第一导电层(702),其设置在所述沟槽中;
第一绝缘体-金属结构,其在所述沟槽中设置在所述第一导电层(702)的顶部上,所述第一绝缘体-金属结构包括设置在所述第一导电层(702)的顶部上的第一绝缘体层(704)以及设置在所述第一绝缘体层(704)的顶部上的第二导电层(706);
第二绝缘体-金属结构,其在所述沟槽中设置在所述第一绝缘体-金属结构的顶部上,所述第二绝缘体-金属结构包括设置在所述第二导电层(706)的顶部上的第二绝缘体层(708)以及设置在所述第二绝缘体层(706)的顶部上的第三导电层(710);
第一绝缘层(712),其沿着所述基板的顶表面沉积在所述第三导电层(710)上方;
第一金属层(714),其沉积在所述第一绝缘层(712)的顶部上;
第二绝缘层(716),其沉积在所述第一金属层(714)的顶部上;
第二金属层(718),其沉积在所述第二绝缘层(716)的顶部上;
第一接触阵列(724),其将所述第一导电层(702)连接至所述第一金属层(714);
第二接触阵列(720),其将所述第二导电层(706)连接至所述第二金属层(718);以及
第三接触阵列(722),其将所述第三导电层(710)连接至所述第一金属层(714)。
2.根据权利要求1所述的分布式LC滤波器结构,其中,所述第一导电层(702)、所述第二导电层(706)和所述第三导电层(710)分别提供第一电极、第二电极和第三电极,所述第一电极、所述第二电极和所述第三电极形成所述分布式LC滤波器的第一电容性单元。
3.根据权利要求2所述的分布式LC滤波器结构,其中,所述第一电极、所述第二电极和所述第三电极形成所述分布式LC滤波器的第二电容性单元,所述第二电容性单元与所述第一电容性单元并联。
4.根据权利要求3所述的分布式LC滤波器结构,其中,在所述第一电容性单元和所述第二电容性单元中的至少一个中,所述第一电极和所述第二电极形成第一电容,并且所述第二电极和所述第三电极形成第二电容,所述第一电容与所述第二电容并...
【专利技术属性】
技术研发人员:弗雷德里克·瓦龙,穆罕默德·迈赫迪·贾特劳伊,
申请(专利权)人:株式会社村田制作所,
类型:发明
国别省市:日本;JP
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