光刻胶供给管路清洗系统及方法技术方案

本发明专利技术提供一种光刻胶供给管路清洗系统及方法，光刻胶供给管路清洗系统包括：清洗液瓶，用于盛放清洗液；清洗液瓶包括瓶体及瓶盖，瓶盖盖在所述瓶体的瓶口上；光刻胶供给管路，一端经由瓶盖插入至清洗液瓶内，另一端与喷嘴相连接；第一开关阀，位于光刻胶供给管路上；进液管路，一端与供液源相连接，另一端与光刻胶供给管路相连接，且连接于清洗液瓶与第一开关阀之间；第二开关阀，位于进液管路上；及排液管路，一端经由瓶盖插入至清洗液瓶内。本发明专利技术通过两步清洗就可以实现所有光刻胶供给管路的清洗，不需要频繁更换清洗液瓶，也不会存在部分光刻胶供给管路无法清洗的问题。

Cleaning system and method of photoresist supply pipeline

【技术实现步骤摘要】
光刻胶供给管路清洗系统及方法
本专利技术属于集成电路
，特别是涉及一种光刻胶供给管路清洗系统及方法。
技术介绍
在现有半导体的光刻工艺中，在安装使用新的光刻胶之前，需要使用清洗液对光刻胶供给管路进行清洗。现有的光刻胶供给管路清洗系统一般如图1及图2所示；一种清洗方式为使用清洗液瓶10中清洗液对光刻胶供给管路11直接进行清洗，如图1所示，该方式虽然可以对整个光刻胶供给管路11进行清洗，但需要多次手动更换清洗液瓶10以提供大量的清洗液进行清洗，操作复杂，增加人的劳动强度；另一种清洗方式为使用厂务中央供液系统经由进液管路13提供清洗液对光刻胶供给管路11进行清洗，如图2所示，但该清洗方式无法对与所述进液管路13连接处至所述清洗液瓶10之间的所述光刻胶供给管路11进行清洗，在后续进行光刻胶喷涂时会产生颗粒缺陷(particle)。
技术实现思路
鉴于以上所述现有技术的缺点，本专利技术的目的在于提供一种光刻胶供给管路清洗系统及方法，用于解决现有技术中对光刻胶供给管路进行清洗时存在的需要多次手动更换清洗液瓶，操作复杂，浪费人力的问本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光刻胶供给管路清洗系统，其特征在于，所述光刻胶供给管路清洗系统包括：/n清洗液瓶，用于盛放清洗液；所述清洗液瓶包括瓶体及瓶盖，所述瓶盖盖在所述瓶体的瓶口上；/n光刻胶供给管路，一端经由所述瓶盖插入至所述清洗液瓶内，另一端与喷嘴相连接；/n第一开关阀，位于所述光刻胶供给管路上；/n进液管路，一端与供液源相连接，另一端与所述光刻胶供给管路相连接，且连接于所述清洗液瓶与所述第一开关阀之间；/n第二开关阀，位于所述进液管路上；及/n排液管路，一端经由所述瓶盖插入至所述清洗液瓶内。/n

【技术特征摘要】
1.一种光刻胶供给管路清洗系统，其特征在于，所述光刻胶供给管路清洗系统包括：
清洗液瓶，用于盛放清洗液；所述清洗液瓶包括瓶体及瓶盖，所述瓶盖盖在所述瓶体的瓶口上；
光刻胶供给管路，一端经由所述瓶盖插入至所述清洗液瓶内，另一端与喷嘴相连接；
第一开关阀，位于所述光刻胶供给管路上；
进液管路，一端与供液源相连接，另一端与所述光刻胶供给管路相连接，且连接于所述清洗液瓶与所述第一开关阀之间；
第二开关阀，位于所述进液管路上；及
排液管路，一端经由所述瓶盖插入至所述清洗液瓶内。


2.根据权利要求1所述的光刻胶供给管路清洗系统，其特征在于，所述光刻胶供给管路清洗系统还包括：
第三开关阀，所述第三开关阀位于所述排液管路上；及
第一抽液泵，位于所述排液管路上。


3.根据权利要求1所述的光刻胶供给管路清洗系统，其特征在于，所述光刻胶供给管路清洗系统还包括密封装置，所述密封装置位于所述瓶盖与所述瓶体之间。


4.根据权利要求1所述的光刻胶供给管路清洗系统，其特征在于，所述供液源包括厂务中央供液系统。


5.根据权利要求1所述的光刻胶供给管路清洗系统，其特征在于，所述排液管路另一端与厂务排液系统相连接。


6.根据权利要求1至5中任一项所述的光刻胶供给管路清洗系统，其特征在于，所述光刻胶供给管路清洗系统还包括：
供气管路，一端经由所述瓶盖插入至所述清洗液瓶内，另一端与气体源相连接；
缓冲罐，位于所述光刻胶供给管路上，且位于所述第一开关阀与所述喷嘴之间；
过滤器，位于所述光刻胶供给管路上，且位于所述缓冲罐与所述喷嘴之间；
第二抽液泵，位于所述光刻胶供给管路上，且位于所述过滤器与所述喷嘴之间；
流量计，位于所述光刻胶供给管路上，且位于所述第二...

【专利技术属性】
技术研发人员：郭浩，
申请(专利权)人：长鑫存储技术有限公司，
类型：发明
国别省市：安徽;34