剥离层形成用组合物和剥离层制造技术

本发明专利技术提供剥离层形成用组合物，该剥离层形成用组合物包含：(A)含有由下述式(1)表示的重复单元的聚脲、(B)酸化合物或其盐、(C)选自具有经羟基烷基和/或烷氧基甲基取代的氮原子的化合物中的交联剂、(D)含有由下述式(a1)表示的重复单元、由下述式(b)表示的重复单元和由下述式(c)表示的重复单元的高分子添加剂以及(E)溶剂，相对于(A)聚脲100质量份，含有5～100质量份的(D)高分子添加剂。(式中，R

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】剥离层形成用组合物和剥离层
本专利技术涉及剥离层形成用组合物和剥离层。
技术介绍
近年来，对于电子器件，除了薄型化和轻质化这样的特性以外，要求赋予能够弯曲这样的功能。因此，要求替代以往的重、脆弱、不能弯曲的玻璃基板而使用轻质的柔性塑料基板。特别地，对于新一代显示器而言，需要开发使用了轻质的柔性塑料基板(以下也称为树脂基板。)的有源矩阵型全色TFT显示器面板。另外，就触摸面板式显示器而言，已开发了与显示器面板组合使用的触摸面板的透明电极、树脂基板等应对柔性化的材料。作为透明电极，从以往使用的ITO，提出了PEDOT等可进行弯曲加工的透明导电性聚合物、金属纳米线及其混合体系等另外的透明电极材料(专利文献1～4)。另一方面，触摸面板膜的基材也从玻璃变为由聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚酰亚胺、环烯烃、丙烯酸系等的塑料制成的片材等，开发出了具有柔性的透明柔性触摸屏面板(专利文献5～7)。一般地，就柔性触摸屏面板而言，为了稳定地具有生产率和剥离性，通过在玻璃基板等支承基板上制作剥离(压敏粘合)层，在其上制作器件后剥离而生产(专利本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.剥离层形成用组合物，该剥离层形成用组合物包含：/n(A)含有由下述式(1)表示的重复单元的聚脲、/n(B)酸化合物或其盐、/n(C)选自具有经羟基烷基和/或烷氧基甲基取代的氮原子的化合物的交联剂、/n(D)含有由下述式(a1)表示的重复单元、由下述式(b)表示的重复单元和由下述式(c)表示的重复单元的高分子添加剂、和/n(E)溶剂，/n相对于(A)聚脲100质量份，含有5～100质量份的(D)高分子添加剂，/n[化1]/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20170727 JP 2017-145669;20180606 JP 2018-108670;201.剥离层形成用组合物，该剥离层形成用组合物包含：
(A)含有由下述式(1)表示的重复单元的聚脲、
(B)酸化合物或其盐、
(C)选自具有经羟基烷基和/或烷氧基甲基取代的氮原子的化合物的交联剂、
(D)含有由下述式(a1)表示的重复单元、由下述式(b)表示的重复单元和由下述式(c)表示的重复单元的高分子添加剂、和
(E)溶剂，
相对于(A)聚脲100质量份，含有5～100质量份的(D)高分子添加剂，
[化1]



式中，A1、A2、A3、A4、A5和A6各自独立地为氢原子、甲基或乙基，
X1为由下述式(1-1)、(1-2)、(1-3)或(1-4)表示的基团，
[化2]



式中，R1和R2各自独立地为氢原子、碳原子数1～6的烷基、碳原子数3～6的烯基、苄基或苯基，所述苯基可被选自碳原子数1～6的烷基、卤素原子、碳原子数1～6的烷氧基、硝基、氰基、羟基和碳原子数1～6的烷硫基中的至少1种的基团取代，另外，R1和R2可相互键合以与它们键合的碳原子一起形成碳原子数3～6的环，R3为碳原子数1～6的烷基、碳原子数3～6的烯基、苄基或苯基，所述苯基可以被选自碳原子数1～6的烷基、卤素原子、碳原子数1～6的烷氧基、硝基、氰基、羟基和碳原子数1～6的烷硫基中的至少1种的基团取代，
Q1为由下述式(1-5)或(1-6)表示的基团，
[化3]



式中，X2为由式(1-1)、式(1-2)或式(1-4)表示的基团，Q2为碳原子数1～10的亚烷基、亚苯基、亚萘基或亚蒽基，所述亚苯基、亚萘基和亚蒽基可以被选自碳原子数1～6的烷基、卤素原子、碳原子数1～6的烷氧基、硝基、氰基、羟基和碳原子数1～6的烷硫基中的至少1种的基团取代，n1和n2各自独立地为0或1，
[化4]



式中，RA各自独立地为氢原子或甲基，RB1为至少1个氢原子被氟原子取代的碳原子数3或4的分支状的烷基，RC为碳原子数1～10的羟基烷基，RD为碳原子数的6～20的多环式烷基或碳原子数6～12的芳基。


2.根据权利要求1所述的剥离层形成用组合物，其中，在(D)高分子添加物的由式(b)表示的重复单元中，RC为碳原子数2～10的羟基烷基，羟基键合的碳原子为仲碳原子或叔碳原子。


3.根据权利要求1所...

【专利技术属性】
技术研发人员：进藤和也，西田登喜雄，江原和也，何邦庆，
申请(专利权)人：日产化学株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP