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本发明提供剥离层形成用组合物，该剥离层形成用组合物包含：(A)含有由下述式(1)表示的重复单元的聚脲、(B)酸化合物或其盐、(C)选自具有经羟基烷基和/或烷氧基甲基取代的氮原子的化合物中的交联剂、(D)含有由下述式(a1)表示的重复单元、由...
该专利属于日产化学株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过日产化学株式会社授权不得商用。

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