蒸发镀膜设备和蒸发镀膜系统技术方案

本实用新型专利技术公开了一种蒸发镀膜设备和蒸发镀膜系统，其中，该设备包括：多个蒸发源，呈阵列排布；多个加热装置，与蒸发源一一对应；多个蒸发量监控装置，与蒸发源一一对应，设置于蒸发源上方，用于检测当前蒸发量；控制装置，分别与蒸发量监控装置和加热装置连接，用于调整加热装置的加热量进而分别调整蒸发量。该系统中蒸发源呈阵列分布，每一个蒸发源设置一个加热装置，并且在其上方设置蒸发量监控装置，从而控制器可分别对每一个加热装置的加热量进行调整，进而单独调整每一个蒸发源的蒸发量，调节过程更加精确，使得蒸镀的膜层厚度均匀。

Evaporation coating equipment and evaporation coating system

【技术实现步骤摘要】
蒸发镀膜设备和蒸发镀膜系统
本技术涉及蒸镀
，具体涉及一种蒸发镀膜设备和蒸发镀膜系统。
技术介绍
蒸镀是将材料在真空环境中加热，使之气化并沉积到基片而获得薄膜材料的方法，又称为真空蒸镀或真空镀膜。目前通常采用点源蒸镀或线性源蒸镀进行蒸镀；其中，点源蒸镀技术发展较为成熟，已经在生产线实现了量产，但点源蒸发源是不连续的，导致蒸发镀膜的膜层均匀性较差；线性源蒸镀，在设备机械加工完成后，线性源的调节性差，也使得蒸发镀膜后的膜层均匀性差。
技术实现思路
有鉴于此，本技术实施例提供了一种蒸发镀膜设备和蒸发镀膜系统，以解决现有技术中蒸发镀膜的膜层厚度不均匀的问题。根据第一方面，本技术实施例提供了一种蒸发镀膜设备，包括：多个呈阵列式排布的蒸发源；多个加热装置，与多个所述蒸发源一一对应，用于对所述蒸发源内的蒸发材料进行加热。可选地，还包括：多个与多个蒸发源一一对应的蒸发量监控装置，设置于所述蒸发源上方的蒸镀范围内，用于检测所述蒸发源的当前蒸发量。可选地，还包括：控制装置，分别与所述多个蒸发量监控装置和所述多个加热装置连接，用于根据所述蒸发量监控装置的反馈，控制与所述蒸发量监控装置对应的所述加热装置，进而分别调整每一个蒸发源的蒸发量。可选地，沿与所述基板移动方向相垂直的方向排列的一列或相邻多列蒸发源，用于设置同一种蒸发材料；在与基板移动方向相垂直的方向上，任意相邻的两个蒸发源对应的蒸镀范围至少存在部分重叠。可选地，所述多个蒸发源包括至少两组蒸发源，每一组蒸发源包括一列或相邻多列蒸发源，所述一组蒸发源用于设置同一种蒸发材料；所述至少两组蒸发源中设置的材料分别与欲形成的至少两层膜层的材料对应，所述至少两层膜层层叠设置。可选地，还包括：隔离装置，设置于相邻的两组蒸发源之间，用于避免相邻组蒸发源中的蒸发材料在蒸镀过程中相互混合。可选地，所述蒸发源为点状蒸发源，且多个点状蒸发源等间距排列。可选地，所述蒸发源包括：容器；喷嘴，设置于所述容器的开口处，所述喷嘴的底部开口与所述容器的开口相适应，所述喷嘴的顶部开口的面积大于所述底部开口的面积。可选地，所述喷嘴的蒸镀范围根据所述喷嘴的开口角度、以及所述喷嘴底部开口与所述基板的距离确定；在与基板移动方向相垂直的方向上，任意相邻的两个喷嘴对应的蒸镀范围至少存在部分重叠。可选地，所述蒸发量监控装置包括石英晶体微天平。根据第二方面，本技术实施例提供了一种蒸发镀膜系统，包括如本技术第一方面中任一所述的蒸发镀膜设备。可选地，还包括：膜层参数监控装置，与所述蒸发镀膜设备的控制装置连接，用于检测基板上蒸镀形成的膜层的参数；所述蒸发镀膜设备的控制装置还用于根据当前蒸发量和蒸镀膜层的参数调整所述加热装置的加热量进而分别调整所述蒸发镀膜设备的蒸发源的蒸发量。可选地，所述蒸镀膜层的参数包括膜层厚度和/或膜层成分信息。可选地，所述膜层参数监控装置包括X射线荧光光谱分析仪。本技术技术方案，具有如下优点：本技术实施例提供的蒸发镀膜设备，采用呈阵列分布的蒸发源，且每一个蒸发源设置一个加热装置，方便在镀膜的过程中调节，例如调节某个区域的镀膜厚度，调节过程更加精确；而且，多个阵列分布的蒸发源，与一个点蒸发源和一个线蒸发源的方式相比，可以使得蒸镀的膜层厚度更均匀。同时，呈阵列分布的蒸发源还可实现大面积的均匀镀膜。附图说明为了更清楚地说明本技术具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本技术的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本技术实施例中蒸发镀膜设备的一个应用场景的示意图；图2为本技术实施例中图1的仰视图；图3为本技术实施例中蒸发镀膜设备的一个具体示例的示意图；图4为本技术实施例中蒸发镀膜设备的蒸发源的一个具体示例的示意图；图5为本技术实施例中蒸发镀膜设备的另一个具体示例的示意图；图6为本技术实施例中蒸发镀膜设备的另一个具体示例的示意图；图7为本技术实施例中蒸发镀膜系统的一个具体示例的示意图；图8为本技术实施例中蒸发镀膜控制方法的一个具体示例的流程图。附图标记：1、蒸发源；11、容器；12、喷嘴；2、基板；3、加热装置；4、蒸发量监控装置；5、控制装置；6、隔离装置；7、膜层参数监控装置。具体实施方式为使本技术实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。在本技术的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。在本技术的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，还可以是两个元件内部的连通，可以是无线连接，也可以是有线连接。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。此外，下面所描述的本技术不同实施方式中所涉及的技术特征只要彼此之间未构成冲突就可以相互结合。图1是本技术实施例的一个应用场景的示意图，基板2在蒸镀过程中沿着图1所示的移动方向自左向右进行移动。下方设置有蒸发源1，蒸发源1可以加热容置在其内的待蒸发材料，使待蒸发材料蒸发上升附着在基板2上。基板2位于蒸发源1的上方，在蒸镀过程中基板2自左向右移动，当基板2移过蒸发源1之后，基板2上随之形成覆盖其上的与蒸发源1中待蒸发材料一致的膜层。本实施例还提供一种蒸发镀膜设备，如图2所示，包括：多个呈阵列排布的蒸发源1；多个加热装置3，与多个蒸发源1一一对应，用于对蒸发源1的容器内的蒸发材料进行加热。例如，所述蒸发镀膜设备用于对基板2进行蒸镀。本公开中将蒸发源改为分散的多个蒸发源，多个蒸发源呈阵列式排布，这样可以待蒸发材料可以同时从多个蒸发源的分布区域蒸发出来，即形成的气态待蒸发材料可以分布得更均匀，这样形成得薄膜厚度比较均匀，尤其本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种蒸发镀膜设备，其特征在于，包括：/n多个呈阵列式排布的蒸发源；/n多个加热装置，与多个所述蒸发源一一对应，用于对所述蒸发源内的蒸发材料进行加热。/n

【技术特征摘要】
1.一种蒸发镀膜设备，其特征在于，包括：
多个呈阵列式排布的蒸发源；
多个加热装置，与多个所述蒸发源一一对应，用于对所述蒸发源内的蒸发材料进行加热。


2.根据权利要求1所述的蒸发镀膜设备，其特征在于，还包括：
多个与多个蒸发源一一对应的蒸发量监控装置，设置于所述蒸发源上方的蒸镀范围内，用于检测所述蒸发源的当前蒸发量。


3.根据权利要求2所述的蒸发镀膜设备，其特征在于，还包括：
控制装置，分别与所述多个蒸发量监控装置和所述多个加热装置连接，用于根据所述蒸发量监控装置的反馈，控制与所述蒸发量监控装置对应的所述加热装置，进而分别调整每一个蒸发源的蒸发量。


4.根据权利要求1－3任一项所述的蒸发镀膜设备，其特征在于，沿与基板移动方向相垂直的方向排列的一列或相邻多列蒸发源，用于设置同一种蒸发材料；
在与基板移动方向相垂直的方向上，任意相邻的两个蒸发源对应的蒸镀范围至少存在部分重叠。


5.根据权利要求4所述的蒸发镀膜设备，其特征在于，
所述多个蒸发源包括至少两组蒸发源，每一组蒸发源包括用于设置同一种蒸发材料的一列或相邻多列蒸发源；所述至少两组蒸发源中设置的材料分别与欲形成的至少两层膜层的材料对应，所述至少两层膜层层叠设置。


6.根据权利要求5所述的蒸发镀膜设备，其特征在于，还包括：
隔离装置，设置于相邻的两组蒸发源之间，用于避免相邻组蒸发源中的...

【专利技术属性】
技术研发人员：王正安，郭逦达，丁友谊，赵树利，
申请(专利权)人：北京铂阳顶荣光伏科技有限公司，
类型：新型
国别省市：北京;11