一种中心供液抛光轮机构及抛光机设备制造技术

本发明专利技术公开了一种中心供液抛光轮机构及抛光机设备，所述中心供液抛光轮机构包括缸体和设置在所述缸体内的抛光轮体，所述抛光轮体的中部设置有旋转主轴，所述旋转主轴内设置有可相对所述旋转主轴伸缩的活塞杆，所述活塞杆的底部设置有一出液孔，所述活塞杆的一侧设置有偏心孔，所述偏心孔与所述出液孔连通。本发明专利技术提供的一种中心供液抛光轮机构及抛光机设备，抛光液采用中心供液的供液方式，能够使抛光液均匀准确地的布满整个磨头的抛光面，并且能够并避免抛光液到处飞溅的影响，从而达到更好的抛光效果，并且采用橡胶防护套可以将抛光液进行密封，从而更好地使抛光液完全进入旋转主轴从而均匀喷洒。

A polishing wheel mechanism and polishing machine equipment for central liquid supply

【技术实现步骤摘要】
一种中心供液抛光轮机构及抛光机设备
本专利技术涉及抛光轮的机构及设备
，具体涉及的是一种中心供液抛光轮机构及抛光机设备。
技术介绍
抛光机也称为研磨机，常常用作机械式研磨、抛光及打蜡，抛光机在抛光过程中，所述抛光轮由电机驱动旋转，旋转的抛光轮对工件的表面进行抛光。其工作原理是：电动机带动安装在抛光机上的抛光盘高速旋转，由于抛光盘和抛光剂共同作用并与待抛表面进行摩擦，进而可以达到去除漆面污染、氧化层、浅痕的目的。一般的，抛光盘的转速一般在1500-3000r/min，多为无级变速，施工时可根据需要随时调整；目前平板类零部件的表面抛光处理一般不能自身供液，通常采用外部供液，而采用外部供液则会导致抛光轮机构在抛光时抛光液分布不均匀，或者抛光液喷射不到抛光的位置，又或者会使得抛光液到处飞溅，从而影响抛光的效果以及产生不必要的工作量。因此，现有技术还有待提高。
技术实现思路
鉴于上述现有技术的不足之处，本专利技术的目的在于提供一种能够自身提供抛光液且均匀喷射的中心供液抛光轮机构及抛光机设备。为解决以上技术问题，本专利技术采取了以下技术方案：一种中心供液抛光轮机构，所述中心供液抛光轮机构包括缸体和设置在所述缸体内的抛光轮体，所述抛光轮体的中部设置有旋转主轴，所述旋转主轴内设置有可相对所述旋转主轴伸缩的活塞杆，所述活塞杆的底部设置有一出液孔，所述活塞杆的一侧设置有偏心孔，所述偏心孔与所述出液孔连通。所述的中心供液抛光轮机构中，其中，所述缸体包括端盖、轴承座以及轴承压盖，所述端盖上设置有用于向所述活塞杆内供液的供液孔。所述的中心供液抛光轮机构中，其中，所述活塞杆上还设置有保护套和导向铜套，所述导向铜套套设在活塞杆上，所述保护套呈圆台状，其底面直径较大一端连接在旋转主轴上，其底面直径较小一端连接在活塞杆上。所述的中心供液抛光轮机构中，其中，所述保护套与所述旋转主轴的连接处以及所述保护套与活塞杆的连接处还设置有密封圈和挡圈，所述密封圈有两个，分别套设在所述旋转主轴上和所述活塞杆上，所述挡圈套设在所述导向铜套上。所述的中心供液抛光轮机构中，其中，所述活塞杆上还套设有圆柱键，所述圆柱键镶嵌于所述旋转主轴内，与所述旋转主轴配合固定。所述的中心供液抛光轮机构中，其中，所述旋转主轴的上端设置有螺旋伞齿，所述螺旋伞齿通过平键与所述旋转主轴固定，并通过螺母与所述旋转主轴连接。所述的中心供液抛光轮机构中，其中，所述旋转主轴上套设有轴承,所述轴承设置有3个，所述轴承为深沟球轴承或交叉滚轴轴承。所述的中心供液抛光轮机构中，其中，所述轴承的外侧通过套设的轴承座和轴承压盖限位固定。所述的中心供液抛光轮机构中，其中，所述轴承座的两端通过螺钉分别与所述轴承压盖和端盖固定连接。一种抛光机设备，包括抛光机设备本体，所述抛光机设备本体上设置有如上述所述的中心供液抛光轮机构。相较于现有技术，本专利技术公开了一种中心供液抛光轮机构及抛光机设备，所述中心供液抛光轮机构包括缸体和设置在所述缸体内的抛光轮体，所述抛光轮体的中部设置有旋转主轴，所述旋转主轴内设置有可相对所述旋转主轴伸缩的活塞杆，所述活塞杆的底部设置有一出液孔，所述活塞杆的一侧设置有偏心孔，所述偏心孔与所述出液孔连通，抛光液采用中心供液的供液方式，能够使抛光液均匀准确地的布满整个磨头的抛光面，并且能够并避免抛光液到处飞溅的影响，从而达到更好的抛光效果，并且采用橡胶防护套可以将抛光液进行密封，从而更好地使抛光液完全进入旋转主轴从而均匀喷洒。附图说明下面将结合附图及实施例对本专利技术作进一步说明，附图中：图1为本专利技术提供的中心供液抛光轮机构的等轴测视图。图2为本专利技术提供的中心供液抛光轮机构的主视图的半剖视图。图3为本专利技术提供的中心供液抛光轮机构的爆炸分解图。图4为本专利技术提供的中心供液抛光轮机构的旋转主轴的主视图。图5为本专利技术提供的中心供液抛光轮机构的活塞杆的半剖视图。图6为本专利技术提供的中心供液抛光轮机构的端盖的主视图。图7为本专利技术提供的中心供液抛光轮机构的保护套的示意图。具体实施方式为了使本专利技术的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本专利技术进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本专利技术，并不用于限定本专利技术。需要说明的是，当部件被称为“装设于”、“固定于”或“设置于”另一个部件上，它可以直接在另一个部件上或者可能同时存在居中部件。当一个部件被称为是“连接于”另一个部件，它可以是直接连接到另一个部件或者可能同时存在居中部件。还需要说明的是，本专利技术实施例中的左、右、上、下等方位用语，仅是互为相对概念或是以产品的正常使用状态为参考的，而不应该认为是具有限制性的。本专利技术实施例提供了一种中心供液抛光轮机构，具体请参阅图1-图3，所述中心供液抛光轮机构包括缸体1和设置在所述缸体1内的抛光轮体(图中未标号)，所述抛光轮体的中部设置有旋转主轴3，所述旋转主轴3内设置有可相对所述旋转主轴3伸缩的活塞杆4，所述活塞杆4的底部设置有一出液孔5，所述活塞杆4的一侧设置有偏心孔6，所述偏心孔6与所述出液孔5连通。本实施例中，通过电机驱动减速机转动，减速机主轴(不同于旋转主轴3)旋转带动旋转主轴3的旋转，进而驱动活塞杆4做旋转运动，所述活塞杆4与旋转座7连接，旋转座7上可装设有磨头，进一步的带动旋转座7和磨头做旋转运动，实现抛光效果，体积小巧，结构简单，同时，通过活塞杆4的底部设置的出液孔5可以将抛光液均匀喷洒在待抛光物件表面，由于磨头在旋转时会产生离心力，可以使抛光液均匀的布满整个磨头的抛光面，从而使得抛光效果更好，也更加稳定。进一步地，请继续参阅图1、图2和图6，本实施例中，所述缸体1包括端盖8、轴承座9以及轴承压盖10，所述端盖8上设置有用于向所述活塞杆4内供液的供液孔11，所述供液孔11可插快插管接头2。具体的，请一并参阅图5，所述端盖8内有一密封的腔体，所述快插管接头2与外部抛光液管路连接，抛光液通过插在所述供液孔11上的快插管接头2进入所述端盖8内的密封腔体，将抛光液存储在腔体内，进一步的，抛光液再通过所述活塞杆4上的偏心孔6进入活塞杆4内的出液孔5，进一步将抛光液均匀喷洒在待抛光物件表面,实现轴向偏心出液功能。出液过程简单快捷，没有产生多余的不必要的结构，出液也更加稳定。进一步地，请参阅图2、图3，所述活塞杆4上还设置有保护套12和导向铜套13，所述导向铜套13套设在活塞杆4上，所述保护套12呈圆台状结构设置，其底面直径较大一端连接在旋转主轴3上，其底面直径较小一端连接在活塞杆4上。具体的，请继续参阅图2、图4，所述保护套12是橡胶保护套，具有弹性，而活塞杆4在通气孔16通入压缩气体的作用下，是可以产生轴向滑动的，因此，抛光液从供液孔11进入端盖8的内腔里面时，为了防止抛光液不进入旋转主轴3的腔体里面，此时保护套12会把抛光液挡在外面。并且保护本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种中心供液抛光轮机构，所述中心供液抛光轮机构包括缸体和设置在所述缸体内的抛光轮体，其特征在于，所述抛光轮体的中部设置有旋转主轴，所述旋转主轴内设置有可相对所述旋转主轴伸缩的活塞杆，所述活塞杆的底部设置有一出液孔，所述活塞杆的一侧设置有偏心孔，所述偏心孔与所述出液孔连通。/n

【技术特征摘要】
1.一种中心供液抛光轮机构，所述中心供液抛光轮机构包括缸体和设置在所述缸体内的抛光轮体，其特征在于，所述抛光轮体的中部设置有旋转主轴，所述旋转主轴内设置有可相对所述旋转主轴伸缩的活塞杆，所述活塞杆的底部设置有一出液孔，所述活塞杆的一侧设置有偏心孔，所述偏心孔与所述出液孔连通。


2.根据权利要求1所述的中心供液抛光轮机构，其特征在于，所述缸体包括端盖、轴承座以及轴承压盖，所述端盖上设置有用于向所述活塞杆内供液的供液孔。


3.根据权利要求2所述的中心供液抛光轮机构，其特征在于，所述活塞杆上还设置有保护套和导向铜套，所述导向铜套套设在活塞杆上，所述保护套呈圆台状，其底面直径较大一端连接在旋转主轴上，其底面直径较小一端连接在活塞杆上。


4.根据权利要求3所述的中心供液抛光轮机构，其特征在于，所述保护套与所述旋转主轴的连接处以及所述保护套与活塞杆的连接处还设置有密封圈和挡圈，所述密封圈有两个，分别套设在所述旋转主轴上和所述活塞杆上，所述挡圈套设在所述导向铜套上。

【专利技术属性】
技术研发人员：彭富国，陶申利，
申请(专利权)人：湖南安冠智能科技有限公司，
类型：发明
国别省市：湖南;43