具有滑动层的封装件和用于药品和化妆物质的方法以及用于其生产的制剂技术

技术编号:23509444 阅读:16 留言:0更新日期:2020-03-17 22:15
本发明专利技术涉及一种用于施加在中空体内侧上以在用于药品或化妆品的封装件上产生滑动层的制剂。所述液体制剂包括以下成分:‑用于形成滑动层的有机硅网络的反应性有机硅体系,‑用于催化反应性有机硅体系的交联反应的催化剂,‑至少一种非反应性硅油,‑和至少一种稀释剂,其中,稀释剂包括含硅的化合物,并且其中,稀释剂在所述制剂中的含量为制剂的至少45重量百分比以上且95重量百分比以下。此外,本发明专利技术涉及一种用于药品或化妆品的封装件,以及一种用于生产用于药品或化妆品的封装件的方法。

Package with sliding layer, method for medicine and cosmetic substance and preparation for its production

【技术实现步骤摘要】
具有滑动层的封装件和用于药品和化妆物质的方法以及用于其生产的制剂
本专利技术通常涉及用于容纳药品和化妆制剂的容器。特别地,本专利技术涉及具有滑动层的这种容器,该滑动层便于活塞或塞子的滑动以便排空容器。
技术介绍
基于塑料的化妆品和药品封装件几十年来已是现有技术,但它们也导致各种不同的挑战。在作为药品封装件用于注射器应用时,最大的挑战在于,以很小的力使插入的塞子运动。塞子的小的静摩擦和滑动摩擦使内容物能够完全地且迅速地从注射器中推出并且能够使要治疗的患者由于塞子的不均匀的运动或甚至塞子的停滞产生的不舒适性减小到最低程度。从现有技术中,特别是众所周知,硅化的药品封装件用于解决这一挑战。在US4767414A中描述了在用等离子体激活塑料内表面之后,将硅油施加在内壁上。在任何情况下都希望能够取消等离子体激活的步骤。此外,化学非共价结合的硅油可能会进入患者中,尤其是人的血流中。EP0920879B1描述了一种基于有机硅的混合物。由反应性硅油和非反应性硅油组成的混合物实现了有机硅层在衬底上的粘合,以及塞子的良好的滑动性能。此外,另一个挑战在于,在对封装件的各种影响下保持滑动层的滑动性能。
技术实现思路
因此,本专利技术基于的目的是提供一种用于药品和化妆品的容器,该容器相对于外部影响具有尽可能不敏感的滑动层。该目的通过独立权利要求的主题来实现。有利的实施例和扩展方案在相应的从属权利要求中给出。因此,本专利技术提供一种用于施加到中空体的内侧上的制剂,其用于在药品或化妆品的封装件上产生滑动膜或滑动层。液体制剂包括:-用于形成所述滑动层的有机硅网络的反应性有机硅(Silikon)体系,-用于催化所述反应性有机硅体系的交联反应的催化剂,-至少一种非反应性硅油(优选聚二甲基硅氧烷),-至少一种稀释剂,其中,所述稀释剂包括含硅的化合物,并且其中,所述稀释剂在所述制剂中的含量为所述制剂的45重量百分比以上且95重量百分比以下。根据一个实施方式,稀释剂在制剂中的含量大于45重量百分比且小于95重量百分比。非反应性硅油在本专利技术的意义上被理解为一种没有可交联或可聚合的基团的聚硅氧烷。特别地,非反应性硅油是具有脂肪族基团的聚硅氧烷,例如聚二甲基硅氧烷。已经证明,当溶剂比例,即稀释剂的比例大于制剂的45重量百分比时,滑动层变得特别耐抗。因此,对于作为稀释剂的六甲基二硅氧烷(HMDSO),至少50重量百分比(wt%)的溶剂比例被看作是特别有利的。溶剂比例的减少逐渐导致较低硬化的层。对于低的溶剂比例,可以假设更高的层强度以及更好的固化,这是因为防止了在聚合链中嵌入溶剂分子。但是情况并非如此。根据本专利技术,稀释剂或溶剂包括含硅的化合物,优选有机硅化合物(siliziumorganische)。已经令人惊奇地表明,稀释剂的Si含量在层粘附和固化中起着决定性的作用。在这种情况下,硅氧烷或聚硅氧烷(例如HMDSO)的使用已被证明是特别有利的。在这种情况下,相应的层具有均匀的组成以及在衬底上的良好的层粘附性。特别地,良好的层粘附性就此而言是令人惊讶的,因为衬底包括有机塑料并且通常不具有Si-O键,稀释剂与在制剂中存在的硅油发生共价的相互作用并且因此可以实现增加的层粘附性。因此,可以在不限于该假设下设想,含硅的稀释剂也作为一种粘合促进剂在通常不含硅的衬底和在制剂中的硅油之间起作用。此外,基于硅氧烷的含硅稀释剂(例如HMDSO)具有相对低的表面张力,这在润湿衬底表面方面上是有利的。通常,在不限于基于硅氧烷的稀释剂的情况下下,此时含硅稀释剂优选具有小于19mN/m的表面张力。此外,推测稀释剂的硅或硅氧烷官能性有利地影响在稀释剂中的硅油的溶解性并且因此也有利地影响在制剂中的硅油的均匀分布,这又实现相应的涂层的高的均匀性。与此不同地,含有作为稀释剂的无硅溶剂(例如甲苯)的制剂无法获得均匀的层。在这种情况下,也无法通过增加稀释剂含量来显著地改进层性能。另一方面,在根据本专利技术的制剂中,甚至更高比例的稀释剂在相应的层的层性能方面已被证明是有利的。因此,在扩展方案中提供,在制剂中的稀释剂的比例为至少60重量百分比、优选大于70重量百分比、特别优选大于80重量百分比并且更特别优选大于82重量百分比。因此,制剂的稀释剂可以容易地超过总重量的4/5,并且由其制备的滑动层具有非常好的性能。低的层强度通常导致滑动层的失效,因为该滑动层通过塞子在中空体中运动时被剥离,或者该滑动层甚至可以在没有外力影响下就与内壁分离。然后,通常无法达到静摩擦和滑动摩擦的期望的系数(“HGR系数”)。例如,在作为稀释剂的HMDSO的含量太低时表明,反应溶液的聚合被降低到这样的程度,即反应溶液在中空体中的直立的样品上向下流动并积聚在衬底上。在这种情况下,在制剂中的高含量的稀释剂或溶剂对交联层的层强度的有利影响是极其令人惊讶的。因此,低浓度的反应性基团通常导致较低的聚合度并且因此导致弱交联的层。然而,在根据本专利技术的制剂的交联中,令人惊讶的是,尽管在制剂中的溶剂比例或稀释剂比例高,仍然获得了具有高交联度和高层强度的层。此外,可以观察到,通过具有高比例稀释剂的制剂的湿润是非常均匀的。因此,在根据本专利技术的稀释剂含量的情况下,在待湿润的衬底上没有发生制剂的岛的形成,例如所谓的莲花效应的形式。这导致表面的均匀的润湿。因此,根据本专利技术的一个实施方式,在23℃的温度下,一秒之后,制剂在干净的硼硅酸盐玻璃上的接触角小于28°,更优选小于26°,更优选小于24°,更优选小于22°更优选小于20°,更优选小于18°,更优选小于15°,更优选小于12°,更优选小于10°和更特别优选小于5°。在这种情况下,接触角随着稀释剂含量的增加而减小。备选地或附加地,根据另一个实施方式,在23℃下体积10μl(微升)的被施加到干净的硼硅酸盐玻璃表面上的制剂液滴的铺展在7.3至20mm的范围内,优选地在7.5至18mm的范围内,特别是在7.9至17mm的范围内,更优选地在9至16mm的范围内,更优选地在9.5至15mm的范围内,更优选地在10至14mm的范围内,更优选地在11至13.5mm的范围内,以及特别优选地在12至13mm的范围内。在这种情况下,在将液滴施加之后5s借助于光学显微镜通过测量液滴尺寸来确定该铺展。根据本专利技术,制剂中的高比例的稀释剂也有利地影响润湿速度以及交联速率。因此,交联速度随着在制剂中的稀释剂的浓度而增加,使得制剂也可以被更快地施用。所述制剂具有一种稀释剂含量,该稀释剂含量确保制剂在待涂覆的衬底上快速地交联并均匀地施加以及制剂在衬底上有利地铺展。相反,其稀释剂含量大于95重量%的制剂无法再被均匀地施加。此外,相应的制剂不再具有任何可测量的铺展。此外,在稀释剂蒸发之后获得的层仅具有非常小的厚度,由此这些层仅具有不充分的滑动效果。此外,从经济观点来看,通过额外比例的溶剂向相应稀释的制剂施加是不利的,该额外比例的溶剂对层性能不产生积极影响。此外,就含有的有机硅的量而言,根据本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于施加在中空体内侧上以在用于药品或化妆品的封装件上产生滑动层的制剂,其中,所述液体制剂包括:/n-用于形成所述滑动层的有机硅网络的反应性有机硅体系,/n-用于催化所述反应性有机硅体系的交联反应的催化剂,/n-至少一种非反应性硅油,/n-和至少一种稀释剂,/n其中,所述稀释剂包括含硅的化合物,并且其中所述稀释剂在所述制剂中的含量为所述制剂的45重量百分比以上且95重量百分比以下。/n

【技术特征摘要】
20180910 DE 102018122001.41.一种用于施加在中空体内侧上以在用于药品或化妆品的封装件上产生滑动层的制剂,其中,所述液体制剂包括:
-用于形成所述滑动层的有机硅网络的反应性有机硅体系,
-用于催化所述反应性有机硅体系的交联反应的催化剂,
-至少一种非反应性硅油,
-和至少一种稀释剂,
其中,所述稀释剂包括含硅的化合物,并且其中所述稀释剂在所述制剂中的含量为所述制剂的45重量百分比以上且95重量百分比以下。


2.根据权利要求1所述的制剂,其特征在于,所述反应性有机硅体系是多组分体系,优选是双组分体系。


3.根据前述权利要求中任一项所述的制剂,其特征在于,具有以下特征中的至少一个特征:
-所述稀释剂包括具有至多6个硅原子的含硅的有机化合物,
-所述稀释剂具有小于19mN/m的表面张力;
优选地,所述制剂具有以下稀释剂中的至少一种稀释剂:
-环状有机硅,特别是八甲基环四硅氧烷、十甲基环五硅氧烷、十二甲基环六硅氧烷、四甲基环四硅氧烷、五甲基环五硅氧烷,
-六甲基二硅氧烷(HMDSO),
-八甲基三硅氧烷,
-十甲基四硅氧烷。


4.根据前述权利要求中任一项所述的制剂,其中,所述制剂在23℃下的粘度在1至50000cSt的范围内,优选地在10至35000cSt的范围内,并且特别优选地在2500至22000cSt的范围内,更特别优选地在8000至10000cSt的范围内。


5.根据前述权利要求中任一项所述的制剂,其中,所述制剂在23℃的温度下的粘度在0.5至200mPas的范围内、优选地在1至50mPas的范围内、并且特别优选地在1至10mPas的范围内。


6.根据前述权利要求中任一项所述的制剂,其中,在23℃的温度下,在1s后,所述制剂在硼硅酸盐玻璃表面上的接触角小于28°,优选地小于24°,特别优选地小于18°,以及更特别优选地小于5°。


7.根据前述权利要求中任一项所述的制剂,其中,在23℃的温度下,在5s后,体积10μl的所述制剂的液滴在硼硅酸盐玻璃表面上的铺展在7.3至20mm的范围内,优选地在7.9至17mm的范围内,特别优选地在9.5至15mm的范围内,更特别优选地在11至13.5mm的范围内。


8.根据前述权利要求中任一项所述的制剂,其特征在于,所述制剂包含有机金属催化剂,优选含铂的催化剂,特别优选氯铂酸;优选地,其中,催化剂在所述制剂中的比例为0.001-5重量%,优选0.01-1.5重量%,和/或催化剂与反应性有机硅体系的重量比在0.01至0.2的范围内,优选在0.01至0.1的范围内。


9.根据前述权利要求中任一项的制剂,其中,所述制剂具有用于抑制反应性...

【专利技术属性】
技术研发人员:S·曼戈尔德T·斯威克
申请(专利权)人:肖特股份有限公司
类型:发明
国别省市:德国;DE

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