【技术实现步骤摘要】
用于压印的结构印模、装置以及方法
本专利技术涉及根据本专利技术的用于压印的结构印模、根据本专利技术的装置以及根据本专利技术的方法。
技术介绍
用于表面的微结构化和/或纳米结构化的当前的现有技术主要包括影印平版印刷技术和不同的压印技术。压印技术或者利用硬印模或者利用软印模来工作。近来,主要盛行压印平版印刷技术并且正取代传统的影印平版印刷技术。在压印平版印刷技术当中,主要越来越倾向使用所谓的软印模。原因在于印模的简单的制造、高效的压印过程、相应的印模材料的非常好的表面性能、低的成本、压印产品的可复制性,且原因主要在于印模在脱模过程中的弹性变形的可能性。在软平版印刷技术中,使用由带有微结构化或纳米结构化的表面的弹性体制成的印模,以便制成在20nm直至>1000μm范围中的结构。存在六种已知的技术:·微接触和/或纳米接触印刷(μ/nCP)·复制模制(REM)·微转印模制(μTM)或者纳米压印平版印刷(NIL)·毛细管微模制(MIMIC)·溶剂辅助的微模制(SAMIM),以及·相 ...
【技术保护点】
1.一种结构印模(5),带有/n-具有微结构化和/或纳米结构化的印模面(2)的柔性印模(1),印模面(2)用于将与所述印模面(2)对应的压印结构压印在压印面(6o)上,/n-框架(3),其用于夹紧所述印模(1),/n其特征在于,所述印模(1)如此柔性地来构造,即,所述印模(1)可借助于压印元件(8)利用线性力伸展超出由所述框架(3)限定的表面平面。/n
【技术特征摘要】
1.一种结构印模(5),带有
-具有微结构化和/或纳米结构化的印模面(2)的柔性印模(1),印模面(2)用于将与所述印模面(2)对应的压印结构压印在压印面(6o)上,
-框架(3),其用于夹紧所述印模(1),
其特征在于,所述印模(1)如此柔性地来构造,即,所述印模(1)可借助于压印元件(8)利用线性力伸展超出由所述框架(3)限定的表面平面。
2.根据权利要求1所述的结构印模(5),其特征在于,所述印模(1)在所述框架(3)的相对而置的至少两个夹紧侧(10,10')处夹紧。
3.根据权利要求2所述的结构印模(5),其特征在于,所述印模(1)在所述框架(3)的相对而置的至少两个夹紧侧(10,10')处以利用弹簧(12)弹性加载的方式夹紧。
4.根据权利要求2所述的结构印模(5),其特征在于,所述印模(1)在所述框架(3)的相对而置的至少两个夹紧侧(10,10')处借助于布置在相对而置的两个侧部处的两个夹紧板条(4,4')夹紧。
5.根据权利要求1-4中任一项所述的结构印模(5),其特征在于,所述框架(3)具有相对而置地伸延的两个引导板条(9,9')以用于沿着印模(1)的加载侧(2u)引导压印元件(8),加载侧(2u)沿着所述印模(1)的背对所述印模面(2)的侧部来布置。
6.根据权利要求5所述的结构印模,其特征在于,这两个引导板条(9,9')彼此平行地伸延。
7.根据权利要求5所述的结构印模,其特征在于,所述压印元件(8)是压印辊子。
8.根据权利要求5所述的结构印模,其特征在于,所述表面平面通过所述引导板条(9,9')限定。
9.根据权利要求1-4中...
【专利技术属性】
技术研发人员:P菲舍尔,G克赖因德尔,J哈明,C塔纳,C舍恩,
申请(专利权)人:EV集团E·索尔纳有限责任公司,
类型:发明
国别省市:奥地利;AT
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