用于纳米压印的印模制造技术

本公开涉及一种用于纳米压印的印模，所述印模包括基体基底、设置在所述基体基底上并具有不同宽度的第一图案部分和第二图案部分以及具有不同宽度的第三图案部分和第四图案部分。所述第一图案部分至所述第四图案部分中的每个包括多个纳米图案，并且所述第一图案部分、所述第三图案部分、所述第二图案部分和所述第四图案部分设置为在第一方向上按顺序彼此相邻地布置。

Impression for nano imprinting

【技术实现步骤摘要】
用于纳米压印的印模相关申请的交叉引用本专利申请要求于2018年8月31日提交的第10-2018-0103601号韩国专利申请的优先权，该韩国专利申请的公开内容通过引用全部包含于此。
本公开涉及用于纳米压印的印模及其制造方法，更具体地涉及能够被制造以降低制造成本的用于纳米压印的主印模及其制造方法。
技术介绍
通常，纳米压印是指用于将纳米级的精细图案形成在层上的技术。例如，纳米压印工艺包括在制造诸如显示面板或半导体芯片的器件的工艺中将精细图案压印到薄膜上的工艺。在纳米压印工艺中，将具有纳米图案的印模按压到薄膜上，以根据印模的纳米图案来将薄膜图案化。纳米压印工艺在降低制造成本的同时简化了薄膜的图案化工艺并提高了生产率。可以通过使用相同的印模重复地执行相同的图案化工艺来将纳米图案压印在具有大面积的器件的层上。因此，重复使用印模的能力和印模的耐久性可以显著地节约制造器件的成本和时间，尤其当器件具有诸如大显示面板的大区域时。
技术实现思路
本公开提供了用于在器件的制造工艺中将纳米图案压印在器件的层上的印模。本公开本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于纳米压印的印模，其中，所述印模包括：/n基体基底，所述基体基底具有由彼此交叉的第一方向和第二方向限定的平面；/n第一图案组，所述第一图案组包括第一图案部分和第二图案部分，所述第一图案部分和所述第二图案部分设置在所述基体基底上，布置为在所述第一方向上彼此隔开，并且在所述第一方向上具有不同的宽度；以及/n第二图案组，所述第二图案组包括第三图案部分和第四图案部分，所述第三图案部分和所述第四图案部分设置在所述基体基底上，布置为在所述第一方向上彼此隔开，并且在所述第一方向上具有不同的宽度，/n其中，所述第一图案部分至所述第四图案部分中的每个包括多个纳米图案，并且/n其中，所述第一图案部分、所...

【技术特征摘要】
20180831 KR 10-2018-01036011.一种用于纳米压印的印模，其中，所述印模包括：
基体基底，所述基体基底具有由彼此交叉的第一方向和第二方向限定的平面；
第一图案组，所述第一图案组包括第一图案部分和第二图案部分，所述第一图案部分和所述第二图案部分设置在所述基体基底上，布置为在所述第一方向上彼此隔开，并且在所述第一方向上具有不同的宽度；以及
第二图案组，所述第二图案组包括第三图案部分和第四图案部分，所述第三图案部分和所述第四图案部分设置在所述基体基底上，布置为在所述第一方向上彼此隔开，并且在所述第一方向上具有不同的宽度，
其中，所述第一图案部分至所述第四图案部分中的每个包括多个纳米图案，并且
其中，所述第一图案部分、所述第三图案部分、所述第二图案部分和所述第四图案部分设置为在所述第一方向上按顺序彼此相邻地布置。


2.根据权利要求1所述的印模，其中，所述第二图案部分具有小于所述第一图案部分的第一宽度的第二宽度。


3.根据权利要求2所述的印模，其中，所述第三图案部分具有所述第一图案部分的所述第一宽度，并且
其中，所述第四图案部分具有所述第二图案部分的所述第二宽度。


4.根据权利要求2所述的印模，其中，所述第三图案部分具有小于所述第一图案部分的所述第一宽度并大于所述第二图案部分的所述第二宽度的第三宽度，并且
所述第四图案部分具有小于所述第二图案部分的所述第二宽度的第四宽度。


5.根据权利要求2所述的印模，其中，所述第一图案组还包括第五图案部分，并且所述第二图案组还包...

【专利技术属性】
技术研发人员：朴昇元，吕伦钟，李尚勋，张大焕，郑寅哲，赵亨彬，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国;KR