【技术实现步骤摘要】
光阻处理系统
本专利技术是有关于一种光阻处理系统，尤指一种用以将光阻自一基板上掀离的光阻处理系统。
技术介绍
传统上，在许多工业制程中，如半导体制程，通常使用光阻(photoresist)来产生所需的结构图案，并且在后续步骤，通常会使用去光阻剂将图案化的光阻从基板(substrate)上剥除。然而，在去除过程中，这些未降解的剥除物会悬浮于去光阻剂中，并且四处漂移，除了无法轻易回收外，更容易导致剥除物再次回沾于基板上，进而让后续制程产生缺陷，因此需要一种光阻处理系统来解决此问题。
技术实现思路
本专利技术所揭露的实施例的目的之一在于提供一种光阻处理系统来解决上述问题。根据本揭露的一实施例，揭露一种光阻处理系统以处理一基板所承载的磁性光阻。该光阻处理系统包含一固持装置以及一磁性装置。该固持装置具有至少一结合区以配置该基板；该磁性装置置于距离该结合区的一预定位置上，且该磁性装置具有一磁吸方向，对应于该结合区，其中该磁性装置所产生的磁场对该磁性光阻具有一磁吸效应。透过使用本专利技术所提出的光阻处理...
【技术保护点】
1.一种光阻处理系统，用以处理一基板所承载的磁性光阻，包含：/n一固持装置，具有至少一结合区，用以配置该基板；以及/n一磁性装置，置于距离该结合区的一预定位置上，该磁性装置具有一磁吸方向，对应于该结合区，其中该磁性装置所产生的磁场对该磁性光阻具有一磁吸效应。/n
【技术特征摘要】
20180824 TW 1071295931.一种光阻处理系统，用以处理一基板所承载的磁性光阻，包含：
一固持装置，具有至少一结合区，用以配置该基板；以及
一磁性装置，置于距离该结合区的一预定位置上，该磁性装置具有一磁吸方向，对应于该结合区，其中该磁性装置所产生的磁场对该磁性光阻具有一磁吸效应。
2.如权利要求1所述的光阻处理系统，其中该固持装置具有二个该结合区，该磁性装置具有相应的二个该磁吸方向，二该磁吸方向分别沿相异的一第一方向与一第二方向对应于相应的二该结合区。
3.如权利要求1所述的光阻处理系统，其中该固持装置更具有一运送单元，通过该结合区，用以承载该基板以及带动该基板相对该磁性装置位移。
4.如权利要求1所述的光阻处理系统，其中该磁性装置包含多个磁性单元，该等磁性单元间隔排列。
5.如权利要求1所述的光阻处理系统，其中该...
【专利技术属性】
技术研发人员：黄立民，翁光祥，
申请(专利权)人：创王光电股份有限公司，
类型：发明
国别省市：中国台湾;71
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