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具有光学传感器干扰减轻结构的电子设备制造技术

技术编号:23459084 阅读:80 留言:0更新日期:2020-03-03 05:10
本发明专利技术题为“具有光学传感器干扰减轻结构的电子设备”。一种电子设备诸如头戴式设备可具有由头戴式支撑结构支撑的透明构件。光学传感器诸如飞行时间传感器和其他光学传感器可具有发光部件和光检测部件。杂散光阻挡结构可在透明构件中形成。杂散光阻挡结构可被配置为阻挡横向穿过聚合物层的内部的杂散光。这就避免了杂散光被光检测检测设备接收。杂散光阻挡结构可通过向聚合物层提供光重定向结构诸如突出部和/或凹陷部来形成。可将吸光涂层和/或图案化表面诸如纹理化表面结合到杂散光阻挡结构中。

Electronic equipment with optical sensor interference reduction structure

【技术实现步骤摘要】
具有光学传感器干扰减轻结构的电子设备本专利申请要求2019年4月9日提交的美国专利申请No.16/379,000以及2018年8月23日提交的美国临时专利申请No.62/721,964的优先权,这些专利申请据此全文以引用方式并入本文。
本专利技术整体涉及电子设备,并且更具体地涉及具有光学传感器的电子设备。
技术介绍
电子设备可包括光学传感器。光学传感器有时包括发光部件和光检测部件。将光学传感器结合到电子设备中可能遇到挑战。如果不小心,来自发光设备的杂散光可能为光检测设备产生噪声。这可能对光学传感器的准确性产生负面影响。
技术实现思路
一种电子设备诸如头戴式设备可具有由头戴式支撑结构支撑的透明构件。透明构件可覆盖头戴式设备的前部并且可与眼部窗口重叠,在该眼部窗口处用户的眼睛从电子设备中的显示器接收图像。传感器可用于测量头戴式设备的用户周围的环境。在一些构型中,所显示的图像可叠加在真实世界图像的顶部。透明构件也可结合到手持设备和其他装置中。用于头戴式设备或其他装置的透明构件可由聚合物或其他材料的层形成。光本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种能够在具有外部对象的环境中操作的电子设备,包括:/n头戴式支撑结构;/n构件,所述构件由所述头戴式支撑结构支撑,所述构件被配置为将包含所述外部对象的外部区域与内部区域分开;/n发光部件,所述发光部件被配置为发射穿过所述构件的光;/n光检测部件,所述光检测部件被配置为在所述发射的光已从所述外部对象反射之后检测所述发射的光;和/n杂散光阻挡结构,所述杂散光阻挡结构在所述构件上,所述杂散光阻挡结构阻挡由所述发光部件发射的杂散光,所述杂散光已耦合到所述构件的内部中并且通过全内反射在所述构件的所述内部内被引导朝向所述光检测部件。/n

【技术特征摘要】
20180823 US 62/721,964;20190409 US 16/379,0001.一种能够在具有外部对象的环境中操作的电子设备,包括:
头戴式支撑结构;
构件,所述构件由所述头戴式支撑结构支撑,所述构件被配置为将包含所述外部对象的外部区域与内部区域分开;
发光部件,所述发光部件被配置为发射穿过所述构件的光;
光检测部件,所述光检测部件被配置为在所述发射的光已从所述外部对象反射之后检测所述发射的光;和
杂散光阻挡结构,所述杂散光阻挡结构在所述构件上,所述杂散光阻挡结构阻挡由所述发光部件发射的杂散光,所述杂散光已耦合到所述构件的内部中并且通过全内反射在所述构件的所述内部内被引导朝向所述光检测部件。


2.根据权利要求1所述的电子设备,其中所述构件包括聚合物层,所述聚合物层具有面向所述外部区域的外表面和面向所述内部区域的相对的内表面,其中所述杂散光阻挡结构包括所述内表面上的突出部,其中所述发射的光为红外光,其中所述光检测部件被配置为检测所述红外光,其中所述发光部件和所述光检测部件被配置为形成飞行时间传感器,并且其中所述杂散光阻挡结构在所述发光部件和所述光检测部件之间。


3.根据权利要求1所述的电子设备,其中所述杂散光阻挡结构包括所述构件上的突出部。


4.根据权利要求3所述的电子设备,其中所述突出部在所述发光部件和所述光检测部件之间。


5.根据权利要求4所述的电子设备,其中所述构件包括聚合物。


6.根据权利要求4所述的电子设备,其中所述突出部包括纹理化区域。


7.根据权利要求1所述的电子设备,其中所述杂散光阻挡结构包括所述发光部件和所述光检测部件之间的多个相邻平行脊部。


8.根据权利要求1所述的电子设备,其中所述杂散光阻挡结构包括突出部和所述突出部上的被配置为吸收所述杂散光的聚合物涂层。


9.根据权利要求1所述的电子设备,其中所述杂散光阻挡结构包括所述构件的内表面上的面向所述内部的聚合物膜。


10.根据权利要求9所述的电子设备,其中所述聚合物膜被配置为吸收所述杂散光,并且其中所述聚合物膜在所述发光部件和所述光检测部件之间。


11.根据权利要求...

【专利技术属性】
技术研发人员:A·V·米拉贝拉J·R·威尔逊
申请(专利权)人:苹果公司
类型:发明
国别省市:美国;US

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