光照射装置制造方法及图纸

本发明专利技术的课题在于提供一种能够与被处理体的输送速度无关地以较高的稳定性进行光清洗的光照射装置。本发明专利技术的光照射装置是对沿着输送路径输送的带状的被处理体(W)的一个面照射紫外线的光照射装置，其特征在于，沿着输送路径中的被处理体(W)的一面侧的通过平面具有开口(12H)的灯罩(12)、设置于所述灯罩(12)内的、沿所述被处理体(W)的宽度方向延伸的紫外线灯(11)、和沿着所述输送路径中的被处理体(W)的另一面侧的通过平面具有开口(13H)的排气空间形成部件(13)，上述处理空间用气体为主要成分的惰性气体中混入有含有氧的气体和/或水分的气体，在所述灯罩(12)的开口(12H)上设置有与所述被处理体(W)的两侧缘部之间形成气体流通阻碍用狭路(G)的遮蔽体。

Light exposure device

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】光照射装置
本专利技术涉及对沿着输送路径输送的带状的被处理体的一个面照射紫外线的光照射装置。
技术介绍
作为半导体、液晶等的制造工序中的抗蚀剂的光灰化处理、纳米压印装置中的模板的图案面附着的抗蚀剂的去除、或液晶用的玻璃基板、硅晶片等的干式清洗处理、通过清洗卷绕于辊的片状的膜的贴合面而进行的表面改性处理，已知有照射紫外线的方法。作为用于照射这样的紫外线的光照射装置，例如在专利文献1中公开了如下装置，对被处理物照射真空紫外线，利用该真空紫外线及由该真空紫外线产生的臭氧、羟基自由基的清洗作用来去除被处理物的表面的污染物。图18是示意性地表示以往的光照射装置的一例的、被处理体的输送方向的截面图。该光照射装置在灯罩52的内部，在与光照射口53A平行的面上以相互平行地延伸的方式配设有多个准分子灯51，该灯罩52包括开口有光照射口53A的基座部件53和在该基座部件53的上侧(图18中的上侧)以覆盖光照射口53A的方式配置的整体成为长方体的箱状的外装罩54。在该光照射装置中，沿着输送路径由辊式输送机等输送单元58搬入被处理体W，在照射紫外线的灯罩52的光照射口53A的正下方的处理区域中，来自准分子灯51的紫外线照射到被处理体W的一面(图18中的上表面)。真空紫外线具有被大气中的氧吸收而大幅衰减的性质，因此，以往，对于这样的光照射装置，从外部向准分子灯51与被处理体W之间的紫外线放射空间供给氮气等惰性气体，从而去除该紫外线放射空间中的清洗所需的量以上的过剩的氧来抑制真空紫外线的衰减。惰性气体例如从设于灯罩52内的准分子灯51的背后侧(图18中上侧)的气体供给管56的气体供给口56H喷出，将紫外线放射空间置换为惰性气体气氛。此外，在图18中，59是在内部设有供冷却用的流体流通的配管59A的冷却用块。如上所述，在准分子灯51与被处理体W之间的紫外线放射空间中，从外部供给惰性气体而去除该紫外线放射空间中的清洗所需的量以上的过剩的氧。另一方面，已知：若在氧浓度极端低的气氛下照射真空紫外线，则臭氧的产生量变得极少，因此基于臭氧的被处理体的表面的活化作用不起作用，反而光清洗的效果降低。另外，在利用干燥的惰性气体将紫外线放射空间过量地置换，在湿度极低的气氛下照射真空紫外线的情况下，羟基自由基等活性种的产生量也极少，因此被处理体的表面的清洗效果降低。为了解决这样的问题，例如在专利文献1所记载的光照射装置中，向紫外线放射空间供给使水分混入于惰性气体而成的物质。具体而言，将通过由气瓶等构成的氮气供给源干燥的氮气供给至加湿装置，在该加湿装置中生成绝对湿度被调整为规定的范围的加湿氮气，该加湿氮气经由气体供给管56的气体供给口56H供给至紫外线放射空间。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2008-43925号公报
技术实现思路
专利技术所要解决的课题另一方面，在光照射装置中，被处理体基本上为带状，具体而言，将板状的部件、片状的膜等各种形状以及材质的部件作为光清洗的处理对象。另外，向被处理体的处理区域的输送速度、例如片状的膜流动的速度根据被处理体的形状、材质、表面状态等来决定，因此按照每个被处理体而不同。而且，随着被处理体被输送，引入到处理区域的周围(紫外线放射空间)的空气的量依赖于被处理体的输送速度，因此，紫外线放射空间内的氧浓度、湿度按被处理体而产生偏差，其结果是产生无法稳定地得到所期望的光清洗效果的问题。本专利技术是基于以上那样的情况而完成的，其目的在于提供一种能够与被处理体的输送速度无关地以高稳定性进行光清洗和表面的改性的光照射装置。用于解决课题的手段本专利技术的光照射装置是向沿着输送路径输送的带状的被处理体的一面照射紫外线的光照射装置，其特征在于，具备：灯罩，沿着输送路径中的被处理体的一面侧的通过平面具有开口；紫外线灯，设置于所述灯罩内，且沿所述被处理体的宽度方向延伸；气体供给单元，向所述灯罩内供给处理空间用气体；以及排气空间形成部件，沿着所述输送路径中的被处理体的另一面侧的通过平面具有开口，上述处理空间用气体是在主成分的惰性气体中混入有含有氧的气体和/或水分的气体，在所述灯罩的开口设置有遮蔽体，该遮蔽体在与所述被处理体的两侧缘部之间形成气体流通阻碍用狭路。在本专利技术的光照射装置中，优选的是，所述处理空间用气体中的氧浓度为1～5体积％。在本专利技术的光照射装置中，优选的是，在所述排气空间形成部件设置有气体排出口，来自该气体排出口的排气量大于从所述气体供给单元供给的所述处理空间用气体的供给量。在本专利技术的光照射装置中，优选的是，被供给了所述处理空间用气体的所述灯罩内的相对湿度为18～30％RH。在本专利技术的光照射装置中，能够构成为，具备向所述惰性气体混入水分的加湿装置。在本专利技术的光照射装置中，能够构成为，上述遮蔽体由板状的框部构成，该板状的框部与上述灯罩的开口的周缘连续地沿着上述被处理体的输送平面延伸，具有容许被处理体通过的宽度的开口。在本专利技术的光照射装置中，具有板状的框部，该板状的框部与所述灯罩的开口的周缘连续地沿着所述被处理体的输送平面延伸，且具有容许被处理体通过的宽度的开口，所述遮蔽体的基端部和前端部由呈曲柄状连续的遮蔽部件构成，所述遮蔽部件可以构成为，所述基端部与所述灯罩的所述框部的下表面侧粘接，所述前端部以不接触地覆盖被处理体的宽度方向的两侧缘部的另一面的状态突出配置。在本专利技术的光照射装置中，能够构成为，具有板状的框部，该板状的框部与所述灯罩的开口的周缘连续地沿着所述被处理体的输送平面延伸，且具有容许被处理体通过的宽度的开口，所述遮蔽体由板状的遮蔽部件构成，所述遮蔽部件以不接触地覆盖所述灯罩的所述框部中的沿被处理体的输送方向延伸的两侧缘部的下表面和被处理体的宽度方向的两侧缘部的另一面的状态配置。在本专利技术的光照射装置中构成为：所述遮蔽体由板状的框部构成，该框部与所述灯罩的开口的周缘连续地沿着比所述被处理体的输送平面靠被处理体的另一面侧的水平位置的平行平面延伸，该框部的沿被处理体的输送方向延伸的侧缘部以不接触地覆盖被处理体的宽度方向的两侧缘部的另一面的状态突出配置。在本专利技术的光照射装置中，可以构成为，具有板状的框部，该板状的框部与所述灯罩的开口的周缘连续地沿着所述被处理体的输送平面延伸，且具有容许被处理体通过的宽度的开口，所述遮蔽体由板状的遮蔽部件构成，所述遮蔽部件以不接触地覆盖所述灯罩的所述框部中的沿被处理体的输送方向延伸的两侧缘部的下表面和被处理体的另一面的整个面的方式配置。在本专利技术的光照射装置中，可以采用如下结构，所述遮蔽体被设置成，沿被处理体的输送方向延伸的两侧缘部能够沿被处理体的宽度方向位移。专利技术效果：在本专利技术的光照射装置中，向灯罩内供给主要成分的惰性气体中混入了含有氧的气体和/或水分的处理空间用气体，由此，不管根据被处理体的种类以本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光照射装置，对沿着输送路径输送的带状的被处理体的一个面照射紫外线，其特征在于，/n具备：/n灯罩，沿着输送路径中的被处理体的一面侧的通过平面具有开口；/n紫外线灯，设置于所述灯罩内，且沿所述被处理体的宽度方向延伸；/n气体供给单元，向所述灯罩内供给处理空间用气体；以及/n排气空间形成部件，沿着所述输送路径中的被处理体的另一面侧的通过平面具有开口，/n上述处理空间用气体是在主成分的惰性气体中混入有含有氧的气体和/或水分的气体，/n在所述灯罩的开口设置有遮蔽体，该遮蔽体在与所述被处理体的两侧缘部之间形成气体流通阻碍用狭路。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20170719 JP 2017-1399011.一种光照射装置，对沿着输送路径输送的带状的被处理体的一个面照射紫外线，其特征在于，
具备：
灯罩，沿着输送路径中的被处理体的一面侧的通过平面具有开口；
紫外线灯，设置于所述灯罩内，且沿所述被处理体的宽度方向延伸；
气体供给单元，向所述灯罩内供给处理空间用气体；以及
排气空间形成部件，沿着所述输送路径中的被处理体的另一面侧的通过平面具有开口，
上述处理空间用气体是在主成分的惰性气体中混入有含有氧的气体和/或水分的气体，
在所述灯罩的开口设置有遮蔽体，该遮蔽体在与所述被处理体的两侧缘部之间形成气体流通阻碍用狭路。


2.根据权利要求1所述的光照射装置，其特征在于，
所述处理空间用气体中的氧浓度为1～5体积％。


3.根据权利要求1或2所述的光照射装置，其特征在于，
在所述排气空间形成部件设置有气体排出口，来自该气体排出口的排气量大于从所述气体供给单元供给的所述处理空间用气体的供给量。


4.根据权利要求1～3中任一项所述的光照射装置，其特征在于，
供给有所述处理空间用气体的所述灯罩内的相对湿度为18～30％RH。


5.根据权利要求1～4中任一项所述的光照射装置，其特征在于，
具备向所述惰性气体混入水分的加湿装置。


6.根据权利要求1～5中任一项所述的光照射装置，其特征在于，
所述遮蔽体由板状的框部构成，该板状的框部与所述灯罩的开口的周缘连续地沿着所述被处理体的输送平面延伸，且具有容许被处理体通过的宽度的开口。


7.根据权利要求1～5中任一项所述的光照射装置，其特征在于，
具有板状的框部，该板状的框部...

【专利技术属性】
技术研发人员：山森贤治，尾又清登，
申请(专利权)人：优志旺电机株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP