一种掩模版清洗装置和掩模版清洗方法制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种掩模版清洗装置，它包括：上料组件；清洗组件，所述清洗组件包括至少一个清洗槽和用于将所述掩模版放入或取出所述清洗槽的机械手，所述清洗槽设置有外槽体和套设在所述外槽体中的内槽体，所述内槽体上设置有溢流口；下料组件。还提供了一种掩模版清洗方法，它包括：获取所述掩模版；将所述掩模版浸入处理液中；通过溢流方式去除处理液上层的杂质；取出所述掩模版。能够提升处理液的清洁度从而更好地清洗掩模版。

A mask cleaning device and a mask cleaning method

【技术实现步骤摘要】
一种掩模版清洗装置和掩模版清洗方法
本专利技术属于显示面板工艺设备
，涉及一种掩模版清洗装置，还涉及一种掩模版清洗方法。
技术介绍
由于目前AMOLED（Active-matrixorganiclight-emittingdiode，有源矩阵有机发光二极体或主动矩阵有机发光二极体）面板量产的主流方法是真空蒸镀，而真空蒸镀必须用到掩模版蒸镀技术，在干式制程中运用遮罩将RGB三种光色分子分别附着于狭小的区域中。由于蒸镀材料会在掩模版上沉积，在产线上生产时，掩模版在进行数次蒸镀后都需要进行清洗，防止掩模版因为材料附着发生精度变化。同一个工艺段往往需要多块掩模版作为备用且相互轮流进行蒸镀以保证生产的效率。因此，如何提供一种良好的清洗装置，是亟待解决的技术问题。
技术实现思路
本专利技术的目的是要提供一种掩模版清洗装置，能够很好地清洗掩模版。为达到上述目的，本专利技术采用的技术方案是：本专利技术提供了一种掩模版清洗装置，它包括：上料组件；清洗组件，所述清洗组件包括至少一个清洗槽和用于将所述掩模版放入或取出所述清洗槽的机械手，所述清洗槽设置有外槽体和套设在所述外槽体中的内槽体，所述内槽体上设置有溢流口；下料组件。可选地，所述内槽体中设置有鼓泡机构。可选地，所述内槽体中设置有超声波发声机构。可选地，所述清洗组件还包括循环机构，所述循环机构包括循环管和设置在所述循环管上的泵与过滤单元，所述循环管的入口延伸进所述外槽体内，所述循环管的出口延伸进所述内槽体内。可选地，所述外槽体和/或所述内槽体中设置有磁性件。可选地，所述清洗槽中盛装的处理液为NMP、KOH、CH3COOH、纯水、IPA中的一种或多于一种。可选地，所述清洗组件还包括用于清洗所述机械手的机械手清洁机构。可选地，所述上料组件与所述下料组件相对应设置，所述上料组件和/或所述下料组件中设置有正压保护机构。本专利技术的另一目的是要提供一种掩模版清洗方法。为达到上述目的，本专利技术采用的技术方案是：本专利技术提供了一种掩模版清洗方法，它包括：获取所述掩模版；将所述掩模版浸泡入处理液中；通过溢流方式去除处理液上层的杂质；取出所述掩模版。可选地，循环所述处理液并在循环过程中过滤所述处理液。由于上述技术方案运用，本专利技术与现有技术相比具有下列优点：本专利技术的掩模版清洗装置以及掩模版清洗方法，由于清洗槽包括外槽体和内槽体，且内槽体上设置有溢流口，因此内槽体中处理液的上层杂质可以通过溢流的方式流入外槽体中被去除，从而使得内槽体中的处理液具有较好的洁净度，从而使掩模版很好地被清洗。附图说明后文将参照附图以示例性而非限制性的方式详细描述本专利技术的一些具体实施例。附图中相同的附图标记标示了相同或类似的部件或部分。本领域技术人员应该理解，这些附图未必是按比例绘制的。附图中：图1是本专利技术优选实施例的掩模版清洗装置中清洗槽的结构示意图；图2是本专利技术优选实施例的掩模版清洗装置的结构示意图；其中，附图标记说明如下：1、上料组件；2、清洗组件；3、下料组件；4、清洗槽；5、外槽体；6、内槽体；7、溢流口；8、鼓泡机构；9、超声波发声机构；10、循环机构；11、循环管；12、泵；13、过滤单元；14、入口；15、出口；16、磁性件；17、正压保护机构；18、外壳；20、掩模版。具体实施方式下面将结合附图对本专利技术的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。在本专利技术的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本专利技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本专利技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。此外，下面所描述的本专利技术不同实施方式中所涉及的技术特征只要彼此之间未构成冲突就可以相互结合。如图2所示，掩模版清洗装置包括上料组件1、清洗组件2以及下料组件3。上料组件1与下料组件3相对应设置，分别用于掩模版上料和下料。清洗组件2包括多个清洗槽4。机械手（图未示）从上料组件1取料掩模版，将掩模版依次浸入清洗槽4中进行清洗。比如放入第一个清洗槽—从第一个清洗槽中取出—放入第二个清洗槽—从第二个清洗槽中取出……。最后使用风刀干燥，风刀设置在最后序的清洗槽4中。最终通过下料组件3下料。将掩模版放入和取出清洗槽4可以使用同一个机械手，还可以使用不同的机械手，对此不作限定。上料组件1和下料组件3上均设置有正压保护机构17，正压保护机构17包括风机过滤机组，将风机过滤机组从顶部将空气吸入并过滤，过滤后的洁净空气在整个出风面均匀送出，使上料组件1和下料组件3内部处于正压状态，防止环境中的颗粒进入并污染上料组件1或下料组件3内部。其它实施方式中，还可以只在上料组件1或下料组件3中设置正压保护机构17。本例中，清洗组件2的清洗槽4上也设置有正压保护机构17，通过风机过滤机组使清洗槽4内保持正压，防止环境中的颗粒进入清洗槽4内部。如图1所示清洗槽4内部结构，清洗槽4包括外壳18和放置在外壳18中的外槽体5与内槽体6（必要的支撑机构未显示）。外壳18中还容纳有管路、工具等其它部件。内槽体6套设在外槽体5中，内槽体6上边缘开口形成溢流口7，当内槽体6中的处理液装满时，处理液通过溢流口7流进外槽体5中，从而将内槽体6中处理液上表面的脏污带出，保证内槽体6内部处理液一定的洁净度。其它实施方式中，溢流口7还可以为开设在内槽体6上的一个或多个开口。内槽体6中设置有鼓泡机构8，使槽内的水活动起来，加速剥离机械手或掩模版表面附着物，一般是漂洗槽体使用。内槽体6中设置有超声波发声机构9，利用超声波在液体中的空穴效应，使之产生大量非稳态的微小气泡，在声场的作用下，气泡以每秒数万次压缩到扩张的物理过程。超声波清洗正是应用液体中气泡破裂所产生的冲击波来达到清洗和冲刷工件内外表面的作用。使得掩模版清洗更彻底。外槽体5或内槽体6中还放置有磁性件16，本例磁性件16为磁棒，用于吸附清洗后细小的金属颗粒物。磁性件16的形状不受限制。清洗组件2还包括循环机构10（主体设置于清洗槽4内部或外部），循环机构10包括循环管11、设置在循环管11上的泵12以及过滤单元13。循环管11的入口1本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种掩模版清洗装置，其特征在于，它包括：/n上料组件（1）；/n清洗组件（2），所述清洗组件（2）包括至少一个清洗槽（4）和用于将所述掩模版放入或取出所述清洗槽（4）的机械手，所述清洗槽（4）设置有外槽体（5）和套设在所述外槽体（5）中的内槽体（6），所述内槽体（6）上设置有溢流口（7）；/n下料组件（3）。/n

【技术特征摘要】
1.一种掩模版清洗装置，其特征在于，它包括：
上料组件（1）；
清洗组件（2），所述清洗组件（2）包括至少一个清洗槽（4）和用于将所述掩模版放入或取出所述清洗槽（4）的机械手，所述清洗槽（4）设置有外槽体（5）和套设在所述外槽体（5）中的内槽体（6），所述内槽体（6）上设置有溢流口（7）；
下料组件（3）。


2.根据权利要求1所述的掩模版清洗装置，其特征在于：所述内槽体（6）中设置有鼓泡机构（8）。


3.根据权利要求1所述的掩模版清洗装置，其特征在于：所述内槽体（6）中设置有超声波发声机构（9）。


4.根据权利要求1所述的掩模版清洗装置，其特征在于：所述清洗组件（2）还包括循环机构（10），所述循环机构（10）包括循环管（11）和设置在所述循环管（11）上的泵（12）与过滤单元（13），所述循环管（11）的入口（14）延伸进所述外槽体（5）内，所述循环管（11）的出口（15）延伸进所述内槽体（6）内。


5.根据权利要求...

【专利技术属性】
技术研发人员：蒋新，沈宗豪，施利君，
申请(专利权)人：苏州晶洲装备科技有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32