一种显示面板氢氟酸清洗装置和氢氟酸清洗方法制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种显示面板氢氟酸清洗装置，它包括清洗单元，所述清洗单元包括：输送组件，所述显示面板设置于所述输送组件上，所述输送组件的传输速度为可调节设置；喷淋组件，所述喷淋组件用于向所述显示面板上表面喷淋处理液，所述处理液包括氢氟酸。还提供一种显示面板氢氟酸清洗方法，它包括：使显示面板以高速进入喷淋区域并以低速在所述喷淋区域中移动；向所述显示面板上表面喷淋处理液，所述处理液包括氢氟酸。能够提高氢氟酸清洗质量。

Hydrofluoric acid cleaning device and method for display panel

【技术实现步骤摘要】
一种显示面板氢氟酸清洗装置和氢氟酸清洗方法
本专利技术属于显示面板工艺设备
，涉及一种显示面板氢氟酸清洗装置，还涉及一种显示面板氢氟酸清洗方法。
技术介绍
氢氟酸清洗作为LTPS（LowTemperaturePoly-silicon，低温多晶硅技术）制程中关键环节，其清洗效果直接影响到TFT器件结构的最终性能、效率与稳定性，关系到最终产品的良品率。氢氟酸清洗不仅要去除有源层表面的杂质而且要使表面钝化，从而减少界面杂质的吸附能力，对表面的洁净度要求非常严格，理论上不允许存在任何颗粒、金属离子、有机粘附、水汽以及氧化层，对表面要求具备原子级的平坦度，保障后制程的工艺可靠性。
技术实现思路
本专利技术的目的是要提供一种显示面板氢氟酸清洗装置，能够提高氢氟酸清洗质量。为达到上述目的，本专利技术采用的技术方案是：本专利技术提供了一种显示面板氢氟酸清洗装置，它包括清洗单元，所述清洗单元包括：输送组件，所述显示面板设置于所述输送组件上，所述输送组件的传输速度为可调节设置；喷淋组件，所述喷淋组件用于向所述显示面板上表面喷淋处理液，所述处理液包括氢氟酸。可选地，所述喷淋组件包括喷嘴、储液槽以及泵机构，所述喷嘴为圆形喷嘴，所述储液槽用于存放处理液，所述泵机构连接在所述喷嘴和所述储液槽之间。可选地，所述喷淋组件包括多个喷嘴，多个所述喷嘴根据喷淋范围被划分为多个区域，单个所述区域的所述喷嘴的喷洒参数被单独控制。可选地，所述输送组件的传输方向为正方向、反方向可切换设置。可选地，所述清洗单元包括臭氧水工艺腔室和氢氟酸工艺腔室，所述臭氧水工艺腔室和所述氢氟酸工艺腔室所喷淋的处理液分别为臭氧水和氢氟酸，所述臭氧水工艺腔室和所述氢氟酸工艺腔室之间还设置有水洗工艺腔室。可选地，它还包括设置在所述清洗单元前序的传送单元，所述传送单元设置在所述清洗单元的上方，所述传送单元与所述清洗单元之间设置有升降单元。进一步地，所述传送单元中设置有磁力轮和离子棒。可选地，它还包括设置在所述清洗单元后序的水洗单元，所述水洗单元包括超高压微射流清洗机构和/或二流体洗净机构。可选地，所述喷嘴为可摆动设置。本专利技术还提供一种显示面板氢氟酸清洗方法，它包括：使显示面板以高速进入喷淋区域并以低速在所述喷淋区域中移动；向所述显示面板上表面喷淋处理液，所述处理液包括氢氟酸。可选地，它还包括：使显示面板在喷淋区域下方以正方向、反方向相切换地移动。由于上述技术方案运用，本专利技术与现有技术相比具有下列优点：本专利技术的显示面板氢氟酸清洗装置和氢氟酸清洗方法，由于输送组件的传输速度为可调节设置，因此通过调节传输速度可以使显示面板以高速进入喷淋区域，并以低速在喷淋区域内移动，从而使得显示面板在传输方向上的前后部分达到相同程度的清洗。提升清洗质量。附图说明后文将参照附图以示例性而非限制性的方式详细描述本专利技术的一些具体实施例。附图中相同的附图标记标示了相同或类似的部件或部分。本领域技术人员应该理解，这些附图未必是按比例绘制的。附图中：图1是根据本专利技术优选实施例的显示面板氢氟酸清洗装置的结构示意图；图2是图1中清洗单元的结构示意图；其中，附图标记说明如下：1、入料单元；2、传送单元；3、升降单元；4、隔离单元；5、清洗单元；6、水洗单元；7、干燥单元；8、出料单元；9、输送组件；10、喷淋组件；11、喷嘴；12、臭氧水工艺腔室；13、氢氟酸工艺腔室；14、水洗工艺腔室；15、超高压微射流清洗机构；16、二流体洗净机构；17、气刀；18、液刀；19、下喷淋；20、显示面板。具体实施方式下面将结合附图对本专利技术的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。在本专利技术的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本专利技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本专利技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。此外，下面所描述的本专利技术不同实施方式中所涉及的技术特征只要彼此之间未构成冲突就可以相互结合。如图1所示，显示面板氢氟酸清洗装置包括依次设置的入料单元1、传送单元2、升降单元3、隔离单元4、清洗单元5、水洗单元6、干燥单元7以及出料单元8。每个单元中均设置有输送组件9，相邻输送组件9通过对接方式而形成连续的传输线。输送组件9为在传输方向上并列设置的多个辊轮，显示面板放置在辊轮上进行输送。本例显示面板为玻璃基材，下称玻璃即为显示面板。前制程的显示面板从入料单元1上料，经过传送单元2和升降单元3的传送后进入隔离单元4，随后依次经过清洗单元5、水洗单元6、干燥单元7进行清洗、水洗、吹干，最后从出料单元8出料。传送单元2中设置有磁力轮，通过磁力轮传送显示面板，有效地避免了斜齿轮传送方式易产生颗粒、污染玻璃表面的缺点。传送单元2中设置有离子棒，利用离子棒产生的正负电荷气团，降低显示面板表面静电。若称清洗单元5、水洗单元6、干燥单元7为工艺区，则传送单元2设置在工艺区上方。通过升降单元3将显示面板从上层的传送单元2输送到下层的工艺区。这样的设置有效地利用了上层空间，从而使得装置更为紧凑。隔离单元4设置在清洗单元5前序，主要作用是用于隔离药气，防止后续工艺单元内药气向外扩散，比如清洗单元5药气向升降单元3扩散。隔离单元4为可选择的配置，其它实施方式中，还可以不设置隔离单元4。如图2，清洗单元5包括四个工艺腔室（参见图1），依次为臭氧水工艺腔室12、氢氟酸工艺腔室13、水洗工艺腔室14、臭氧水工艺腔室12（区别于前一个）。每个工艺腔室中均设置有输送组件9以及喷淋组件10。输送组件9输送显示面板20（玻璃），喷淋组件10向玻璃表面喷淋处理液（臭氧水、氢氟酸或纯水）。喷淋组件10包括喷嘴11、储液槽（图未示）以及泵机构（图未示），储液槽用于存放处理液。泵机构连接在喷嘴11和储液槽之间，将储液槽中的处理液输送到喷嘴11中。喷嘴11向玻璃表面喷淋处理液。在清洗单元5入口处，也是在每个工艺腔室的入口处，设置有气刀17，用于阻止药气向腔室外扩散。每个工艺腔室的入口处还设置有液刀18，液刀18设置在气刀17后序，液刀18被供给处理液，通过液刀18向玻璃表面高速喷淋处理液，快速使玻璃表面湿润。<本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种显示面板氢氟酸清洗装置，它包括清洗单元（5），其特征在于，所述清洗单元（5）包括：/n输送组件（9），所述显示面板设置于所述输送组件（9）上，所述输送组件（9）的传输速度为可调节设置；/n喷淋组件（10），所述喷淋组件（10）用于向所述显示面板上表面喷淋处理液，所述处理液包括氢氟酸。/n

【技术特征摘要】
1.一种显示面板氢氟酸清洗装置，它包括清洗单元（5），其特征在于，所述清洗单元（5）包括：
输送组件（9），所述显示面板设置于所述输送组件（9）上，所述输送组件（9）的传输速度为可调节设置；
喷淋组件（10），所述喷淋组件（10）用于向所述显示面板上表面喷淋处理液，所述处理液包括氢氟酸。


2.根据权利要求1所述的显示面板氢氟酸清洗装置，其特征在于：所述喷淋组件（10）包括喷嘴（11）、储液槽以及泵机构，所述喷嘴（11）为圆形喷嘴，所述储液槽用于存放处理液，所述泵机构连接在所述喷嘴（11）和所述储液槽之间。


3.根据权利要求1所述的显示面板氢氟酸清洗装置，其特征在于：所述喷淋组件（10）包括多个喷嘴（11），多个所述喷嘴（11）根据喷淋范围被划分为多个区域，单个所述区域的所述喷嘴（11）的喷洒参数被单独控制。


4.根据权利要求1所述的显示面板氢氟酸清洗装置，其特征在于：所述输送组件（9）的传输方向为正方向、反方向可切换设置。


5.根据权利要求1所述的显示面板氢氟酸清洗装置，其特征在于：所述清洗单元（5）包括臭氧水工艺腔室（12）和氢氟酸工艺腔室（13），所述臭氧水工艺腔室（12）和所述氢...

【专利技术属性】
技术研发人员：蒋新，宋金林，施利君，
申请(专利权)人：苏州晶洲装备科技有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32