一种硅片清洗设备制造技术

本发明专利技术提供了一种硅片清洗设备，包括：框架组件；工艺机构，设于框架组件中，数量为至少两个，适于对硅片进行工艺处理；传输组件，与框架组件连接，并适于沿框架组件移动并传输硅片，以使得硅片由任一工艺机构移动至任另一工艺机构；隔离组件，设于框架组件中，通过在开启状态和关闭状态之间切换，以使得任一工艺机构的内部空间与外部空间相互连通或相互分隔；其中，工艺机构包括至少一个的清洗组件和至少一个的烘干组件，清洗组件适于对硅片进行清洗，烘干组件适于对硅片进行烘干，清洗组件中设有匀流装置。本发明专利技术能够提高硅片的清洗效率和清洗质量。

A silicon wafer cleaning equipment

【技术实现步骤摘要】
一种硅片清洗设备
本专利技术涉及太阳能电池制造的
，具体而言，涉及一种硅片清洗设备。
技术介绍
近年来，太阳能作为清洁环保能源，在诸多领域得到了广泛地应用。硅片是太阳能光伏产业中最为普遍的元件，其在生产流程中需要进行多道工序处理，从而保证硅片的光电转换效果。在众多处理工序中，硅片表面的制绒清洗工序是将硅片浸入到酸液池或碱液池中发生一系列化学反应的过程。通常情况下，对硅片进行碱液处理是为了得到金字塔状绒面，对硅片进行酸液处理是为了得到虫孔状绒面。进行高质量的绒面处理可以提高硅片的陷光作用，使得入射光在硅片表面多次反射和折射，增加了光吸收，降低了反射率，有助于提高电池的性能。因此，制绒清洗工序中所采用的硅片清洗设备对硅片的生产制造有着至关重要的影响。
技术实现思路
本专利技术旨在解决上述技术问题的至少之一。为此，本专利技术的目的在于提供一种清洗设备。包括：框架组件；工艺机构，设于框架组件中，数量为至少两个，适于对硅片进行工艺处理；传输组件，与框架组件连接，并适于沿框架组件移动并传输硅片，以使得硅片由任一工艺机构移动本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种硅片清洗设备，其特征在于，包括：/n框架组件；/n工艺机构，设于所述框架组件中，数量为至少两个，适于对硅片进行工艺处理；/n传输组件，与所述框架组件连接，并适于沿所述框架组件移动并传输所述硅片，以使得所述硅片由任一所述工艺机构移动至任另一所述工艺机构；/n隔离组件，设于所述框架组件中，通过在开启状态和关闭状态之间切换，以使得任一所述工艺机构的内部空间与外部空间相互连通或相互分隔；/n其中，所述工艺机构包括至少一个的清洗组件和至少一个的烘干组件，所述清洗组件适于对所述硅片进行清洗，所述烘干组件适于对所述硅片进行烘干，所述清洗组件中设有一个或多个的匀流装置。/n

【技术特征摘要】
1.一种硅片清洗设备，其特征在于，包括：
框架组件；
工艺机构，设于所述框架组件中，数量为至少两个，适于对硅片进行工艺处理；
传输组件，与所述框架组件连接，并适于沿所述框架组件移动并传输所述硅片，以使得所述硅片由任一所述工艺机构移动至任另一所述工艺机构；
隔离组件，设于所述框架组件中，通过在开启状态和关闭状态之间切换，以使得任一所述工艺机构的内部空间与外部空间相互连通或相互分隔；
其中，所述工艺机构包括至少一个的清洗组件和至少一个的烘干组件，所述清洗组件适于对所述硅片进行清洗，所述烘干组件适于对所述硅片进行烘干，所述清洗组件中设有一个或多个的匀流装置。


2.根据权利要求1所述的硅片清洗设备，其特征在于，所述清洗组件包括：
主清洗槽，设有连通部；
副清洗槽，环绕所述主清洗槽设置，并通过所述连通部与所述主清洗槽连通；
其中，所述匀流装置设于所述主清洗槽中。


3.根据权利要求2所述的硅片清洗设备，其特征在于，所述清洗组件还包括：
循环管，部分或全部地设于所述主清洗槽中，并分别与所述主清洗槽和所述副清洗槽连通；
循环泵，设于所述循环管中，驱动液体通过所述循环管在所述主清洗槽和所述副清洗槽之间循环；
其中，所述匀流装置设于所述循环管的上方。


4.根据权利要求2所述的硅片清洗设备，其特征在于，所述主清洗槽中设有鼓泡装置，所述鼓泡装置包括：
一个或多个的鼓泡管，设于所述清洗组件中，具有进气口和鼓泡通孔，所述鼓泡通孔贯穿所述鼓泡管的管壁；
鼓泡气源，与所述进气口连通，驱动气体由...

【专利技术属性】
技术研发人员：左国军，成旭，李雄朋，任金枝，
申请(专利权)人：常州捷佳创精密机械有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32