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本发明提供了一种硅片清洗设备，包括：框架组件；工艺机构，设于框架组件中，数量为至少两个，适于对硅片进行工艺处理；传输组件，与框架组件连接，并适于沿框架组件移动并传输硅片，以使得硅片由任一工艺机构移动至任另一工艺机构；隔离组件，设于框架组件中...
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